專利名稱：：熱塑性薄膜的熱處理方法,熱塑性薄膜及其制造方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及適合用于偏振片、液晶顯示板用光學補償薄膜、防反射薄膜、液晶顯示裝置等中的熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其制造方法。
背景技術：
：以往，一直實施的是將熱塑性薄膜拉伸以使面內延遲、厚度方向延遲表現(xiàn)出來，并作為液晶顯示元件的相位差膜來使用，從而試圖擴大視角。特別是近年來，為了向TN液晶顯示的電視機用途展開，需要在組裝到液晶顯示裝置中時可以實現(xiàn)高對比度的相位差膜。作為相位差膜，己知有將熱塑性薄膜拉伸后得到的膜，例如進行在縱(長度)方向上拉伸的方法(縱向拉伸)、在橫(寬度)方向上拉伸的方法(橫向拉伸)或依次進行縱向拉伸和橫向拉伸的方法(依次雙軸拉伸)、同時進行縱向拉伸和橫向拉伸的方法(同時雙軸拉伸)。但是，通過這些方法，無法在組裝入液晶顯示裝置中時實現(xiàn)高對比度，具有生產率差等問題。例如，在日本特開2001-305342號公報中記載了利用單軸拉伸來制造相位差膜的方法，但通過該方法制造的相位差膜的慢軸朝向縱方向，不通過輥對輥方式進行與起偏器、偏振片的粘貼，生產率會顯著降低。因此，日本特開2007-108529號公報提出了使慢軸朝向橫方向且NZ值為0.卯1.20的薄膜。另外，日本特開2006-133720號公報通過同時進行橫向拉伸和縱向松弛，實現(xiàn)了NZ值0.9-1.1。但是，這些方法中，隨著液晶顯示裝置的畫面尺寸增大，熱處理后在畫面的中央和端部的對比度差(對比度不均)顯著存在，而且發(fā)生漏光，從而期待進行改良。
發(fā)明內容為了解決上述現(xiàn)有技術的問題，本發(fā)明的目的在于提供組裝到大型液晶顯示裝置中時在整個面上不會發(fā)生對比度差、也不會發(fā)生漏光的熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其制造方法。本發(fā)明的上述目的通過具有以下構成的本發(fā)明來實現(xiàn)。本發(fā)明的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜后，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.6~0.999下在熱處理區(qū)域中搬送，所述熱處理區(qū)域按照輥搭接長度(laplength)(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.013的方式來配置。根據[l]，其特征在于，所述輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.05~0.9。根據[1]或[2]，其特征在于，在輥上固定薄膜的兩端。根據[1][3]的任一項，其特征在于，在玻璃化轉變溫度為(Tg-20)°C(Tg+50)"C下進行熱處理。根據[1][4]的任一項，其特征在于，所述橫方向的拉伸(橫向拉伸)倍率為1.1倍3倍。根據[1][5]的任一項，其特征在于，所述熱塑性薄膜由?；w維素、環(huán)烯烴、含有內酯環(huán)的聚合物、或聚碳酸酯系聚合物構成。根據[1][6]的任一項，其特征在于，所述熱塑性薄膜是通過熔融制膜法制成的。根據mm的任一項，其特征在于，所述熱塑性薄膜的表面粗糙度(Ra)為0.005(im0.04拜。根據[1][8]的任一項，其特征在于，所述熱塑性薄膜是通過接觸輥制膜法制成的。根據[1][9]的任一項，其特征在于，所述熱處理后的熱塑性薄膜的面內延遲Re為50150nm(更優(yōu)選為7095nm)。本發(fā)明的熱塑性薄膜，其特征在于，厚度方向的延遲/面內的延遲(Rth/Re)的比值為0.5以上但小于1，在寬度方向上測定的Rth/Re比的范圍為0.01-0.1，在80。C、200小時下的熱尺寸變化為0.001%~0.3%。