本發(fā)明屬于粉料成型技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種立式粉料成型模具。

背景技術(shù)：

PTFE作為一種性能優(yōu)良的高分子材料，其具有優(yōu)良的化學(xué)穩(wěn)定性、電絕緣性、極低的動摩擦系數(shù)、不易燃燒、耐化學(xué)腐蝕和較高的機(jī)械強(qiáng)度，廣泛的應(yīng)用于各行各業(yè)。目前通用的PTFE粉料成型模具主要由上模和下模組成，將粉料放入上模和下模圍城的膜腔中，通過上模和下模將膜腔中內(nèi)的粉料壓制成型，但此類方法使用模具成型產(chǎn)品時各部位因形狀的差異粉料填充不能保證完全均衡，因而導(dǎo)致成型后的產(chǎn)品密度不均勻，在燒結(jié)時變形而導(dǎo)致尺寸超差，成品率低。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)不足，提供一種立式粉料成型模具，能夠保證填料過程中填料均勻，避免燒結(jié)時變形而導(dǎo)致尺寸超差，提高成品率。

本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種立式粉料成型模具，包括上模和下模，在所述下模的四個側(cè)面分別設(shè)置有向外側(cè)延伸的側(cè)滑道，在所述側(cè)滑道上分別設(shè)置有側(cè)板，所述側(cè)板與下模共同包圍成膜腔，在所述膜腔的上開口處封蓋上模。

進(jìn)一步，在所述側(cè)滑道與側(cè)板之間設(shè)置有墊片。

進(jìn)一步，在所述側(cè)滑道上分別均勻設(shè)置有多個定位孔，在所述側(cè)板上設(shè)置有與定位孔對應(yīng)的通孔。

進(jìn)一步，所述側(cè)滑道上分別均勻設(shè)置有3個定位孔。

進(jìn)一步，所述側(cè)滑道水平高度低于所述下模高度。

進(jìn)一步，所述上模和下模的尺寸一致。

本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是：由于采用上述技術(shù)方案，將下模三個側(cè)面的側(cè)滑道上的側(cè)板先固定好，在將上模封蓋在膜腔的上開口處，在對下模剩下一側(cè)開口處進(jìn)行填料，因此可以保證成型后的產(chǎn)品密度均勻，燒結(jié)后產(chǎn)品變形小、外觀一致性高，提高了產(chǎn)品合格率。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明的下模結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：

1、上模 2、下模 3、側(cè)滑道

4、側(cè)板 5、膜腔 6、墊片

7、定位孔 8、通孔

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做詳細(xì)說明。

如圖1-圖2本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖所示，本發(fā)明提供一種立式粉料成型模具，包括上模1和下模2，在所述下模2的四個側(cè)面分別設(shè)置有向外側(cè)延伸的側(cè)滑道3，在所述側(cè)滑道3上分別設(shè)置有側(cè)板4，所述側(cè)板4與下模2共同包圍成膜腔5，在所述膜腔5的上開口處封蓋上模1。在所述側(cè)滑道3與側(cè)板4之間設(shè)置有墊片6。

在所述側(cè)滑道3上分別均勻設(shè)置有多個定位孔7，在所述側(cè)板4上設(shè)置有與定位孔7對應(yīng)的通孔8。

所述側(cè)滑道3上分別均勻設(shè)置有3個定位孔7。所述側(cè)滑道3水平高度低于所述下模2高度。所述上模1和下模2的尺寸一致。

本實例的工作過程：本發(fā)明提供的立式粉料成型模具在使用時，將下模2三個側(cè)面的側(cè)滑道3上的側(cè)板4先固定好，在將上模1封蓋在膜腔5的上開口處，在對下模2剩下一側(cè)膜腔5的開口處進(jìn)行填料，填料完成后在對最后一塊側(cè)板4進(jìn)行固定，因此可以保證成型后的產(chǎn)品密度均勻，燒結(jié)后產(chǎn)品變形小、外觀一致性高。

通過螺栓依次穿過通孔8和側(cè)滑道3上與通孔8對應(yīng)的定位孔7，可對側(cè)板4進(jìn)行固定，進(jìn)一步提高了PTFE板件成型的穩(wěn)定性。

如果需要制作的PTFE板件厚度較厚時，在側(cè)滑道3與側(cè)板4之間設(shè)置有墊片6，通過墊片6可調(diào)整側(cè)板4與下模2共同包圍成膜腔5的空間，通過增減墊片6的厚度，本模具可適應(yīng)不同厚度的PTFE板件使用。

側(cè)滑道3水平高度低于所述下模2高度，便于側(cè)板4與下模2共同包圍成膜腔5。

以上對本發(fā)明的一個實施例進(jìn)行了詳細(xì)說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。