本實用新型涉及一種清洗裝置，尤其涉及應用于光電攝像頭模組廠及清洗行業(yè)的技術領域的清洗裝置。

背景技術：

傳統(tǒng)的清洗裝置如專利CN201320114174.1中所述，如本實用新型圖1和圖 2所示，該清洗裝置包括圓形的清洗轉(zhuǎn)盤,環(huán)繞清洗轉(zhuǎn)盤四周的擋水板,設置在清洗轉(zhuǎn)盤上用于固定待洗物的限位件,以及設置在清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭。該清洗裝置的工作原理是,首先通過限位件將待洗物固定在清洗轉(zhuǎn)盤上,然后啟動清洗裝置,清洗轉(zhuǎn)盤開始沿軸心轉(zhuǎn)動,從而帶動待洗物跟著轉(zhuǎn)動,設置在清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭朝待洗物噴水,從而將待洗物的上表面清洗干凈。

然而，傳統(tǒng)的清洗裝置只能進行單面清洗,即由于只有上噴頭,因此一次清洗只能清洗待洗物的上表面,無法同時清洗待洗物的下表面，清洗效率不理想。例如,在清洗產(chǎn)品及空余綠膜上的落塵及臟點時,鋼板下表面的綠膜在軌道經(jīng)過后也會帶有落塵及臟點，或者產(chǎn)品在H/A翻轉(zhuǎn)及流轉(zhuǎn)過程中，下表面綠膜上的落塵會增加黑點及污點,對于污臟的下表面，利用傳統(tǒng)的清洗裝置將難以獲得有效地清洗。

技術實現(xiàn)要素：

為解決上述問題，本實用新型提供一種清洗裝置，包括清洗轉(zhuǎn)盤、環(huán)繞設置于所述清洗轉(zhuǎn)盤四周的擋水板、設置于所述清洗轉(zhuǎn)盤并用于固定待洗物的限位件和設置于清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭，所述清洗轉(zhuǎn)盤設有鏤空部；所述鏤空部與所述限位件對應設置；所述清洗轉(zhuǎn)盤的下方還設有向上的第二清洗噴頭。所述清洗轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，所述清洗轉(zhuǎn)盤上方的清洗噴頭和所述第二清洗噴頭分別同時向所述待洗物噴水，對所述待洗物進行雙面清洗。

優(yōu)選的，所述鏤空部的大小和形狀與所述待洗物相適配。待洗物被固定在清洗轉(zhuǎn)盤上，置于鏤空部，以便第二清洗噴頭透過鏤空部向上噴水對待洗物的下表面進行清洗。

優(yōu)選的，所述鏤空部環(huán)繞所述清洗轉(zhuǎn)盤的軸心間隔設置有多個。鏤空部的設置在清洗轉(zhuǎn)盤可以是規(guī)則的或不規(guī)則的排布。但是規(guī)則的排布，例如：所述鏤空部設置為五個，并規(guī)則的分布在清洗轉(zhuǎn)盤的外圍，形成五邊形排布，有利于待洗物承受清洗轉(zhuǎn)盤的高速旋轉(zhuǎn)。

優(yōu)選的，所述鏤空部設有板筋，以便支撐待洗物。

優(yōu)選的，所述清洗轉(zhuǎn)盤設有凹部，所述凹部與所述鏤空部連接。凹部的設置主要用于方便待洗物的取放。

優(yōu)選的，所述清洗轉(zhuǎn)盤的鏤空部所在的盤面設置為用于清洗待洗物的清洗平面，所述相鄰的清洗平面之間形成角度，便于清洗時旋轉(zhuǎn)過程中甩水。

優(yōu)選的，所述限位件為定位銷或者卡銷。

優(yōu)選的，所述待洗物為板狀物，例如但不限于PCP板、晶圓、模組、玻璃片、芯片中的一種。

與現(xiàn)有技術相比，符合本實用新型的清洗裝置結構簡易實用且能夠同時有效地清洗待洗物上下表面臟污，從而有效地改善待洗物的不良率，易于操作，節(jié)省成本，效率高。

附圖說明

圖1為傳統(tǒng)的清洗裝置的示意圖之一；

圖2為傳統(tǒng)的清洗裝置的示意圖之二；

圖3為符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置的示意圖；

圖4為符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置的局部放大圖；

圖5為符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置的截面圖。

其中：

1-清洗轉(zhuǎn)盤；

2-擋水板；

3-限位件；

4-鏤空部；

5-第一清洗噴頭；

6-第二清洗噴頭；

7-待洗物；

8-板筋；

9-凹部。

具體實施方式

為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明。

如圖3所示，公開了符合本實用新型優(yōu)選實施例的一種清洗裝置，包括清洗轉(zhuǎn)盤1、環(huán)繞設置于所述清洗轉(zhuǎn)盤1四周的擋水板2、設置于所述清洗轉(zhuǎn)盤1 并用于固定待洗物7的限位件3，如圖所示，對一片待洗物7進行固定、限位的限位件3為4個，也可以根據(jù)需要按需設置。還包括設置于清洗轉(zhuǎn)盤1上方的清洗噴頭，圖中為第一清洗噴頭5，所述第一清洗噴頭5從上而下向待洗物噴水，噴頭的出水方向可以與待洗物垂直，也可以是成一定角度，噴頭可以是靜止的噴水，也可以是抖動地噴水，還可以是由清洗桿左右搖動以帶動噴頭出水，便于沖洗干凈。