本發(fā)明的熱塑性薄膜，其特征在于，其是通過[1][10]任一項所述的熱塑性薄膜的熱處理方法來制備的。本發(fā)明的偏振片、液晶顯示板用光學補償薄膜、防反射膜、液晶顯示裝置，其特征在于，其使用了上述本發(fā)明的熱塑性薄膜。本發(fā)明的熱塑性薄膜的制造方法，其特征在于，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜后，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下在熱處理區(qū)域中搬送，所述熱處理區(qū)域按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.01~3的方式來配置。如上所述，根據本發(fā)明的熱塑性薄膜，不僅可以在組裝入大型液晶顯示裝置中時減小整個面上的對比度差，而且還可以抑制漏光。另外，根據本發(fā)明的熱塑性薄膜的制造方法及熱處理方法，可以高效地制造具有上述特征的熱塑性薄膜。另外，本發(fā)明的偏振片、光學補償薄膜、防反射膜、液晶顯示裝置具有優(yōu)異的光學特性。由附圖與下述優(yōu)選實施方式的說明可以更加清楚上述目的、特征和優(yōu)點。圖1為表示制造本實施方式的熱塑性薄膜的薄膜制造裝置的概略構成圖。圖2為表示熱處理區(qū)域中的多個輥的配置狀態(tài)的立體圖。圖3為表示熱處理區(qū)域中的多個輥的輥搭接長度(D)和輥間長度(G)的說明圖。圖4為表示適用本實施方式的熱塑性薄膜的液晶顯示裝置的一例的概略構成圖。具體實施例方式以下詳細說明本發(fā)明的熱塑性薄膜及其制造方法和其用途。以下所述構成要件的說明有時是根據本發(fā)明的代表實施方式進行的，但本發(fā)明并非局限于這種實施方式。另外，本說明書中使用""表示的數值范圍是指將""前后所記載的數值作為下限值和上限值而包括在內的范圍。首先，在說明本發(fā)明的熱塑性樹脂薄膜之前，參照圖1圖4說明用于6制造熱塑性薄膜的本實施方式的制造裝置(以下記為薄膜制造裝置10)。如圖1所示，該薄膜制造裝置10為制造可以用于液晶顯示裝置等中的熱塑性薄膜F的裝置。將作為熱塑性薄膜F的原材料的粒料狀?；w維素樹脂、環(huán)烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂或含有內酯環(huán)的聚合物樹脂導入干燥機12內并將其干燥后，通過擠出機14擠出該粒料，通過齒輪泵16供給至過濾器18。接著，通過過濾器18過濾雜質，從口模20擠出熔融樹脂(熔融了的熱塑性樹脂)。熔融樹脂用第1流延輥28和接觸輥24挾持并進行擠壓成形后，用第l流延輥28將其冷卻固化，制成規(guī)定表面粗糙度的薄膜狀，進而，通過第2流延輥26、第3流延輥27進行搬送，從而獲得未拉伸薄膜Fa。該未拉伸薄膜Fa可以在此階段巻繞，也可以連續(xù)地供給于進行長跨度拉伸的橫向拉伸42。另外，將暫時巻繞后的未拉伸薄膜Fa再次供給至橫向拉伸42，也可以獲得同樣的效果。橫向拉伸部42中，如圖1所示，在垂直于搬送方向的寬度方向上拉伸未拉伸薄膜Fa，制成橫向拉伸薄膜Fb。還可以在橫向拉伸前設置預熱部36、在橫向拉伸后設置熱固定部44。由此，可以減小拉伸中的彎曲(光學軸的偏移)。優(yōu)選預熱溫度高于橫向拉伸溫度、熱固定溫度低于橫向拉伸溫度。S卩，通常彎曲向著寬度方向中央部行進的方向而凹陷，但在預熱溫度>拉伸溫度、拉伸溫度>后熱處理溫度下可以減小彎曲。預熱、后熱處理可以進行其中之一，也可以進行兩者。橫向拉伸后進行熱處理，在此使薄膜在縱方向上收縮。在進行此的熱處理區(qū)域46中，如圖2所示，不用夾具把持橫向拉伸薄膜Fb的側端部，按照在TD方向(橫方向)上不收縮、僅在MD方向(縱向)上收縮的方式，用多根輥48a48d來搬送橫向拉伸薄膜Fb。此時，如圖3所示，多根輥48a48d按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)達到0.01-3的方式來配置。由此，通過薄膜與輥的摩擦，可以抑制橫方向的收縮。