專利名稱：用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置和清潔方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，以及清潔磁盤驅(qū)動(dòng) 器的部件的清潔方法。
背景技術(shù)：
專利文獻(xiàn)1和2中公開的清潔精密器件例如磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的技術(shù)是 通過超聲清潔工藝在裝有溶劑(solvent)的槽中清潔部件。 專利文獻(xiàn)l: JP-AH6-120197 專利文獻(xiàn)2: JP-AH7-17152
發(fā)明內(nèi)容
近年來一直要求降低磁盤驅(qū)動(dòng)器的成本，并且期望以高產(chǎn)率制造磁盤驅(qū) 動(dòng)器。有效進(jìn)行磁盤驅(qū)動(dòng)器制造工藝之一，即清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔 工藝，和縮短清潔工藝的處理時(shí)間已經(jīng)成亟待解決的問題。
用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件例如頭堆疊組件的傳統(tǒng)清潔線不直接連接 到制造^f茲盤驅(qū)動(dòng)器的制造線。設(shè)計(jì)為包括執(zhí)行清潔工藝的清潔線的制造線不 一定效率高。
考慮到前述問題而作出本發(fā)明。因此，本發(fā)明的一個(gè)目的為提供一種用 于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置以及清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔方 法，該清潔裝置能在將清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔工藝并入磁盤驅(qū)動(dòng)器制 造線時(shí)有效地操作。
根據(jù)本發(fā)明第一方面的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置被并入 磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線中以清潔包括在磁盤驅(qū)動(dòng)器中的頭堆疊組件，該清潔裝置 設(shè)置在組裝頭堆疊組件的第一組裝線與組裝包括頭堆疊組件的頭盤組件的 第二組裝線之間，且直接連接到第一和第二組裝線的至少之一。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置包括 用預(yù)定清潔液清潔頭堆疊組件的清潔單元；用于干燥由清潔單元清潔的頭堆疊組件的干燥單元；以及將頭堆疊組件運(yùn)送到清潔單元和干燥單元的運(yùn)送裝 置。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中， 清潔單元包括第一清潔單元和第二清潔單元，第一清潔單元用于在頭堆疊組 件上噴淋預(yù)定清潔液，第二清潔單元用于通過將頭堆疊組件浸在清潔槽容納 的預(yù)定清潔液中來清潔頭堆疊組件，運(yùn)送裝置將頭堆疊組件運(yùn)送到第一清潔 單元、第二清潔單元和干燥單元。
根據(jù)本發(fā)明的第四方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中， 當(dāng)運(yùn)送裝置運(yùn)送頭堆疊組件時(shí)干燥該頭堆疊組件。
根據(jù)本發(fā)明的第五方面，用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置還包括 臂，其用于拾取從第一組裝線傳送的頭堆疊組件且用于豎直地移動(dòng)所拾取的 頭堆疊組件；其中第一和第二清潔單元設(shè)置地關(guān)于水平方向彼此接近，所拾 取的頭堆疊組件被運(yùn)送裝置和臂運(yùn)送到第一清潔單元和第二清潔單元，被干 燥的頭堆疊組件被輸送到第二組裝線。
才艮據(jù)本發(fā)明的第六方面，用于清潔^t盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置還包括 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其用于保持至少一個(gè)頭堆疊組件且用于繞經(jīng)過預(yù)定支撐位置的垂 直軸轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)保持的頭堆疊組件，其中沿旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)沿其轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)路徑 布置第一清潔單元、第二清潔單元和干燥單元，通過轉(zhuǎn)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，運(yùn)送 裝置將頭堆疊組件運(yùn)送到第一清潔單元、第二清潔單元和干燥單元。
