專利名稱：染料收集盤的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種收集盤，特別涉及一種用來(lái)收集光盤片的染料的染料收集盤。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，使用光盤片來(lái)儲(chǔ)存數(shù)據(jù)已經(jīng)變得越來(lái)越普及。其中，可錄式光盤與可覆寫式光盤可以讓使用者自行儲(chǔ)存數(shù)據(jù)，所以其需求量始終相當(dāng)可觀。在可錄式光盤中，最重要的部分是其記錄層，其通常是利用旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)過(guò)程將有機(jī)染料形成于光盤基板上。
在進(jìn)行上述旋轉(zhuǎn)涂布過(guò)程之后，當(dāng)檢測(cè)到涂布有記錄層的光盤基板不合規(guī)格時(shí)，例如該記錄層的均勻度不足時(shí)，必須將不合規(guī)格的光盤基板丟棄，如此一來(lái)，一方面會(huì)造成原料(包括光盤基板及有機(jī)染料)的浪費(fèi)，另一方面廢棄的光盤基板上的有機(jī)染料會(huì)造成環(huán)境污染。因此，在丟棄或回收光盤基板之前，通常會(huì)利用光盤清洗設(shè)備將光盤基板上的有機(jī)染料清洗回收。如圖1所示，已知的光盤清洗設(shè)備1包括一個(gè)清洗液注入單元11、一個(gè)染料收集盤12、以及一個(gè)馬達(dá)13。其中，染料收集盤12包括一個(gè)收集底盤121、一個(gè)光盤托盤123、以及一個(gè)上蓋125；清洗液注入單元11的噴嘴111與光盤托盤123相對(duì)而設(shè)，而馬達(dá)13的轉(zhuǎn)軸131穿過(guò)收集底盤121并延伸至光盤托盤123的中央。如上所述，當(dāng)對(duì)光盤基板上的有機(jī)染料進(jìn)行清洗時(shí)，首先將待清洗的光盤基板2置放于光盤托盤123上方，并將光盤基板2的中央開口套置于馬達(dá)13的轉(zhuǎn)軸131的一端，然后啟動(dòng)馬達(dá)13，由轉(zhuǎn)軸131帶動(dòng)光盤基板2旋轉(zhuǎn)，此時(shí)清洗液113會(huì)由噴嘴111噴射至光盤基板2上，以便清洗光盤基板2上的有機(jī)染料21。如上所述，由于光盤基板2被帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)，所以清洗液113能夠均勻地清洗光盤基板2上的有機(jī)染料21，并因離心力作用而被向外甩出至收集底盤121之側(cè)壁上，進(jìn)而將有機(jī)染料21容置于收集底盤121中以便回收之用。
然而，當(dāng)收集底盤121中容納了一定量的回收有機(jī)染料時(shí)，必須中斷光盤清洗設(shè)備1的運(yùn)行，然后將整個(gè)染料收集盤12卸下，進(jìn)而取出收集底盤121中的回收有機(jī)染料，如此一來(lái)，將會(huì)降低光盤清洗設(shè)備1的工作效率；另外，收集底盤121內(nèi)必須進(jìn)一步經(jīng)過(guò)清潔后，才能將整個(gè)染料收集盤12放回光盤清洗設(shè)備1中，其結(jié)果會(huì)增加光盤清洗設(shè)備1的停機(jī)時(shí)間，從而影響了制造成本。
因此，如何提供一種在回收有機(jī)染料時(shí)能夠加快有機(jī)染料回收過(guò)程以減少光盤清洗設(shè)備的停機(jī)時(shí)間，并且能夠方便地進(jìn)行清洗的染料收集盤，是當(dāng)前光盤制造業(yè)面臨的問(wèn)題之一。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠拆卸以加快有機(jī)染料回收過(guò)程的染料收集盤。
本實(shí)用新型的另一個(gè)目的是提供一種能夠方便地進(jìn)行清洗的染料收集盤。
為完成上述目的，根據(jù)本實(shí)用新型的染料收集盤包括一個(gè)收集底盤、一個(gè)收集內(nèi)盤、一個(gè)光盤托盤、以及一個(gè)蓋體。在本實(shí)用新型中，收集底盤具有一個(gè)位于收集底盤中央的穿孔和一個(gè)內(nèi)盤容置部件，內(nèi)盤容置部件為環(huán)狀并設(shè)置于穿孔周圍；收集內(nèi)盤置于內(nèi)盤容置部件之中，是可拆卸的，并具有一個(gè)環(huán)狀的染料收集空間；光盤托盤置于收集內(nèi)盤上方并具有一個(gè)光盤承載部件，而光盤托盤的中央與穿孔相對(duì)而設(shè)；蓋體設(shè)置于光盤托盤上方以覆蓋收集內(nèi)盤及收集底盤，并暴露出光盤承載部件。
