本發(fā)明涉及一種模具內(nèi)定位裝置。

背景技術(shù)：

對于過往模具，定位方式單一，產(chǎn)品嵌件模內(nèi)定位不準，注射成型時嵌件會產(chǎn)生沖擊偏移，嚴重影響產(chǎn)品功能，不能滿足客戶性能要求，制造成本高(不良率高)，無法適應(yīng)低成本的市場需求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種模具內(nèi)定位裝置，定位精準，從而滿足客戶的性能要求，進而擴大市場占有率,零件數(shù)量少，加工簡單，可降低制造成本。

為達到上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案是：

一種模具內(nèi)定位裝置，安裝于公模模塊內(nèi)，所述公模模塊中央設(shè)一安裝通孔；其包括，兩定位抓手，成對角設(shè)置于所述公模模塊中央的安裝通孔內(nèi)，對應(yīng)的，所述公模模塊中央的安裝通孔的對角處設(shè)供兩定位抓手設(shè)置的凹槽，該兩凹槽底部軸線與安裝通孔軸線成一角度，該兩凹槽相對的開口形成上大下小結(jié)構(gòu)；定位抓手背面下部設(shè)限位凹槽；兩定位抓手相對的內(nèi)側(cè)面上部設(shè)與芯片外端形狀相匹配的定位凹槽；吸盤模塊，設(shè)置于所述兩定位抓手之間；吸盤模塊相對所述兩定位抓手的另外兩個角部下設(shè)限位槽；兩行程定位塊，設(shè)置于兩定位抓手背面下部，行程定位塊包括，一固定座，設(shè)置于所述公模模塊中央安裝通孔內(nèi)，固定座上端面靠近所述定位抓手背面一側(cè)設(shè)凹槽；一定位塊，設(shè)置于所述固定座凹槽，其一側(cè)外伸于固定座，并插入所述定位抓手背面下部的限位凹槽；定位塊通過螺栓連接于固定座；定位塊厚度小于限位凹槽長度；兩彈簧，設(shè)置于所述兩定位抓手底部；兩吸盤定位塊，設(shè)置于所述吸盤模塊兩個角部下的限位槽。

本發(fā)明的有益效果：

現(xiàn)有技術(shù)的模具定位方式單一，且有嚴重的嵌件偏移，嚴重影響產(chǎn)品功能，不能滿足客戶性能要求，制造成本高(不良率高)，無法適應(yīng)低成本的市場需求。

本發(fā)明結(jié)構(gòu)嵌件定位精準，從而滿足客戶的性能要求，進而擴大市場占有率，零件數(shù)量少，加工簡單，從而降低制造成本。

本發(fā)明模具內(nèi)抓手定位裝置采用強力真空吸合定位，其是針對產(chǎn)品嵌件做的模內(nèi)精準定位，以便注射成型時嵌件不會產(chǎn)生沖擊偏移。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例的立體分解圖。

圖2為本發(fā)明實施例的立體圖。

圖3為圖2的俯視圖。

圖4為圖2的仰視圖。

圖5為本發(fā)明實施例的立體圖。

圖6為圖5的立體分解圖。

具體實施方式

參見圖1～圖6，本發(fā)明的一種模具內(nèi)定位裝置，安裝于公模模塊10內(nèi)，所述公模模塊10中央設(shè)一安裝通孔101；母模模塊20及所要抓取定位的產(chǎn)品(如電阻本體30及芯片40)，所述定位裝置包括，

兩定位抓手1、1’，成對角設(shè)置于所述公模模塊10中央的安裝通孔101內(nèi)，對應(yīng)的，所述公模模塊10中央的安裝通孔101的對角處設(shè)供兩定位抓手1、1’設(shè)置的凹槽1011、1012，該兩凹槽1011、1012底部軸線與安裝通孔101軸線成一角度，該兩凹槽1011、1012相對的開口形成上大下小結(jié)構(gòu)；定位抓手1、1’背面下部設(shè)限位凹槽11、11’；兩定位抓手1、1’相對的內(nèi)側(cè)面上部設(shè)與芯片40外端形狀相匹配的定位凹槽12、12’；

吸盤模塊2，設(shè)置于所述兩定位抓手1、1’之間；吸盤模塊2相對所述兩定位抓手1、1’的另外兩個角部下設(shè)限位槽21(以一側(cè)限位槽21為例)；

兩行程定位塊3、3’，設(shè)置于兩定位抓手1、1’背面下部，行程定位塊3(以行程定位塊3為例，下同)包括，

一固定座31，設(shè)置于所述公模模塊10中央安裝通孔101內(nèi)，固定座上端面靠近所述定位抓手1背面一側(cè)設(shè)凹槽311；

一定位塊32，設(shè)置于所述固定座31凹槽311，其一側(cè)外伸于固定座31，并插入所述定位抓手1背面下部的限位凹槽11；定位塊32通過螺栓33連接于固定座31；定位塊32厚度小于限位凹槽11長度；

兩彈簧4、4’，設(shè)置于所述兩定位抓手1、1’底部；

兩吸盤定位塊5、5’，設(shè)置于所述吸盤模塊2兩個角部下的限位槽21、21’。

需要說明的是，以上實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案而非限制。盡管參照較佳實施例對本發(fā)明進行了詳細說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當理解，可以對發(fā)明的技術(shù)方案進行修改或者等同替換，而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的范圍，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍中。