根據(jù)本發(fā)明的第七方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中， 運(yùn)送裝置包括帶式輸送機(jī)，用于運(yùn)送頭堆疊組件到第一清潔單元、第二清潔 單元和干燥單元。
根據(jù)本發(fā)明的第八方面，用于清潔-茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置還包括 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，用于保持多個(gè)頭堆疊組件且用于以預(yù)定方向繞預(yù)定位置轉(zhuǎn)動(dòng)其保 持的頭堆疊組件，其中通過轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，第二清潔單元同時(shí)清潔多個(gè)頭堆 疊組件，通過轉(zhuǎn)動(dòng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，干燥單元同時(shí)干燥多個(gè)頭堆疊組件。
根據(jù)本發(fā)明的第九方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中， 形成環(huán)形運(yùn)送路線從而順序經(jīng)過第一清潔單元、第二清潔單元和干燥單元。
根據(jù)本發(fā)明的第十方面，在用于清潔-茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中， 預(yù)定清潔液為有機(jī)溶劑。
根據(jù)本發(fā)明的第十 一方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置中，有機(jī)溶劑為碳氟化合物溶劑。
根據(jù)本發(fā)明的第十二方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置 中，第一清潔單元對預(yù)定清潔液加壓，并在頭堆疊組件的預(yù)定部件上噴淋加 壓的清潔液以用于清潔。
根據(jù)本發(fā)明的第十三方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置 中，清潔槽設(shè)置有超聲振動(dòng)器，第二清潔單元利用超聲振動(dòng)器通過超聲清潔 工藝來清潔頭堆疊組件。
根據(jù)本發(fā)明的第十四方面，在用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置 中，清潔單元具有開放的上端，用于清潔》茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置是開 放結(jié)構(gòu)。
根據(jù)本發(fā)明的第十五方面，用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置還包 括清潔液回收裝置，用于回收在用于清潔^磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的所述清潔裝置 中蒸發(fā)的所述預(yù)定清潔液，且用回收的清潔液補(bǔ)充清潔單元。
根據(jù)本發(fā)明的第十六方面，清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔方法包括步
驟將頭堆疊組件運(yùn)送到清潔單元中并密封該清潔單元，對密封的清潔單元 抽真空，在抽真空的清潔單元中用包含有機(jī)溶劑的預(yù)定清潔液清潔頭堆疊組 件，將清潔的頭堆疊組件運(yùn)送到干燥單元中并密封干燥單元；對該密封的干 燥單元抽真空，且在抽真空的干燥單元中干燥頭堆疊組件。
根據(jù)本發(fā)明，通過將用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件(頭堆疊組件)的清潔 工藝并入磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線中能提高生產(chǎn)效率。根據(jù)本發(fā)明，并入制造線中 的清潔工藝的效率能夠得到提高。


,圖1為根據(jù)本發(fā)明的包括磁盤部件清潔裝置的磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線的一部 分的視圖。
圖2為顯示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置的構(gòu)造的示意圖。
圖3為顯示根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置的構(gòu)造的示意圖。
圖4為顯示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置的構(gòu)造的示意圖。圖5(A)和5 (B)為輔助說明根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的磁盤部件清潔裝 置的示意圖。
