本發(fā)明涉及一種光學元件的清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種光學元件揮發(fā)溶劑的超聲輔助自動清洗方法。

背景技術(shù)：

大尺寸光學玻璃及晶體類元件廣泛地應用在各類光學和非光學設(shè)備上，各種新型和尖端設(shè)備上的光學元件質(zhì)量要求極高，例如：納米級的表面粗糙度和平面度，極小的波前畸變和極高的潔凈度，特殊的光學玻璃類元件如KDP晶體、氟化鈣晶體等具有硬度低、易碎、易潮解的特性，對超精密加工和后續(xù)的清洗清潔工藝及設(shè)備都提出了很大的挑戰(zhàn)。該類特殊的大尺寸高精度光學類元件的加工通常采用先進的磁流變拋光、化學機械拋光、無磨料水溶解精密拋光及離子束拋光等精加工技術(shù)與方法。由于該類光學元件軟脆易潮解等特性，在加工后的光學晶體元件表面往往會殘留有金屬離子、拋光液、有機雜質(zhì)等污染物，對諸如鍍膜等后續(xù)的工程應用造成困難，因此，需要對該類光學元件進行清洗。而象手工擦拭和水基清洗液等傳統(tǒng)清洗方法對此類軟脆易潮解光學元件則明顯不適用，特別是對于尺寸較大且經(jīng)過光學超精密加工后具有高質(zhì)量的光學功能表面。同時傳統(tǒng)的清洗方法勞動強度大，穩(wěn)定性差，對勞動者素質(zhì)要求較高，甚至一些有害的清洗劑會對勞動者本人造成傷害，因此可操作性差，具有一定的局限性，不能適應現(xiàn)代生產(chǎn)中規(guī)?；瘜Ω邼崈舳却蟪叽绻鈱W晶體類元件的需求。

在以往關(guān)于軟脆易潮解光學晶體類元件的清洗方法的專利發(fā)明中，有以下不同類型的例子：

中國專利CN102990480A公開了“基于離子束拋光的光學元件表面清洗方法”，該方法基于低能離子濺射原理的離子束拋光方法，并對單點金剛石車削或者磁流變拋光后的光學元件進行均勻掃略的清洗方法，該方法是利用離子束的能量將原子從工件表面剝離從而改善表面粗糙度，或者將嵌入的鐵粉顆粒剝離而降低光學工件表面的粗糙度，該方法本質(zhì)上是一種光學領(lǐng)域的超精密加工方法，相當于對已加工的超精密光學表面進行了二次的超精密光學加工。

中國專利CN106140671A公開了一種KDP晶體磁流變拋光后的清洗方法，主要是采用對拋光后的KDP晶體進行射流沖洗和復合超聲頻率組合溶劑清洗相結(jié)合的方法，該方法可高效去除KDP晶體磁流變拋光產(chǎn)生的油膜和顆粒等各種污染，能獲得較低的粗糙度，但由于顆粒物的存在，使用超聲振動清洗對軟脆存在一定風險。

中國專利CN104588353A公開了一種大尺寸KDP晶體表面磁-射流清洗裝置及清洗工藝，它將與拋光液相溶的低分子化學溶劑加壓后，注入磁性清洗裝置，利用清洗劑射流的沖蝕加速清洗劑對拋光液的溶解同時去除KDP晶體表面被清洗劑溶解的拋光液和游離的鐵粉等殘留物，而磁性清洗裝置的磁力吸引幫助拔出、去除附著在KDP晶體表面的鐵粉，該發(fā)明為大尺寸KDP晶體磁流變拋光表面提供了一種可靠、高效的殘留物去除技術(shù)，但對清洗設(shè)備的精度和成本要求較高，不利于推廣應用。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為解決現(xiàn)有技術(shù)存在的上述問題，本發(fā)明要設(shè)計一種既能可靠、高效去除殘留物，又不改變已加工超精密光學元件表面精度，同時對清洗設(shè)備要求不高且價格低廉的光學元件揮發(fā)溶劑循環(huán)回收利用的自動清洗方法。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種光學元件揮發(fā)溶劑循環(huán)回收利用的自動清洗方法，所述的光學元件為無磨料水溶解超精密拋光后的KDP光學晶體元件，以下簡稱工件，具體方法包括以下步驟：