如上所述，因?yàn)楦鶕?jù)本實(shí)用新型的染料收集盤在收集底盤內(nèi)加設(shè)了一個(gè)收集內(nèi)盤，所以當(dāng)利用本實(shí)用新型的染料收集盤進(jìn)行光盤片沖洗以回收有機(jī)染料時(shí)，僅需拆卸此收集內(nèi)盤，甚至只需更換收集內(nèi)盤，因此能夠加快有機(jī)染料的回收過(guò)程以減少光盤清洗設(shè)備的停機(jī)時(shí)間。另外，由于收集底盤內(nèi)加設(shè)了一個(gè)收集內(nèi)盤，所以回收的有機(jī)染料不會(huì)污染到收集底盤，因此操作者僅需清洗拆卸下來(lái)的收集內(nèi)盤即可，故能夠方便染料收集盤的清洗動(dòng)作，進(jìn)而能夠加快過(guò)程時(shí)間以及節(jié)省成本。


圖1為已知的光盤清洗設(shè)備的示意圖；圖2為根據(jù)本實(shí)用新型較一個(gè)佳實(shí)施例的染料收集盤的示意圖；圖3為如圖2所示的染料收集盤的分解圖；圖4為根據(jù)本實(shí)用新型的另一個(gè)較佳實(shí)施例的染料收集盤的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面參照附圖，說(shuō)明根據(jù)本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例的染料收集盤，其中相同的組件單元以相同的數(shù)字標(biāo)示如圖2與圖3所示，根據(jù)本實(shí)用新型較佳實(shí)施例的染料收集盤3包括一個(gè)收集底盤31、一個(gè)收集內(nèi)盤32、一個(gè)光盤托盤33以及一個(gè)蓋體34。
收集底盤31具有一個(gè)穿孔311以及一個(gè)內(nèi)盤容置部件313，穿孔311位于收集底盤31的中央，而內(nèi)盤容置部件313為環(huán)狀并設(shè)置于穿孔311周圍。在本實(shí)施例中，穿孔311可以讓馬達(dá)的轉(zhuǎn)軸(圖中未顯示)穿過(guò)，而內(nèi)盤容置部件313是用以容置收集內(nèi)盤32。
收集內(nèi)盤32是可拆卸地設(shè)置于內(nèi)盤容置部件313之中，且其具有一個(gè)環(huán)狀的染料收集空間321。在本實(shí)施例中，染料收集空間321用以容納形成于光盤基板上的染料，而且此染料是在光盤清洗過(guò)程中，從光盤基板上的記錄層被沖洗下來(lái)的物質(zhì)。
光盤托盤33設(shè)置于收集內(nèi)盤32的上方，且光盤托盤33的中央與穿孔311相對(duì)而設(shè)。在本實(shí)施例中，光盤托盤33上具有一個(gè)光盤承載部件331，而馬達(dá)的轉(zhuǎn)軸(圖中未顯示)延伸穿過(guò)光盤托盤33的中央，待處理的光盤基板被設(shè)置于光盤承載部件的上方，且其中央開口套置于馬達(dá)轉(zhuǎn)軸的一端，因此，當(dāng)馬達(dá)啟動(dòng)時(shí)，馬達(dá)的轉(zhuǎn)軸能夠帶動(dòng)光盤基板旋轉(zhuǎn)。
蓋體34設(shè)置于光盤托盤33的上方以覆蓋收集內(nèi)盤32及收集底盤31，并暴露出光盤承載部件331。換句話說(shuō)，當(dāng)一個(gè)光盤基板設(shè)置于光盤承載部件331之上時(shí)，光盤基板上的記錄層能夠被暴露出來(lái)，以便用噴嘴將清洗液噴向此記錄層，進(jìn)行光盤清洗。
除此之外，收集底盤31可以進(jìn)一步包括一個(gè)排風(fēng)部件315，如圖4所示，其設(shè)置于穿孔311與內(nèi)盤容置部件313之間。在本實(shí)施例中，排風(fēng)部件315處會(huì)形成負(fù)壓，因此會(huì)導(dǎo)致在收集內(nèi)盤32的染料收集空間321中產(chǎn)生氣流，氣流方向如箭頭C所示，其結(jié)果是，可以加速排出染料收集空間321中的揮發(fā)性溶劑(即揮發(fā)的清洗液)，以便在染料收集空間321中留下需回收的染料。
值得提出的是，根據(jù)本實(shí)用新型的染料收集盤進(jìn)一步可以應(yīng)用在形成記錄層的旋轉(zhuǎn)涂布過(guò)程中，此時(shí)，收集內(nèi)盤的染料收集空間所容納的染料可以是形成記錄層時(shí)過(guò)剩的物質(zhì)。