而且，薄膜Fb在入口側的輥48a的搬送速度(VI)和出口側的輥48d的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下進行搬送，同時進行熱處理。即，薄膜Fb在熱處理區(qū)域縱向收縮。通過薄膜Fc在熱處理區(qū)域進行熱處理，可以制造取向角、延遲被調整后的最終產品的熱塑性薄膜F。該薄膜F通過巻繞部49巻繞。還可以在橫向拉伸前或后進行縱向拉伸?？v向拉伸可以通過在一對捏合輥之間搬送薄膜、并使出口側捏合輥的搬送速度大于入口側捏合輥的搬送速度來實現(xiàn)。根據捏合輥間的距離(L)與縱向拉伸入口處的薄膜寬度W之比(L/W)的大小，拉伸方式有所不同，L/W較小時，可以采用日本特幵2005-330411號公報、日本特開2006-348114號公報所記載的縱向拉伸方法。該方式雖然Rth易于增大，但可以將裝置小型化。另一方面，L/W較大時，可以使用日本特開2005-301225號公報所記載的縱向拉伸方式。該方式雖然可以減小Rth，但裝置易于變大。圖4為適用如上制造的熱塑性薄膜F的液晶顯示裝置50的概略構成圖。液晶顯示裝置50為依次層疊偏振片52、液晶單元54、偏振片56而構成，偏振片56上介由擴散板58安裝有導光板60。導光板60上導入來自背光62的照明光。偏振片52通過用防反射膜64和光學補償薄膜68挾持起偏器66而構成。液晶單元54為在玻璃基板70上安裝形成有R、G、B的像素的濾色器72，接著依次配置液晶層74、TFT層76和玻璃基板78。偏振片56為用光學補償薄膜80和保護膜84挾持起偏器82而構成。此時，通過圖1所示的薄膜制造裝置10制造的熱塑性薄膜F可以用作構成液晶顯示裝置50的防反射膜64、光學補償薄膜68、80、保護膜84。<本發(fā)明的特征>接著，進一步詳細地說明本發(fā)明的熱塑性薄膜及其制造方法。本發(fā)明明確了熱處理后的對比度降低是由于Rth/Re比和Rth/Re比的范圍，進而完成了本發(fā)明。另外，熱處理是指8(TC下進行200小時的干燥處理。Rth/Re比優(yōu)選為0.5以上但小于1，更優(yōu)選為0.55-0.9，進一步優(yōu)選為0.6-0.8。超過或低于該范圍時，熱處理后的對比度均降低。本說明書中，Re(人)、Rtha)分別表示波長X的面內延遲和厚度方向的延遲。Re(入)是在KOBRA21ADH或WR(王子計測機器株式會社制)中使波長Xnm的光沿薄膜法線方向入射而測定的。至于測定波長Xrim的選擇，可以通過手動交換波長選擇濾波器來測定，或者可以通過程序等交換測定值來測定。所測定的薄膜為用單軸或雙軸的折射率橢圓體表示時，通過以下的方法計算Rtha)。Rtha)如下求得以面內慢軸(通過KOBRA21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)(沒有慢軸時以薄膜面內的任意方向為旋轉軸)，從相對于薄膜法線方向由法線方向以IO度等級分別傾斜至單側50度的方向入射波長Xnm的光，共計測定6點上述Rea)，根據所測定的延遲值和平均折射率的假設值及所輸入的膜厚值，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。上述中，在為具有以法線方向的面內慢軸為旋轉軸、在某個傾斜角度下延遲值為0的方向的薄膜時，大于該傾斜角度的傾斜角度下的延遲值在將其符號變更為負后，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。另外，還可以以慢軸作為傾斜軸(旋轉軸)(沒有慢軸時以薄膜面內的任意方向作為旋轉軸)、從任意傾斜的2個方向測定延遲值，根據該值和平均折射率的假設值和所輸入的膜厚值，通過下式(1)和式(2)計算Rth。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>式(1)上述Re(e)表示從法線方向傾斜角度e后的方向的延遲值。式(i)的mc表示面內的慢軸方向的折射率、ny表示面內的垂直于nx的方向的折射率、nz表示垂直于nx和ny的方向的折射率。d為膜厚。