A、上料

旋動鎖緊把手B，打開進料口門，操作人員將盛有待清洗工件的清洗籃放入進料槽，然后關(guān)閉進料口門，旋動鎖緊把手B將進料口門關(guān)閉，打開工作開關(guān)啟動清洗過程；處于初始位置的提拉氣缸伸出氣缸缸桿至進料槽，連接在其底部的吊籃架上的掛鉤鉤住清洗籃，然后提拉氣缸缸桿縮回至上極限位置，同時帶動整個清洗籃及工件向上移動，并給控制系統(tǒng)發(fā)出信號；控制系統(tǒng)檢測到信號后使隔門氣缸A帶動隔門A向沿隔門滑軌A下運動將隔門打開，同時無桿氣缸水平移動，帶動提拉氣缸進入超聲清洗工位。

B、超聲清洗

清洗開關(guān)開啟之前，超聲清洗槽中已經(jīng)注滿了專用的清洗液；當控制系統(tǒng)檢測到無桿氣缸運動至超聲清洗槽上方時，隔門A在隔門氣缸A的帶動下關(guān)閉，超聲清洗槽被單獨隔離開來，同時超聲清洗槽中的超聲波振子開始振動；提拉氣缸缸桿緩慢將工件放入超聲清洗槽的清洗液中，工件懸浮在超聲清洗槽中進行超聲波清洗，清洗時間可自行設(shè)定；清洗完成后，超聲振動停止，提拉氣缸將工件向上提至上極限位置，隔門氣缸B向下運動將超聲清洗槽和噴淋清洗槽之間的隔門B沿隔門滑軌B向下打開，然后無桿氣缸帶動提拉氣缸和工件移向噴淋清洗工位。

C、噴淋清洗

當控制系統(tǒng)檢測到無桿氣缸帶動工件運動至噴淋清洗槽上方時，隔門B在隔門氣缸B的帶動下關(guān)閉，噴淋清洗槽被單獨隔離開來；提拉氣缸將工件緩慢放入噴淋清洗槽中，此時位于噴淋清洗槽前后壁上的噴淋清洗頭噴射出專用清洗液對工件進行噴淋清洗，噴淋壓力和噴淋時間均設(shè)置可調(diào)，工件在提拉氣缸的帶動進行上下往復運動實現(xiàn)均勻清洗；清洗完成后，噴淋清洗頭停止噴射清洗液，提拉氣缸帶動工件運動至上極限位置，同時位于噴淋清洗槽和烘干出料槽之間的隔門C打開，無桿氣缸帶動提拉氣缸和工件移向烘干出料工位。

D、烘干出料

當控制系統(tǒng)檢測到無桿氣缸帶動工件運動至烘干出料槽上方時，隔門C關(guān)閉，烘干出料槽被單獨隔離開來；提拉氣缸將工件緩慢放入烘干出料槽中，此時送風管A和送風管B吹出純凈干燥的氮氣將殘留在工件表面的易揮發(fā)的清洗液帶走，風淋的溫度、時間和氣壓大小均設(shè)置可調(diào)；待工件被烘干后，蜂鳴器發(fā)出警報提醒操作人員進行出料；操作人員此時旋動出料口門上的鎖緊把手A打開出料口門取出盛有被清洗工件的清洗籃，然后關(guān)閉出料口門，鎖緊門把手A，并給控制系統(tǒng)發(fā)出信號進行復位動作；控制系統(tǒng)接收到復位動作后，提拉氣缸開始向上運動至上極限位置，同時隔門A、隔門B、隔門C在各自隔門氣缸的帶動下打開，從而使主體內(nèi)所有腔室連通，此時無桿氣缸帶動提拉氣缸和清洗吊籃架回復至起始位置，然后隔門A、隔門B、隔門C在各自隔門氣缸向的帶動下關(guān)閉，繼續(xù)保持各個工位隔離密閉；如此完成一個完整的清洗過程。