圖6為輔助說明根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置的示意圖。 圖7為根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔工藝的流程圖。 圖8為輔助說明第六實(shí)施例中磁盤部件清潔裝置的構(gòu)造的示意圖。 附圖標(biāo)記說明
1: HSA組裝線 2: HSA清潔線 3: HAD組裝線
4:傳送帶 6:傳送帶
10: -磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置
12:接收單元12A、 12B:門14:輸送單元
14A、 14B: n16:臂18:運(yùn)送機(jī)構(gòu)
20:噴淋清潔槽22:力口壓噴、淋單元24:熱空氣干燥單元
26:冷卻圈30:超聲清潔槽32:超聲振動(dòng)器
34:熱空氣干燥單元36:冷卻圏38:
40:蒸餾槽110:;茲盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置112:^走轉(zhuǎn)才幾構(gòu)114:支撐構(gòu)件116:位置
120:冷卻圈122:力口壓噴淋單元124:超聲清潔槽
126:熱空氣干燥槽128:冷卻圈
210:磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置212:超聲清潔槽
214:噴淋清潔槽216:熱空氣干燥槽220:帶式輸送機(jī)
222:帶230:冷卻圈
310:^磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置312:旋轉(zhuǎn)構(gòu)件
314:旋轉(zhuǎn)軸400:運(yùn)送路徑
510:^磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置512:清潔槽514:密封閘板
516:干燥槽518:密封閘板520:冷卻圈
具體實(shí)施例方式
將參考附圖描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例(下文中簡稱為"實(shí)施例")。 圖1顯示根據(jù)優(yōu)選實(shí)施例的一部分磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線，該制造線包括清 潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置(下后文稱為"磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔裝置")。
圖1所示的磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線包括用于組裝頭堆疊組件(head stackassembly,縮寫為HSA )的HSA組裝線，用于清潔組裝的HSA的清潔線2， 以及使用清潔的HSA組裝頭盤組件(head disk assembly,縮寫為HDA)的 HDA組裝線3。
HSA組裝線1將HSA的部件包括VCM線圈、頭萬向節(jié)組件(head gimbals assembly )、軸承單元(bearing unit)和FPC組裝成HSA。
HSA清潔線2清潔由HSA組裝線1組裝的HSA。 HSA清潔線2直接連 接到HSA組裝線1 。由HSA組裝線1組裝的HSA被運(yùn)送到HSA清潔線2。 HSA清潔線2也直接連接到HDA組裝線3。由HSA清潔線2清潔的HSA 被運(yùn)送到HDA組裝線3。根據(jù)本發(fā)明的磁盤部件清潔裝置清潔HSA。清潔 工藝和磁盤部件清潔裝置將在后面描述。
HDA組裝線3將包括清潔的HSA、磁盤、盤固定機(jī)構(gòu)、音圏馬達(dá)和制 動(dòng)器(stopper)的部件裝配成HDA。
圖2示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的f茲盤部件清潔裝置10。如圖2所示， 磁盤部件清潔裝置10直接連接到HSA組裝線1和HDA組裝線3。當(dāng)HSA 從HSA組裝線1經(jīng)磁盤部件清潔裝置10被運(yùn)送到HDA組裝線3時(shí)，磁盤 部件清潔裝置10清潔HSA。下面將描述由磁盤部件清潔裝置10執(zhí)行的HSA 清潔工藝。
傳送帶4在其上支承HSA組裝線1組裝的HSA且朝磁盤部件清潔裝置 IO運(yùn)送HSA。 HSA到達(dá)設(shè)置有兩個(gè)門12A和12B的接收單元12時(shí)，HSA 組裝線1 一側(cè)的門12A打開以在接收單元12中4妄收HSA。然后，門12A關(guān) 閉，磁盤部件清潔裝置10 —側(cè)的門12B打開且HSA被運(yùn)送到磁盤部件清潔 裝置10中。
運(yùn)送到磁盤部件清潔裝置10中的HSA被臂16拾取。臂16具有伸縮機(jī) 構(gòu)且能夠通過運(yùn)送機(jī)構(gòu)18豎直和水平地移動(dòng)，運(yùn)送機(jī)構(gòu)18用于運(yùn)送臂16 連接到的基座。臂16將HSA水平地移動(dòng)到噴^fr清潔槽20上方的位置。接 著，臂16朝下延伸以將HSA定位在設(shè)置有加壓噴淋單元22的預(yù)定位置。