Rth-((nx+ny)/2-nz)xd式(2)所測定的薄膜不能用單軸或雙軸的折射率橢圓體表示、即為沒有光學軸的薄膜時，可以通過以下方法算出Rtha)。Rtha)如下求得以面內慢軸(通過KOBRA21ADH或WR判斷)作為傾斜軸(旋轉軸)，從相對于薄膜法線方向從-50度以IO度等級分別傾斜至+50度的傾斜方向入射波長？aim的光，共計測定11點上述Rea)，根據所測定的延遲值和平均折射率的假設值及所輸入的膜厚值，通過KOBRA21ADH或WR進行計算。在上述測定中，平均折射率的假設值可以使用聚合物手冊(JOHNWILEY&SONS,INC)、各種光學薄膜的目錄值。對于平均折射率的值還未知的，可以使用阿貝折射計來測定。以下例示出主要的光學薄膜的平均折射率值，?；w維素(1.48)、環(huán)烯烴聚合物(1.52)、聚碳酸酯(1.59)、聚甲基丙烯酸甲酯(1.49)、聚苯乙烯(1.59)。通過輸入這些平均折射率的假設值和膜厚，KOBRA21ADH或WR算出nx、ny、nz。另外，NZ值由NZ=0.5+(Rth/Re)算出。另外，在寬度方向上測定的Rth/Re比的范圍優(yōu)選為0.010.1、更優(yōu)選為0.010.09、進一步優(yōu)選為0.02~0.08。Rth/Re比的范圍是指在寬度方向上20等份點的測定值的最大值與最小值之差。由此，即便組裝到大型畫面中時，也可以抑制熱處理后的畫面內的對比度不均。當Rth/Re比的范圍超過該范圍時，熱處理后面內的對比度不均增大。另一方面，小于該范圍時，由于下述理由而不優(yōu)選。SP，當減小Rth/Re比的范圍時，有必要增加后述的縱向收縮處理量，與此相伴，在寬度方向上薄膜變形為白鐵皮板狀，這會由于熱處理而顯著化、從而增加對比度不均。另外，本發(fā)明明確了熱處理后的漏光的原因是由于熱處理前后的熱塑性薄膜的尺寸變化所引起的。當由于熱處理而發(fā)生尺寸變化時，液晶顯示裝置內與所粘貼的玻璃板之間會發(fā)生尺寸差所導致的應力，這會發(fā)生光彈性變化，結果發(fā)生漏光。伴隨熱處理的熱尺寸變化為0.001%0.3%、更優(yōu)選為0.003%0.25%、進一步優(yōu)選為0.005%~0.2%。超過該范圍時，漏光增大，低于該范圍時，漏光也增大。這是由于玻璃板也發(fā)生尺寸變化，因此即便低于該范圍，也會在與玻璃板之間產生尺寸差。制備這種熱塑性薄膜的重點在于具有以下特征的熱塑性薄膜的熱處理方法在橫方向(TD)上拉伸薄膜后，將該薄膜在按照輥搭接長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.013的方式配置的熱處理區(qū)域中，在入口側的搬送速度(VI)和出口側的搬送速度(V2)之比(V2/V1)為0.60.999下進行搬送，同時進行熱處理。當通過橫向拉伸來制作要求均一性的光學薄膜時，利用拉幅機來進行。發(fā)生通過拉伸而伸長的部分、為了配合物資平衡而厚度降低、垂直方向(MD)的縮幅(neckin)。但是，在拉幅機拉伸中，在MD方向上向薄膜施加搬送張力，難以引起縮幅，僅該部分發(fā)生厚度降低。由此，在厚度方向上被壓縮，面取向發(fā)展，Rth增加、并大于Re。剛如此進行拉幅機拉伸后Rth>Re，通過僅在MD上使其收縮，可以在不降低Re的情況下僅降低Rth。g卩，當同時在MD、TD上收縮時，Re、Rth同時降低，雖然Rth〉Re，但僅降低MD時，面內取向(Re)不會變化，可以僅增加厚度、僅降低Rth。其結果可以實現(xiàn)RtlKRe。對于這種用于Rth降低的拉伸后的MD收縮，上述特開2007-108529號公報和特開2006-133720號公報中通過減緩MD方向的夾具搬送速度并通過在縱方向上收縮而實現(xiàn)。在拉幅機內把持在夾具上的狀態(tài)是指，如特開2007-108529號公報和特開2006-133720號公報所述，在橫向拉伸后在拉幅機內進行熱收縮時，或者同時進行上述橫向拉伸和熱收縮時，由于用夾具把持來進行橫向拉伸，因此熱收縮也把持在夾具上。但是，在該方法中，有必要預先在鄰接的夾具間設置間隙來進行橫向拉伸，以使得可以在MD方向上收縮，其結果，用夾具部分把持的部分與未用夾具間把持的部分發(fā)生拉伸不均，Rth/Re比的范圍易于增大。