1.一種系統(tǒng)，其包括：
超聲探頭，其構(gòu)造成進(jìn)入到發(fā)動機(jī)中并且發(fā)射超聲脈沖；
耦合機(jī)構(gòu)，其構(gòu)造成在所述超聲探頭與所述發(fā)動機(jī)的一個或更多個構(gòu)件之間提供超聲耦合介質(zhì)；以及
控制器，其構(gòu)造成驅(qū)動所述超聲探頭以將所述超聲脈沖輸送穿過所述耦合介質(zhì)至所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的表面，其中所述超聲探頭構(gòu)造成輸送所述超聲脈沖以從所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件除去沉積物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述耦合機(jī)構(gòu)構(gòu)造成在所述超聲探頭與所述發(fā)動機(jī)的一個或更多個葉片、噴嘴、燃燒器襯套或壓縮機(jī)葉片之間提供所述耦合介質(zhì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的所述表面為外表面，并且所述超聲探頭為聚焦的超聲探頭，其構(gòu)造成使所述超聲脈沖朝所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的所述外表面聚焦。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述耦合機(jī)構(gòu)包括隔膜，其至少部分地填充有所述超聲耦合介質(zhì)，并且構(gòu)造成在所述超聲探頭與所述一個或更多個構(gòu)件之間接合所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述超聲探頭構(gòu)造成使所述超聲脈沖朝所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的所述表面聚焦，以除去所述沉積物，同時防止除去所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件上的熱障涂層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括光學(xué)傳感器，其構(gòu)造成在由所述超聲探頭除去所述沉積物期間生成表示所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的光學(xué)數(shù)據(jù)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的所述表面為外表面，并且所述一個或更多個構(gòu)件包括相對的內(nèi)表面，并且其中所述耦合機(jī)構(gòu)構(gòu)造成將所述耦合介質(zhì)從所述超聲探頭提供至所述外表面，并且所述控制器構(gòu)造成指示所述超聲探頭使所述超聲脈沖聚焦穿過所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的所述外表面并且到所述內(nèi)表面上，以從所述內(nèi)表面除去所述沉積物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述耦合介質(zhì)包括鎵銦合金。
9.一種方法，其包括：
將超聲探頭插入到發(fā)動機(jī)中；
在所述超聲探頭與所述發(fā)動機(jī)的一個或更多個構(gòu)件之間輸送超聲耦合介質(zhì)；以及
將超聲脈沖從所述超聲探頭發(fā)射并且發(fā)射穿過所述耦合介質(zhì)至所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件的表面，其中所述超聲脈沖從所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件除去沉積物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，輸送所述超聲耦合介質(zhì)包括將所述耦合介質(zhì)噴灑到所述發(fā)動機(jī)的所述一個或更多個構(gòu)件上。