所述清洗轉(zhuǎn)盤1設有鏤空部4，如圖所示，所述鏤空部為5個；所述鏤空部 4與所述限位件對應設置，限位件沿鏤空部4邊緣設置，以固定將置于鏤空部4 處的待洗物7；所述清洗轉(zhuǎn)盤1的下方還設有向上的第二清洗噴頭6。啟動清洗裝置，清洗轉(zhuǎn)盤1轉(zhuǎn)動，從而帶動待洗物7轉(zhuǎn)動，第一清洗噴頭5從上至下地對待洗物7的上表面進行清洗，同時所述第二清洗噴頭6從下至上地對待洗物7 的下表面進行清洗，從而實現(xiàn)對待洗物7的雙面清洗。

所述鏤空部4的大小和形狀與所述待洗物7相適配，即鏤空部4的鏤空空間恰好能夠放置待洗物7或者稍大于待洗物，從而使得待洗物7的下表面能夠獲得第二清洗噴頭6的全面清洗，不會存在清洗盲區(qū)。待洗物7被固定在清洗轉(zhuǎn)盤1上，置于鏤空部4處，以便第二清洗噴頭6透過鏤空部4向上噴水對待洗物7的下表面進行清洗。所述鏤空部4環(huán)繞所述清洗轉(zhuǎn)盤1的軸心間隔設置有多個。鏤空部1的設置在清洗轉(zhuǎn)盤1可以是規(guī)則的或不規(guī)則的排布。但是規(guī)則的排布，例如：所述鏤空部設置為五個，并規(guī)則地分布在清洗轉(zhuǎn)盤的外圍，形成五邊形排布，有利于待洗物承受清洗轉(zhuǎn)盤的高速旋轉(zhuǎn)。同時，與傳統(tǒng)的只能同時放置4件待洗物7進行清洗相比，本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置能夠同時對5件待洗物7進行雙面清洗，提高了清洗效率。優(yōu)選規(guī)則的排布有利于待洗物承受清洗轉(zhuǎn)盤的高速旋轉(zhuǎn)，減少待洗物破損率。所述第二噴頭6的可以是設置在鏤空部4下方，也可以是斜下方，朝待洗物傾斜噴水；其數(shù)量的設置可以是一個或多個，可以在一個位置設置，也可以在多個位置設置，可以一個為一組，也可以多個為一組，以便提高清洗效率。本實用新型優(yōu)選實施例為以兩個噴頭為一組并排設置在鏤空部4的下方。

如圖所示，所述鏤空部4設有板筋8，以便支撐待洗物7。本實用新型所述 PCP板為可以裝載更小待洗物或電子器件，以便對小器件進行批量清洗的載體板。圖中，待清洗的手機器件模組或其他需要清洗的電子小部件(例如，手機攝像頭部件/模組)，被裝載在圖中所示的PCP板上，以備批量清洗，圖中PCP 板的中間設有一條凹槽，與本實用新型的板筋8相嵌，板筋8嵌入PCP板的凹槽中，在清洗轉(zhuǎn)盤高速旋轉(zhuǎn)的過程中起到支撐待洗板狀物的作用。圖中，板筋的設置為縱向橫跨鏤空部4，板筋的設置數(shù)量可以按需設置，其設置位置根據(jù)需要可以是橫向的、縱向的、或交叉的等等。

所述清洗轉(zhuǎn)盤1還設有凹部9，所述凹部9與所述鏤空部4毗鄰、連接。凹部的設置使得凹部9與鏤空部4之間存在空間連接，提供了足夠的空間便于通過手或鑷子或其他工具對待洗物放置或取出。

所述清洗轉(zhuǎn)盤1的鏤空部4所在的盤面可以是平面，也可以優(yōu)選設置為斜面，將待洗物所處的面稱之為清洗平面，所述相鄰的清洗平面之間形成角度 (如圖5所示)，有利于清洗時旋轉(zhuǎn)的過程中甩干待洗物上的水。

用于對待洗物進行固定和限位的限位件3可以是定位銷或者卡銷，或者是二者的結合，還可以是能夠根據(jù)待洗物的形狀或大小不同進行調(diào)整的可調(diào)螺釘或銷結構。

本實用新型所述待洗物為板狀物，例如但不限于PCP板、晶圓、模組、玻璃片、芯片。

符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置可應用于如光電攝像頭模組廠等涉及清洗工序的行業(yè)。

通過進行試驗數(shù)據(jù)比對，從而可以清晰地看到符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置所具有的有益效果：

(1)由原來的一次性只能放置4件PCP板改成目前的一次性能夠放置5件 PCP板，從而使得治具效率提升。

(2)例如在攝像頭模組的制作過程中、AF產(chǎn)品P5V18U和AF產(chǎn)品F13N01C 的清洗過程中，采用符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置后，后道黑點不良下降，效率提升，有明顯改善效果。

綜上分析，采用符合本實用新型優(yōu)選實施例的清洗裝置后，極大地節(jié)約了成本。

顯然，本領域的技術人員可以對實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包括這些改動和變型在內(nèi)。