加壓噴淋單元22在通過臂16牢固保持的HSA上噴淋加壓清潔液以用 于局部清潔。通過局部清潔而清潔的HSA的部件可以是例如?？?mold)、 焊接部件等。清潔液可以是高揮發(fā)性有機(jī)溶劑例如氫氟醚(hydrofluoroether， HFE )。通過使用高揮發(fā)性有機(jī)溶劑作為清潔液能夠減少完成HSA干燥工藝 所需的處理時(shí)間。清潔液可以是一些種類的有機(jī)溶劑的混合物或者是有機(jī)溶
9劑和含水清潔液的混合物。
臂16將噴淋清潔的HSA移動(dòng)到設(shè)置于加壓清潔單元22上方的熱空氣 干燥單元24。熱空氣干燥單元24向HSA吹加熱的壓縮干燥空氣以去除附著 到HSA的清潔液并干燥HSA。對于熱空氣干燥單元24使用的加熱的壓縮干 燥空氣的溫度沒有特定限制。在HSA已被熱空氣干燥單元24干燥之后，臂 16和運(yùn)送機(jī)構(gòu)18將HSA運(yùn)送到超聲清潔槽30。臂16運(yùn)送HSA所需的時(shí) 間能用作干燥時(shí)間。
臂16將HSA浸到超聲清潔槽30容納的清潔液中用于超聲清潔。如上 所述，清潔液可以是有機(jī)溶劑例如HFE。與超聲清潔槽30結(jié)合的超聲振動(dòng) 器32運(yùn)行以執(zhí)行超聲清潔。在完成超聲清潔之后，臂16將HSA轉(zhuǎn)送到設(shè) 置在超聲清潔槽30上方的熱空氣干燥單元34。
熱空氣干燥單元34向HSA吹加熱的壓縮干燥空氣以去除附著到HSA 的清潔液并干燥HSA。超聲清潔槽30中容納的清潔液的蒸汽通過冷卻圏36 還原為清潔液，液化的冷卻液體被回收。在HSA被干燥之后，臂16將HSA 轉(zhuǎn)移到傳送帶6上，傳送帶6連接到HDA組裝線3。
置于傳送帶6上的HSA到達(dá)設(shè)置有兩個(gè)相對的門14A和14B的輸送單 元14時(shí)，》茲盤部件清潔裝置IO—側(cè)的門14A打開以接收HSA到輸送單元 14中。在HSA已4皮接收到輸送單元14中以后，門14A關(guān)閉，HDA組裝線 3 —側(cè)的門14B打開，HSA ^皮輸送到HDA組裝線3。
噴淋清潔槽20和超聲清潔槽30分別具有開放的上端以接收HSA到其 中。冷卻圈(cooling coil) 26和冷卻圈36使蒸發(fā)的有機(jī)溶劑液化從而防止 有機(jī)溶劑的蒸汽從噴淋清潔槽20和超聲清潔槽30泄露。然而，這些布置不 能完全防止有機(jī)溶劑蒸汽的泄露。磁盤部件清潔裝置10的接收單元12、輸 送單元14、噴淋清潔槽20和超聲清潔槽30,以及覆蓋磁盤部件清潔裝置10 的蓋38都分別設(shè)置有泵以抽吸和回收蒸發(fā)的有機(jī)溶劑。由泵抽吸的有機(jī)溶 劑被暫時(shí)存放在蒸餾槽40中。存放在蒸餾槽40中的回收的有機(jī)溶劑被供應(yīng) 到加壓噴淋單元22和超聲清潔槽30。
第一實(shí)施例中的;茲盤部件清潔裝置10在HSA組裝工藝和HDA組裝工 藝之間進(jìn)行HSA清潔工藝，這能提高磁盤驅(qū)動(dòng)器生產(chǎn)的效率。當(dāng)運(yùn)送HSA 時(shí)磁盤部件清潔裝置10清潔和干燥HSA且采用高揮發(fā)性有機(jī)溶劑作為清潔 液。因此，用于進(jìn)行HSA清潔工藝的生產(chǎn)線節(jié)拍(takt)的預(yù)定時(shí)間能減少到5s左右或以下的期望工藝時(shí)間。用加壓噴淋清潔HSA的特定部件，尤其 是局部清潔需要精確清潔的部件或難于清潔的部件，能夠提高清潔精確性。 磁盤部件清潔裝置10以高度氣密性結(jié)構(gòu)形成，蒸發(fā)的有機(jī)溶劑被回收，回 收的有機(jī)溶劑在磁盤部件清潔裝置10中循環(huán)。因此，能夠有效使用高揮發(fā) 性有機(jī)溶劑，降低了有機(jī)溶劑的消耗。
下面將參考圖3描述根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置110， 圖3示出第二實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置110。在圖3中，磁盤部件清潔裝 置110與HSA組裝線1的接合和磁盤部件清潔裝置110與HDA組裝線3的 接合被省略。第二實(shí)施例的;茲盤部件清潔裝置110可直接連接到這些組裝線。
如圖3所示，第二實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置110具有能繞垂直軸轉(zhuǎn)動(dòng) 的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112。從HSA組裝線1傳送的HSA分別保持在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112的 相對端部。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112的相對端部之間的距離可以為例如600mm左右。 支撐旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112的支撐構(gòu)件114豎直向下移動(dòng)旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112到預(yù)定位置 116。在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112到達(dá)預(yù)定位置116時(shí)，保持HSA的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112開始 繞預(yù)定位置116轉(zhuǎn)動(dòng)。