綜上所述，因?yàn)楦鶕?jù)本實(shí)用新型的染料收集盤設(shè)有一個(gè)位于收集底盤內(nèi)的收集內(nèi)盤，所以當(dāng)利用本實(shí)用新型的染料收集盤進(jìn)行光盤清洗時(shí)，僅需拆卸此收集內(nèi)盤，甚至可以利用更換收集內(nèi)盤的方式來(lái)回收有機(jī)染料，因此能夠加快光盤清洗過(guò)程及回收有機(jī)染料的速度，以減少光盤清洗設(shè)備的停機(jī)時(shí)間；另外，由于收集底盤內(nèi)加設(shè)了一個(gè)收集內(nèi)盤，所以回收的有機(jī)染料不會(huì)污染到收集底盤，因此操作者在清潔染料收集盤時(shí)僅需清洗拆卸下來(lái)的收集內(nèi)盤即可，故能夠方便染料收集盤的清洗動(dòng)作，進(jìn)而能夠加快過(guò)程時(shí)間及節(jié)省成本。
以上所述僅為舉例，不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。任何未脫離本實(shí)用新型的精神與范圍，而對(duì)其進(jìn)行的等效的修改或變更，均應(yīng)包含于本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍中。
權(quán)利要求1.一種染料收集盤，其特征在于具有一個(gè)收集底盤，包括一個(gè)穿孔以及一個(gè)內(nèi)盤容置部件，該穿孔位于該收集底盤的中央，該內(nèi)盤容置部件為環(huán)狀并設(shè)置于該穿孔周圍；一個(gè)收集內(nèi)盤，置于該內(nèi)盤容置部件之中，是可拆卸的，并具有一個(gè)環(huán)狀的染料收集空間；一個(gè)光盤托盤，其設(shè)置于該收集內(nèi)盤的上方并具有一個(gè)光盤承載部件，且該光盤托盤的中央與該穿孔相對(duì)而設(shè)；一個(gè)蓋體，其設(shè)置于該光盤托盤的上方以覆蓋該收集內(nèi)盤及該收集底盤，并暴露出該光盤承載部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染料收集盤，其特征在于與一個(gè)馬達(dá)配合，而該馬達(dá)的轉(zhuǎn)軸穿過(guò)該穿孔，并延伸至該光盤托盤的中央，以便帶動(dòng)一個(gè)設(shè)置于該光盤托盤上方的光盤基板旋轉(zhuǎn)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染料收集盤，其特征在于該光盤托盤的光盤承載部件被用以承載一個(gè)光盤基板，而該染料收集空間用以容納涂布于該光盤基板上的染料。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染料收集盤，其特征在于該染料收集空間所容納的該染料為該光盤基板上的一個(gè)記錄層被沖洗下來(lái)的物質(zhì)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的染料收集盤，其特征在于該染料收集空間所容納之該染料為形成位于該光盤基板上的一個(gè)記錄層時(shí)過(guò)剩的物質(zhì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的染料收集盤，其特征在于該收集底盤進(jìn)一步包含一個(gè)排風(fēng)部件，其設(shè)置于該穿孔與該內(nèi)盤容置部件之間。
專利摘要一種染料收集盤，包括一個(gè)收集底盤、一個(gè)收集內(nèi)盤、一個(gè)光盤托盤、以及一個(gè)蓋體。其中，收集底盤具有一個(gè)位于其中央的穿孔和一個(gè)內(nèi)盤容置部件，內(nèi)盤容置部件為環(huán)狀并置于穿孔周圍；收集內(nèi)盤置于內(nèi)盤容置部件之中，是可拆卸的，并具有一個(gè)環(huán)狀的染料收集空間；光盤托盤置于收集內(nèi)盤上方并具有一個(gè)光盤承載部件，而光盤托盤的中央與穿孔相對(duì)而設(shè)；蓋體設(shè)置于光盤托盤上方以覆蓋收集內(nèi)盤及收集底盤，并暴露出光盤承載部件。
文檔編號(hào)C02F1/00GK2652542SQ200320100338
公開日2004年11月3日 申請(qǐng)日期2003年10月10日 優(yōu)先權(quán)日2003年10月10日
發(fā)明者陳志華, 李建勛 申請(qǐng)人:精碟科技股份有限公司