E、循環(huán)回收

清洗準備階段，儲液箱中的清洗液通過液泵經(jīng)過濾器將干凈的專用清洗液注入超聲清洗槽；噴淋清洗時，儲液箱中的清洗液通過液泵經(jīng)過濾器將干凈的專用清洗液通入噴淋清洗槽前后壁上的噴淋清洗頭，噴頭噴出具有一定壓力的清洗液噴淋被清洗工件；烘干時，氣源將干凈的氮氣通入位于烘干出料槽內(nèi)壁的吹風管A和吹風管B，加速被清洗工件表面清洗液的揮發(fā)，實現(xiàn)烘干過程；清洗過程中，位于超聲清洗槽、噴淋清洗槽和烘干出料槽上方的排氣管道將揮發(fā)出來的廢氣導流至冷凝室，冷凝室內(nèi)布置有冷凝銅管，壓縮機提供的冷媒經(jīng)過冷凝管形成低溫，廢氣接觸冷凝管被液化經(jīng)冷凝室底部的排液管流至廢液箱；清洗產(chǎn)生的廢液分別經(jīng)超聲清洗槽的排液口A和噴淋清洗槽底部的排液口B流入廢液箱，以便回收利用。

進一步地，步驟B所述的超聲清洗的頻率為80～120kHz，清洗時間為0～10min；步驟C所述的噴淋壓力為0.04～0.4MPa，噴淋時間為0～10min；步驟D所述的風淋的溫度為20～50℃，風淋時間為0～10min，風淋氣壓大小為0.1～0.6MPa。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果：

1、本發(fā)明能夠有效解決對無磨料水溶解超精密拋光后的諸如KDP類的光學晶體元件的清洗問題。

2、由于本發(fā)明清洗過程中沒有固體顆粒物質(zhì)，使用高頻超聲的沖刷作用和風淋等非接觸式的清洗措施，防止了外力對軟脆光學元件造成損害，保證了清洗元件的表面質(zhì)量。

3、本發(fā)明實現(xiàn)了對光學元件的多工位自動化清洗，并且將清洗過程中易揮發(fā)清洗液產(chǎn)生的揮發(fā)廢氣和清洗廢液引導入循環(huán)回收系統(tǒng)，進行冷凝液化后回收再利用，實現(xiàn)環(huán)保無排放清洗，減少了浪費，防止了環(huán)境污染，提高了經(jīng)濟性。

4、本發(fā)明的清洗參數(shù)實時可調(diào)，使清洗過程易于控制，同時使其針對不同清洗對象具有廣泛的適應性，對設(shè)備精度和成本要求不高，過程安全可靠，操作方便，易于推廣使用。

附圖說明

圖1是本發(fā)明所使用清洗裝置的整體外觀示意圖。

圖2是圖1的左側(cè)視圖。

圖3是清洗裝置主體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是A-A截面示意圖。

圖5是B-B截面示意圖。

圖6是清洗流程示意圖。

圖7是主體和循環(huán)回收系統(tǒng)關(guān)系圖。

圖8是拋光后未清洗的KDP晶體表面原子力顯微鏡圖。

圖9是清洗后的KDP晶體表面原子力顯微鏡圖。

圖中：1、進料槽，2、提拉氣缸，3、隔板，4、吊籃架，5、掛鉤，6、氣缸安裝塊A，7、無桿氣缸滑塊，8、無桿氣缸，9、超聲清洗槽，10、超聲波振子，11、排液口A，12、注液口，13、隔門A，14、隔門B，15、隔門氣缸A，16、隔門氣缸B，17、防腐密封條A，18、防腐密封條B，19、防腐密封條C，20、防腐密封條D，21、噴淋清洗槽，22、氣缸安裝塊B，23、噴淋清洗頭，24、排液口B，25、隔門C，26、烘干出料槽，27、送風管A，28、送風管B，29、出料口門，30、防腐密封圈A，31、鉸鏈A，32、鎖緊把手A，33、活動門A，34、活動門B，35、玻璃窗口A，36、玻璃窗口B，37、玻璃窗口C，38、玻璃窗口D，39、隔門滑軌A，40、隔門滑軌B，41、隔門滑軌C，42、進料口門，43、防腐密封圈B，44、鉸鏈B，45、鎖緊把手B，46、排氣管道，47、支腳，48、摳手A，49、摳手B。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進行進一步地描述。本發(fā)明清洗的對象是無磨料水溶解超精密拋光后的KDP光學晶體元件，清洗流程如圖6所示，具體清洗方法的工藝步驟如下：

