本發(fā)明涉及真空滅弧室金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，該工藝不依賴酸進(jìn)行清洗，避免了清洗后的化學(xué)制劑難以回收，污染環(huán)境的缺陷。
背景技術(shù)：
真空滅弧室，又名真空開(kāi)關(guān)管，是中高壓電力開(kāi)關(guān)的核心部件，主要由氣密絕緣外殼、導(dǎo)電回路、屏蔽系統(tǒng)、觸頭、波紋管等部分組成。通過(guò)管內(nèi)真空優(yōu)良的絕緣性使中高壓電路切斷電源后能迅速熄弧并抑制電流，避免事故和意外的發(fā)生，主要應(yīng)用于電力的輸配電控制系統(tǒng)，還應(yīng)用于冶金、礦山、石油、化工、鐵路、廣播、通訊、工業(yè)高頻加熱等配電系統(tǒng)。具有節(jié)能、節(jié)材、防火、防爆、體積小、壽命長(zhǎng)、維護(hù)費(fèi)用低、運(yùn)行可靠和無(wú)污染等特點(diǎn)。
對(duì)真空滅弧室的清洗工作，目前廣泛采用有酸清洗工藝，有酸清洗的特點(diǎn)就是工藝步驟較多，過(guò)程相對(duì)復(fù)雜，耗時(shí)長(zhǎng)，并且清洗后的化學(xué)制劑會(huì)造成難以回收，污染環(huán)境的技術(shù)問(wèn)題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
有鑒于此，本發(fā)明提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，該真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝不依賴酸進(jìn)行清洗，以高壓水去除真空滅弧室中的鋼鐵原件表面的粉塵或是化學(xué)污垢，工藝簡(jiǎn)單，后處理方便易于工業(yè)化，且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
本發(fā)明提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，步驟包括：
(1)采用高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗；
(2)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行研磨拋光的同時(shí)進(jìn)行清洗；
(3)水洗脫水后，將真空滅弧室零件進(jìn)行真空高溫凈化。
本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明不依賴酸進(jìn)行清洗，利用水密度大、沖蝕力強(qiáng)等特點(diǎn)，直接采用高壓水去除真空滅弧室中的鋼鐵原件表面的粉塵或是化學(xué)污垢，配合后續(xù)機(jī)械研磨清洗拋光、真空高溫凈化等工藝步驟，達(dá)到零件表面處理的工藝要求，工藝簡(jiǎn)單，后處理方便易于工業(yè)化，且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，步驟包括：
(1)采用高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗；
(2)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行研磨拋光的同時(shí)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行清洗；
(3)水洗脫水后，將真空滅弧室零件進(jìn)行真空高溫凈化。
優(yōu)選的，步驟(1)所述高壓水為壓力0.6—1MPa的高壓水。
酸洗為電真空行業(yè)最基本加工工藝，主要目的是去除零件表面的氧化物、去油后的殘留油污、化合物等。但清洗后的化學(xué)制劑難以回收，污染環(huán)境，后處理復(fù)雜，工藝繁瑣。本工藝通過(guò)特定壓力的高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗，在不依賴酸進(jìn)行清洗的情況下達(dá)到相近的清洗效果，進(jìn)一步配合后續(xù)機(jī)械研磨清洗拋光、真空高溫凈化，省略了酸洗步驟的同時(shí)達(dá)到了真空滅弧室零件表面處理的工藝要求，有效簡(jiǎn)化了目前采用的酸洗工藝，清洗效果良好且易于工業(yè)化。
更加優(yōu)選的，步驟(1)所述真空滅弧室零件包括動(dòng)端蓋、靜端蓋、波紋保護(hù)罩。
優(yōu)選的，步驟(2)所述研磨拋光時(shí)間為1.5-2.5小時(shí)。
更加優(yōu)選的，步驟(2)所述清洗采用中性清洗劑、拋光劑的水溶液對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行清洗。
優(yōu)選的，步驟(3)所述真空高溫凈化的溫度為900-1100℃，凈化時(shí)間為1.5-2.5小時(shí)。
下面將結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝予以進(jìn)一步說(shuō)明。下面描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。
下述實(shí)施例中的實(shí)驗(yàn)方法，如無(wú)特殊說(shuō)明，均為常規(guī)方法。下述實(shí)施例中所用的實(shí)驗(yàn)材料如無(wú)特殊說(shuō)明，均為市場(chǎng)購(gòu)買(mǎi)得到。