在磁盤部件清潔裝置110中，沿旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)112轉(zhuǎn)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)路線逆時(shí)針依 次布置冷卻圏120、加壓噴淋單元122、超聲清潔槽124、熱空氣干燥單元 126和冷卻圈128。保持HSA的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)112繞預(yù)定位置116逆時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)以 使HSA順序經(jīng)歷一系列處理，即加壓噴淋單元122的局部清潔工藝，超聲 清潔槽124中的清潔HSA的清潔工藝，以及熱空氣干燥單元126干燥HSA 的干燥工藝。設(shè)置在開放空間中的冷卻圈120和128使填充磁盤部件清潔裝 置110的清潔液蒸汽冷卻并回收液化的清潔液以防止有機(jī)溶劑通過揮發(fā)而損 失。
第二實(shí)施例的^f茲盤部件清潔裝置110能減少HSA清潔工藝的生產(chǎn)線節(jié) 拍，能提高清潔效率并能以減小的占地空間安裝。
參考圖4描述根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置210，圖4示 出第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置210的構(gòu)造。在圖4中，磁盤部件清潔裝 置210與HSA組裝線1的接合和^茲盤部件清潔裝置210與HDA組裝線3的 接合被省略。第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置210可直接連接到這些組裝線。
如圖4所示，第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置210包括順序經(jīng)過超聲清 潔槽212、噴淋清潔槽214和熱空氣干燥槽216的帶式輸送機(jī)220。帶式輸
ii送機(jī)220具有帶222，帶222順時(shí)針轉(zhuǎn)動(dòng)以將放置在其上的HSA順序運(yùn)送到 超聲清潔槽212、噴淋清潔槽214和熱空氣干燥槽216。冷卻圈230設(shè)置在 帶式輸送機(jī)220上方。冷卻圈230使清潔液的蒸汽液化以回收清潔液并防止 有機(jī)溶劑的揮發(fā)損失。
第三實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置210構(gòu)造簡單，便于連續(xù)清潔HSA,且 能提高清潔工藝的效率。
參考圖5描述根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置310，圖5 — 般地示出第四實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置310的特性構(gòu)造。
如圖5所示，第四實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置310設(shè)置有能保持多個(gè) HSA的環(huán)形旋轉(zhuǎn)構(gòu)件312。如圖5的A圖所示，保持多個(gè)HSA的環(huán)形旋轉(zhuǎn) 構(gòu)件312浸入清潔槽中容納的有機(jī)溶劑中，接著與環(huán)形旋轉(zhuǎn)構(gòu)件312連接的 旋轉(zhuǎn)軸314被旋轉(zhuǎn)從而同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)HSA來旋轉(zhuǎn)清潔。在HSA被清潔之后，環(huán) 形旋轉(zhuǎn)構(gòu)件312從清潔槽升起，如圖5的B圖所示。此后，旋轉(zhuǎn)構(gòu)件312被 旋轉(zhuǎn)以同時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)HSA來旋轉(zhuǎn)干燥。
第四實(shí)施例的能同時(shí)清潔和干燥多個(gè)HSA的^f茲盤部件清潔裝置310能 夠提高清潔工藝的效率。旋轉(zhuǎn)干燥能實(shí)現(xiàn)與熱空氣干燥一樣的有效干燥。
參考圖6描述根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置，圖6—般地 示出用于清潔工藝400的特性運(yùn)送路徑。
在第一實(shí)施例的磁盤部件清潔裝置10中，將HSA從接收單元12線性 運(yùn)送到遠(yuǎn)離接收單元12的輸送單元14。在第五實(shí)施例的》茲盤部件清潔裝置 中，用于清潔工藝的運(yùn)送路徑形成為環(huán)形，如圖6所示，接收單元和輸送單 元處于相同位置或相鄰地設(shè)置。因此，^磁盤部件清潔裝置能安裝在窄的占地 空間(floor space)中，磁盤部件清潔裝置的布置的靈活性也能得到提高。