上料：旋動鎖緊把手B45，打開進料門，將盛有待清洗光學晶體元件的清洗籃放入進料槽1，然后關(guān)閉進料口門42，旋動進料門鎖緊把手B45將門關(guān)閉，進料口門42的內(nèi)側(cè)四周粘附防腐密封圈B43，通過一側(cè)的鉸鏈B44連接在主體上；打開工作開關(guān)啟動清洗過程，處于初始位置的提拉氣缸2伸出氣缸缸桿至下極限位置，連接在其底部的吊籃架4上的吊籃鉤會鉤住清洗籃，然后提拉氣缸2桿縮回至上極限位置，同時帶動整個清洗籃及工件向上移動，并給控制系統(tǒng)發(fā)出信號；系統(tǒng)檢測到信號后使隔門氣缸A15帶動隔門A13沿隔門滑軌A39向下運動將隔門打開，此時隔門A13上部邊沿處的防腐密封條C19將縫隙堵住，防止氣體和液體泄露；同時無桿氣缸8水平移動，帶動提拉氣缸2進入下一個工位。

超聲清洗：清洗開關(guān)開啟之前，超聲清洗槽9中已經(jīng)注滿了專用的清洗液；當檢測到無桿氣缸8運動至超聲清洗槽9上方時，隔門A13在隔門氣缸A15的帶動下關(guān)閉，隔門A13下部卡板上的防腐密封條A17將縫隙堵住，從而使超聲清洗槽9被單獨隔離開來，，同時清洗槽中的超聲波振子10開始振動；提拉氣缸2桿緩慢將工件放入超聲清洗槽9的清洗液中，工件懸浮在超聲清洗槽9中進行超聲波清洗，超聲清洗的頻率為80～120kHz可設(shè)，清洗功率大小可調(diào)，清洗時間為0～10min可調(diào)；清洗完成后，超聲振動停止，提拉氣缸2將工件向上提出至上極限位置，隔門氣缸B16向下運動將超聲清洗槽9和噴淋清洗槽21之間的隔門B14沿隔門滑軌B40向下打開，隔門B14上部邊沿處的防腐密封條D20將縫隙堵住，然后無桿氣缸8帶動提拉氣缸2和工件移向噴淋清洗工位。

噴淋清洗：當控制系統(tǒng)檢測到無桿氣缸8帶動工件運動至噴淋清洗槽21上方時，隔門B14在隔門氣缸的帶動下關(guān)閉，噴淋清洗槽21被單獨隔離開來；提拉氣缸2將工件緩慢放入噴淋清洗槽21中，此時位于噴淋清洗槽21前后壁上的噴淋清洗頭23噴射出專用清洗液對工件進行沖淋清洗，噴淋壓力為0.04～0.4MPa可調(diào)，噴淋時間為0～10min可調(diào)，為保證對樣件的均勻清洗，樣件在提拉氣缸2的帶動進行上下往復運動使得整個工件都能夠被清洗到；清洗完成后，噴淋清洗頭23停止噴射清洗液，提拉氣缸2帶動樣件運動至上極限位置，同時位于噴淋清洗槽21和烘干出料槽26之間的隔門C25打開，無桿氣缸8帶動工件移向烘干出料工位。