實(shí)施例1
本實(shí)施例提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，工藝流程為：高壓水沖洗—機(jī)械研磨清洗拋光—水洗—脫水—真空高溫凈化。
具體工藝步驟包括：
(1)高壓水沖洗：采用高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗；所述高壓水壓力為0.6MPa，對(duì)動(dòng)端蓋、靜端蓋、波紋保護(hù)罩等零件表面進(jìn)行全方位的沖洗，去除真空滅弧室中的鋼鐵原件表面的粉塵以及化學(xué)污垢，沖洗時(shí)長(zhǎng)為1小時(shí)。
(2)機(jī)械研磨清洗拋光：高壓水沖洗完畢后，開(kāi)啟振動(dòng)拋光機(jī)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行機(jī)械研磨拋光的同時(shí)采用中性清洗劑、拋光劑的水溶液對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行清洗，拋光清洗同步進(jìn)行，時(shí)長(zhǎng)為1.5小時(shí)。
(3)拋光結(jié)束后，在28kHz、功率0.5W/cm2條件下進(jìn)行超聲波水洗并脫水。
(4)真空高溫凈化：脫水完畢后，將真空滅弧室零件在溫度為1100℃，凈化時(shí)間為2.5小時(shí)的條件下進(jìn)行真空高溫凈化。
采用以上工藝進(jìn)行真空滅弧室清洗，不采用任何化學(xué)試劑，工藝簡(jiǎn)單易于實(shí)施，減少耗時(shí)提高清洗效率，清洗效果良好且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
實(shí)施例2
本實(shí)施例提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，工藝流程為：高壓水沖洗—機(jī)械研磨清洗拋光—水洗—脫水—真空高溫凈化。
具體工藝步驟包括：
(1)高壓水沖洗：采用高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗；所述高壓水壓力為1MPa，對(duì)動(dòng)端蓋、靜端蓋、波紋保護(hù)罩等零件表面進(jìn)行全方位的沖洗，去除真空滅弧室中的鋼鐵原件表面的粉塵以及化學(xué)污垢，沖洗時(shí)長(zhǎng)為0.8小時(shí)。
(2)機(jī)械研磨清洗拋光：高壓水沖洗完畢后，開(kāi)啟振動(dòng)拋光機(jī)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行機(jī)械研磨拋光的同時(shí)采用中性清洗劑、拋光劑的水溶液對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行清洗，拋光清洗同步進(jìn)行，時(shí)長(zhǎng)為2小時(shí)。
(3)拋光結(jié)束后，在28kHz、功率0.8W/cm2條件下進(jìn)行超聲波水洗并脫水。
(4)真空高溫凈化：脫水完畢后，將真空滅弧室零件在溫度為1000℃，凈化時(shí)間為2小時(shí)的真空條件下進(jìn)行真空高溫凈化。
采用以上工藝進(jìn)行真空滅弧室清洗，清洗效果與實(shí)施例1基本相同，不采用任何化學(xué)試劑，工藝簡(jiǎn)單易于實(shí)施，減少耗時(shí)提高清洗效率，清洗效果良好且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
實(shí)施例3
本實(shí)施例提供了一種真空滅弧室的無(wú)酸清洗工藝，工藝流程為：高壓水沖洗—機(jī)械研磨清洗拋光—水洗—脫水—真空高溫凈化。
具體工藝步驟包括：
(1)高壓水沖洗：采用高壓水對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行沖洗；所述高壓水壓力為0.7MPa，對(duì)動(dòng)端蓋、靜端蓋、波紋保護(hù)罩等零件表面進(jìn)行全方位的沖洗，去除真空滅弧室中的鋼鐵原件表面的粉塵以及化學(xué)污垢，沖洗時(shí)長(zhǎng)為1小時(shí)。
(2)機(jī)械研磨清洗拋光：高壓水沖洗完畢后，開(kāi)啟振動(dòng)拋光機(jī)對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行機(jī)械研磨拋光的同時(shí)采用中性清洗劑、拋光劑的水溶液對(duì)真空滅弧室零件進(jìn)行清洗，拋光清洗同步進(jìn)行，時(shí)長(zhǎng)為2小時(shí)。
(3)拋光結(jié)束后，在28kHz、功率0.8W/cm2條件下進(jìn)行超聲波水洗并脫水。
(4)真空高溫凈化：脫水完畢后，將真空滅弧室零件在溫度為1000℃，凈化時(shí)間為1.5小時(shí)的真空條件下進(jìn)行真空高溫凈化。
采用以上工藝進(jìn)行真空滅弧室清洗，清洗效果與實(shí)施例1基本相同，不采用任何化學(xué)試劑，工藝簡(jiǎn)單易于實(shí)施，減少耗時(shí)提高清洗效率，清洗效果良好且不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。