將參考圖7和8描述根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的HSA清潔工藝。此清潔 工藝單獨(dú)地關(guān)閉用于清潔和干燥的處理槽以有效地執(zhí)行清潔工藝。圖7為清 潔工藝的流程圖，圖8為用于通過清潔工藝清潔HSA的^f茲盤部件清潔裝置 510的示意圖。
首先，HSA被運(yùn)送到清潔槽512中，接著密封閘板(shutter) 514關(guān)閉 以密封清潔槽512 (S101)。清潔槽512被抽氣至0.1-10 kPa之間的壓強(qiáng) (S102),然后進(jìn)行超聲清潔和噴^^清潔(S103)。類似于前述實(shí)施例，此實(shí) 施例使用能高效干燥的有機(jī)溶劑作為清潔液。然后，密封閘板514打開，清潔的HSA轉(zhuǎn)移到干燥槽516，然后密封閘板514和密封閘板518關(guān)閉以密封 干燥槽(S104)。然后，干燥槽516被抽氣到0.1-10 kPa之間的壓強(qiáng)(S105) 從而迅速干燥HSA (S106)。干燥工藝的干燥速度可通過向HSA吹干燥壓 縮空氣而提高。HSA在干燥槽516中干燥之后，關(guān)閉的閘板518打開以將干 燥槽516設(shè)定為大氣壓強(qiáng)，冷卻圈520被移動(dòng)以液化容納在干燥槽516中的 清潔液的蒸汽并回收蒸發(fā)的清潔液(S107)。用于將干燥槽516內(nèi)部設(shè)定為 大氣壓強(qiáng)的加壓氣體可以是空氣或不活潑氣體例如氮?dú)狻e氣或Ar氣。
第六實(shí)施例的磁盤驅(qū)動(dòng)器部件清潔方法和磁盤部件清潔裝置510單獨(dú)地 密封處理槽。因此，工藝能分別在處理槽中同時(shí)進(jìn)行，能減小高揮發(fā)性有機(jī) 溶劑的揮發(fā)損失。通過抽空用于干燥HSA的密封干燥槽516以在減小的壓 強(qiáng)下干燥，能迅速干燥HSA。由于磁盤部件清潔裝置510的處理槽垂直布置， 所以磁盤部件清潔裝置510能安裝在窄的占地空間中。
本發(fā)明在實(shí)際應(yīng)用中不限于前述實(shí)施例。雖然在前述實(shí)施例中》茲盤部件 清潔裝置直接連接到HSA組裝線和HDA組裝線兩者，但是磁盤部件清潔裝 置可以直接連接到HSA組裝線和HDA組裝線中的任一個(gè)。；磁盤部件清潔裝 置能以開放構(gòu)造形成。對本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是在不脫離本發(fā)明的精 神和范圍的情況下，可以對在此具體描述的前述實(shí)施例作出各種改變和變 化。
權(quán)利要求
1. 一種清潔裝置，其被并入到磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線中以清潔包括在磁盤驅(qū)動(dòng)器中的頭堆疊組件，該清潔裝置設(shè)置在用于組裝所述頭堆疊組件的第一組裝線與用于組裝包括所述頭堆疊組件的頭盤組件的第二組裝線之間，且直接連接到所述第一組裝線和所述第二組裝線的至少之一。
2. 如權(quán)利要求1所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，還包括清潔單元，用預(yù)定清潔液清潔所述頭堆疊組件；干燥單元，用于干燥被所述清潔單元清潔的所述頭堆疊組件；以及運(yùn)送裝置，用于將所述頭堆疊組件運(yùn)送到所述清潔單元和所述干燥單元。
3. 如權(quán)利要求2所述的用于清潔》茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述清潔單元包括第一清潔單元和第二清潔單元，所述第一清潔單元用于在所述頭堆疊組件上噴淋預(yù)定清潔液，所述第二清潔單元通過將所述頭堆疊組件浸在清潔槽容納的預(yù)定清潔液中來清潔所述頭堆疊組件，所述運(yùn)送裝置將所述頭堆疊組件運(yùn)送到所述第一清潔單元、所述第二清潔單元和所述干燥單元。
4. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中當(dāng)所述運(yùn)送裝置運(yùn)送所述頭堆疊組件時(shí)，所述頭堆疊組件被干燥。
5. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，還包括臂，用于拾取從所述第一組裝線輸送的頭堆疊組件且用于豎直地移動(dòng)所拾取的頭堆疊組件，其中所述第一清潔單元和所述第二清潔單元設(shè)置得在水平方向上彼此接近，所拾取的頭堆疊組件被所述運(yùn)送裝置和所述臂運(yùn)送到所述第一清潔單元和所述第二清潔單元，被干燥的頭堆疊組件被輸送到所述第二組裝線。
6. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，還包括旋轉(zhuǎn)坤幾構(gòu)，用于保持至少一個(gè)所述頭堆疊組件且用于繞經(jīng)過預(yù)定支撐位置的垂直軸轉(zhuǎn)動(dòng)由所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)保持的所述頭堆疊組件，其中沿著該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)沿其轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)路徑布置所述第 一清潔單元、所述第二清潔單元和所述干燥單元，通過轉(zhuǎn)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述運(yùn)送裝置將所述頭堆疊組件運(yùn)送到所述第一清潔單元、所述第二清潔單元和所述干燥單元。
7. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔,茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述運(yùn)送裝置包括帶式輸送機(jī)，用于將所述頭堆疊組件運(yùn)送到所述第一清潔單元、所述第二清潔單元和所述干燥單元。
8. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，還包括旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，用于保持多個(gè)頭堆疊組件且用于以預(yù)定方向繞預(yù)定位置轉(zhuǎn)動(dòng)被所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)保持的所述頭堆疊組件，其中通過轉(zhuǎn)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述第二清潔單元同時(shí)清潔所述多個(gè)頭堆疊組件，通過轉(zhuǎn)動(dòng)所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，所述干燥單元同時(shí)干燥所述多個(gè)頭堆疊組件。
9. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中形成環(huán)形運(yùn)送路徑以順序經(jīng)過所述第一清潔單元、所述第二清潔單元和所述干燥單元。
10. 如權(quán)利要求2所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述預(yù)定清潔液是有機(jī)溶劑。
11. 如權(quán)利要求IO所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述有機(jī)溶劑是碳氟化合物溶劑。
12. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述第一清潔單元對所述預(yù)定清潔液加壓，且在所述頭堆疊組件的預(yù)定部件上噴淋所述加壓的清潔液以用于清潔。
13. 如權(quán)利要求3所述的用于清潔-茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述清潔槽設(shè)置有超聲振動(dòng)器，所述第二清潔單元利用所述超聲振動(dòng)器通過超聲清潔工藝來清潔所述頭堆疊組件。
14. 如權(quán)利要求2所述的用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，其中所述清潔單元具有開放的上端，用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件端所述清潔裝置是開放結(jié)構(gòu)。
15. 如權(quán)利要求2所述的用于清潔》茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置，還包括清潔液回收裝置，用于回收用于清潔-茲盤驅(qū)動(dòng)器的部件的所述清潔裝置中蒸發(fā)的所述預(yù)定清潔液，并用所回收的清潔液補(bǔ)充所述清潔單元。
16. —種清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔方法，包括步驟將頭堆疊組件運(yùn)送到清潔單元且密封所述清潔單元； 對所述密封的清潔單元抽真空；在所述抽真空的清潔單元中用包含有機(jī)溶劑的預(yù)定清潔液清潔所述頭 堆疊組件；將被清潔的頭堆疊組件運(yùn)送到干燥單元中并密封所述干燥單元； 對所述密封的干燥單元進(jìn)行抽真空；以及 在所述抽真空的干燥單元中干燥所述頭堆疊組件。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于清潔磁盤驅(qū)動(dòng)器的部件的清潔裝置和清潔方法。該清潔裝置被并入到磁盤驅(qū)動(dòng)器制造線中以清潔包括在磁盤驅(qū)動(dòng)器中的頭堆疊組件，該清潔裝置設(shè)置在用于組裝所述頭堆疊組件的第一組裝線與用于組裝包括所述頭堆疊組件的頭盤組件的第二組裝線之間，且直接連接到所述第一組裝線和所述第二組裝線的至少之一。
文檔編號(hào)G11B5/41GK101471077SQ20081019066
公開日2009年7月1日 申請日期2008年12月26日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月26日
發(fā)明者關(guān)口和哉, 太田勝啟, 山本洋和, 杉本博幸, 橋亞紀(jì)子, 神林琢也, 菓子未映子, 陳岡敏典 申請人:日立環(huán)球儲(chǔ)存科技荷蘭有限公司