烘干出料：當控制系統(tǒng)檢測到無桿氣缸8帶動工件運動至烘干出料槽26上方時，隔門C25關(guān)閉，烘干出料槽26被單獨隔離開來；提拉氣缸2將工件緩慢放入烘干出料槽26中，此時送風管A27和送風管B28吹出純凈干燥的氮氣將殘留在工件表面的易揮發(fā)的清洗液帶走，風淋的溫度為20～50℃可調(diào)，時間為0～10min可調(diào)，氣壓大小為0.1～0.6MPa可調(diào)；待工件被烘干后，蜂鳴器發(fā)出警報提醒操作人員進行出料；操作人員此時旋動鎖緊把手A32打開出料口門29取出盛有被清洗工件的清洗籃，然后關(guān)閉出料口門29，鎖緊門把手A，并給控制系統(tǒng)發(fā)出信號進行復位動作；出料口門29的內(nèi)側(cè)四周粘附防腐密封圈A30，通過一側(cè)的鉸鏈A31連接在主體上；控制系統(tǒng)接收到復位動作后，提拉氣缸2開始向上運動至上極限位置，同時隔門A13、隔門B14、隔門C25在各自隔門氣缸的帶動下打開，從而使主體內(nèi)所有腔室連通，此時無桿氣缸8帶動提拉氣缸2和清洗吊籃架4回復至起始位置，然后隔門A13、隔門B14、隔門C25在各自隔門氣缸向的帶動下關(guān)閉，繼續(xù)保持各個工位隔離密閉；如此完成一個完整的清洗過程。

循環(huán)回收：循環(huán)回收系統(tǒng)負責整個過程中的供液和供氣以及廢液和廢氣的回收如圖7所示；清洗準備階段，儲液箱中的清洗液通過液泵經(jīng)過濾器將干凈的專用清洗液注入超聲清洗槽9；噴淋清洗時，儲液箱中的清洗液通過液泵經(jīng)過濾器將干凈的專用清洗液通入噴淋清洗槽21前后壁上的噴淋清洗頭23，噴頭噴出具有一定壓力的清洗液沖淋被清洗工件；烘干時，氣源將干凈的氮氣通入位于烘干出料槽26內(nèi)壁的吹風管A和吹風管B，加速被清洗樣件表面清洗液的揮發(fā)，實現(xiàn)烘干過程；清洗過程中，位于超聲清洗槽9、噴淋清洗槽21和烘干出料槽26工位上方排氣管道46將揮發(fā)出來的廢氣導流至冷凝室，冷凝室內(nèi)布置有冷凝銅管，壓縮機提供的冷媒經(jīng)過冷凝管形成低溫，廢氣接觸冷凝管被液化經(jīng)冷凝室底部的排液管流至廢液箱；清洗產(chǎn)生的廢液分別經(jīng)超聲清洗槽9的排液口A11和噴淋清洗槽21底部的排液口B24流入廢液箱，以便回收利用。

如圖1-5所示，本發(fā)明清洗時采用的裝置為光學元件揮發(fā)溶劑循環(huán)回收利用的自動清洗裝置，包括主體和循環(huán)回收系統(tǒng)，所述的主體內(nèi)設(shè)置上料工位、超聲清洗工位、噴淋清洗工位和下料工位；主體頂部通過排氣管道46與循環(huán)回收系統(tǒng)連接；

所述的主體為上中下三段式結(jié)構(gòu)；下部設(shè)有四個工位槽，從左至右依次為進料槽1、超聲清洗槽9、噴淋清洗槽21和烘干出料槽26，中部為提拉運送機構(gòu)活動空間，上部安裝有提拉運送機構(gòu)，上部與中部之間通過隔板3隔開；

所述的提拉運送機構(gòu)包括提拉氣缸2、無桿氣缸8、吊籃架4和掛鉤5，所述的提拉氣缸2為單桿不回轉(zhuǎn)氣缸，缸桿通過隔板3中間開設(shè)的運動軌道伸入進料槽1；提拉氣缸2的缸桿末端裝有吊籃架4，吊籃架4上有掛鉤5，用于鉤吊盛有工件的清洗籃；提拉氣缸2通過氣缸安裝塊A6安裝在無桿氣缸滑塊7上，無桿氣缸滑塊7初始位置為左極限位置，無桿氣缸8通過氣缸安裝塊B22固定在主體上；提拉氣缸2帶動清洗籃上下運動，無桿氣缸8帶動提拉氣缸2水平運動，兩者相互配合，完成對工件的吊取和移位；

所述的上料工位包括進料槽1，進料槽1的前側(cè)設(shè)有進料口，進料口外側(cè)的主體上安裝進料口門42，進料口門42的內(nèi)側(cè)四周粘附防腐密封圈B43；

所述的超聲清洗工位包括超聲清洗槽9和超聲波振子10，超聲清洗槽9底部安裝有超聲波振子10，底部設(shè)有排液口A11，用于排走廢液，超聲清洗槽9后側(cè)設(shè)有注液口12，用于加注清洗液；超聲清洗槽9左右兩側(cè)邊沿上分別設(shè)有隔門A13和隔門B14，隔門A13和隔門B14分別由隔門氣缸A15和隔門氣缸B16帶動、沿著立柱上的隔門滑軌A39和隔門滑軌B40上下運動；所述的隔門滑軌A39和隔門滑軌B40的上下極限位置設(shè)有位置傳感器；當隔門氣缸A15和隔門氣缸B16運動至上極限位置時，隔門A13和隔門B14關(guān)閉，隔門A13和隔門B14上部頂住隔板3、隔門A13和隔門B14下部卡板上的防腐密封條A17和防腐密封條B18將縫隙堵住，從而使超聲清洗工位形成單獨的密閉空間；當隔門氣缸A15和隔門氣缸B16運動至下極限位置時，隔門A13和隔門B14打開，隔門A13和隔門B14上部邊沿處的防腐密封條C19和防腐密封條D20將縫隙堵住，防止液體和氣體泄漏；無桿氣缸8帶動提拉氣缸2運動至此工位時將工件放入超聲清洗槽9進行超聲波清洗；

所述的噴淋清洗工位包括噴淋清洗槽21和噴淋清洗頭23；噴淋清洗槽21前后內(nèi)壁上分別安裝有噴淋清洗頭23；噴淋清洗槽21底部設(shè)有排液口B24，噴淋清洗后的液體從此處流走；噴淋清洗槽21左右兩側(cè)邊沿上分別設(shè)有隔門B14和隔門C25，隔門B14和隔門C25的運動形式和超聲清洗工位的隔門A13和隔門B14的運動形式相同，使噴淋清洗工位在清洗時形成單獨的密閉空間；無桿氣缸8帶動提拉氣缸2將工件移送至此工位，噴淋清洗頭23噴出專用清洗液對其進行噴淋清洗，提拉氣缸2帶動清洗籃上下往復運動實現(xiàn)均勻清洗；

所述的下料工位包括烘干出料槽26；烘干出料槽26的前面設(shè)有出料口，出料口外側(cè)安裝出料口門29，出料口門29的內(nèi)側(cè)四周粘附防腐密封圈A30；所述的烘干出料槽26內(nèi)部左右側(cè)對稱位置分別安裝有送風管A27和送風管B28；工件在此工位實現(xiàn)風淋烘干，提拉氣缸2將工件放入烘干出料槽26后在無桿氣缸8帶動下移動至初始位置；

所述的循環(huán)回收系統(tǒng)包括原液箱、廢液箱和冷凝室；原液箱里盛放干凈的清洗液，通過液泵連接管道經(jīng)不銹鋼過濾器注入超聲清洗槽9，清洗廢液再經(jīng)過相應管道流入廢液箱；原液箱里的清洗液通過液泵連接管道經(jīng)不銹鋼過濾器通入噴淋清洗槽21，清洗液由噴淋清洗頭23噴出對被清洗工件進行噴淋清洗；廢液經(jīng)過噴淋清洗底部的排液口A11排出流入到廢液箱；清洗過程中產(chǎn)生的有害廢氣經(jīng)過主體頂部的排氣管道46輸送至冷凝室，冷凝室內(nèi)布置冷凝管，由壓縮機提供低溫，廢氣在冷凝室里面液化成液體，經(jīng)過冷凝室底部的排液口流入廢液箱。

進一步地，所述的提拉運送機構(gòu)在上料工位、超聲清洗工位、噴淋清洗工位和下料工位處的無桿氣缸8一側(cè)分別設(shè)有光電傳感器，用于控制相應工位處的運動。

進一步地，所述的主體前側(cè)在上料工位、超聲清洗工位、噴淋清洗工位和下料工位對應位置開有透明的玻璃窗口A35、玻璃窗口B36、玻璃窗口C37和玻璃窗口D38。

進一步地，所述的進料口門42的一側(cè)通過鉸鏈B44連接在主體上；進料口門42的另一側(cè)的主體上安裝鎖緊把手B45，當進料口門42關(guān)閉時，旋動鎖緊把手B45將進料口門42鎖緊；所述的出料口門29的一側(cè)通過鉸鏈A31連接在主體上；出料口門29的另一側(cè)的主體上安裝鎖緊把手A32，當出料口門29關(guān)閉時，旋動鎖緊把手A32將出料口門29鎖緊。

進一步地，所述的送風管A27和送風管B28分別固定在烘干出料槽26內(nèi)的后壁的左右兩側(cè)上。

進一步地，所述的超聲清洗槽9底部中間位置設(shè)有排液口A11；所述的噴淋清洗槽21底部中間位置設(shè)有排液口B24。

進一步地，所述的噴淋清洗槽21前后內(nèi)壁上的噴淋清洗頭23安裝位置前后相對。

進一步地，整個裝置為整體矩形結(jié)構(gòu)，底部設(shè)置支腳47。

進一步地，整個裝置包括控制系統(tǒng)，所述的控制系統(tǒng)通過數(shù)據(jù)線分別與各光電傳感器、位置傳感器和各氣缸連接。

進一步地，所述的超聲清洗槽9和噴淋清洗槽21對應工位前側(cè)的主體上分別設(shè)置活動門A33和活動門B34，所述的活動門A33和活動門B34上分別設(shè)置摳手A48和摳手B49。

在實際使用本裝置時，操作人員需在準備階段打開循環(huán)回收系統(tǒng)中的液泵預先將超聲清洗槽9注滿專用清洗液，待注液完成后旋動鎖緊把手B45，打開進料口門42，將盛有被清洗元件的清洗籃放入進料槽1，然后關(guān)閉進料口門42，鎖緊門把手B，按下開關(guān)啟動裝置；整個超聲清洗、噴淋清洗和烘干過程為全自動進行；待所有工序完成，聽到系統(tǒng)下料報警響起后，操作人員旋動鎖緊把手A32，打開出料口門29，將盛有被清洗樣件的清洗籃取出，關(guān)閉出料口門29，鎖緊門把手A，即完成一次清洗過程。如有工件繼續(xù)清洗，重復此過程即可完成自動清洗。如不需繼續(xù)清洗，打開排液閥，將超聲清洗槽9清洗液排放干凈，最后關(guān)閉裝置開關(guān)。

例如：針對尺寸為100x100mm的經(jīng)過無磨料水溶解超精密拋光的KDP元件，采用超聲清洗頻率80kHz，超聲清洗時間5min，噴淋清洗壓力0.2MPa，噴淋清洗時間6min，烘干風淋的壓力0.1MPa，風淋溫度和時間為20℃和10min的參數(shù)組合對其進行自動清洗。使用原子力顯微鏡檢測清洗前后晶體元件表面的油污去除情況，圖8是拋光后未清洗的表面，光學元件表面有殘留油污附著，表面呈現(xiàn)凹凸不平的起伏，表面質(zhì)量較差，圖9是使用本發(fā)明方法清洗后的表面，可以看到光學元件表面的油污已被去除掉，表面干凈平整，粗糙度略有下降，露出了超精密拋光后的原始超光滑表面。從而證明本發(fā)明方法能夠去除粘附在晶體元件表面的頑固油污，有效提升了清洗后光學元件的表面質(zhì)量。

本發(fā)明不局限于本實施例，任何在本發(fā)明披露的技術(shù)范圍內(nèi)的等同構(gòu)思或者改變，均列為本發(fā)明的保護范圍。