與此同時，面內的熱尺寸變化不均也易于增加。熱尺寸變化不均易于引起對比度不均和漏光，從而不優(yōu)選。熱尺寸變化不均是指在寬度方向上5等分的點在MD、TD方向上測定的10點熱尺寸變化中的最大值和最小值除以平均值而以百分率表示的值，優(yōu)選10°/。以下、更優(yōu)選7%以下、進一步優(yōu)選5%以下。而且，在寬度方向上相向的一對夾具間與未用夾具把持的部分處，收縮處理時的收縮行為會發(fā)生差異。這會導致未被夾具把持的部分除了可以在MD方向上收縮，還可以在TD方向上收縮。另一方面，一對夾具間在TD上完全不能收縮。這樣，易于在TD上發(fā)生伴隨拉伸的殘留形變，這通過熱處理會引起TD的熱收縮。為了配合伴隨該熱收縮的物資平衡，MD伸長。這些尺寸變化會引起漏光。這樣，在拉幅機內，即同時在夾具上把持并使其縱向收縮時，在薄膜內易于發(fā)生殘留形變，這通過熱而釋放，熱處理后的Rth/Re比的范圍或熱尺寸變化、熱尺寸變化不均易于增大。與此相對，本發(fā)明中，橫向拉伸結束并離開拉幅機后(從夾具上卸下后)，使其在縱方向上收縮，在拉幅機內不使其收縮。gP，由于兩端不被夾具把持，因此在整個寬度上可以均等地使其縱向收縮。因而，Rth/Re比的范圍難以增大，也可以抑制熱尺寸變化不均。這樣，本發(fā)明的重點在于，在不用夾具把持的狀態(tài)下、不在TD方向上使其收縮而僅引起MD(縱向)收縮。為了僅在MD收縮而不在TD上收縮，本發(fā)明在配置于熱處理區(qū)域中的多個輥之間搭接熱塑性薄膜，同時使其通過。由此，通過輥和薄膜的摩擦，可以抑制TD方向的收縮。此時，通過使入口側的搬送速度(VI)快于出口側的搬送速度(V2)，且使V2/V1為0.6~0.999、更優(yōu)選0.65-0.99、進一步優(yōu)選0.65-0.95、更進一步優(yōu)選0.70.85，從而可以僅使MD收縮。高于該范圍時，不能縱向收縮，Rth/Re超過本發(fā)明的范圍，不優(yōu)選。低于該范圍時，在輥上熱塑性薄膜引起滑動、發(fā)生擦傷劃痕，不優(yōu)選。這種V2/V1可以通過使入口側的輥搬送速度快于出口側的輥搬送速度來實現(xiàn)。為了獲得用于抑制薄膜的TD收縮的必要的摩擦力，優(yōu)選薄膜在輥上搭接的長度(D)與輥間長度(G)之比(G/D)為0.01~3、更優(yōu)選為0.03~1、進一步優(yōu)選為0.050.5。超過該范圍時，輥間變長、摩擦力降低、發(fā)生TD收縮、Re降低、Rth/Re超過本發(fā)明的范圍，不優(yōu)選。而且，Rth/Re比的范圍、熱收縮不均也增大，不優(yōu)選。這在由于輥間較長時，薄膜兩端相比較于中央部更易于收縮(這是由于當考慮將薄膜分割為中央、兩端這3部分時，雖然中央不被兩端限制、但兩端僅一端被中央限制，從而易于縱向收縮)，Rth/Re比的范圍、熱收縮不均易于增大。另一方面，比值(G/D)小于該范圍時，完全不發(fā)生TD方向的收縮，在薄膜內易于發(fā)生殘留形變，其結果，發(fā)生TD熱收縮、伴隨其的MD伸長，熱尺寸變化超過本發(fā)明的范圍，不優(yōu)選，g卩，通過除了縱向收縮以外還使其橫向(TD)收縮一些，可以抑制熱尺寸變化的發(fā)生、熱尺寸變化不均。這種熱尺寸變化如上所述成為漏光的原因。而且，Rth/Re比的范圍也增大，不優(yōu)選。這是由于可以縱向收縮的長度不充分、不能整個面均勻地縱向收縮，因此Re、Rth會發(fā)生不均，Rth/Re比的范圍增大。為了充分地獲得輥與熱塑性薄膜之間的摩擦力，熱塑性薄膜的表面粗糙度(Ra)優(yōu)選為0.005|im~0.04|im、更優(yōu)選為0.007pm0.035^im、進一步12優(yōu)選為0.009^im0.030^im。超過該范圍時，無法產生充分的摩擦力，Rth/Re超過本發(fā)明的范圍，相反，低于該范圍時，由于與輥的摩擦會發(fā)生擦傷劃痕，而且基本不發(fā)生TD方向的松弛、熱尺寸變化增大，結果發(fā)生漏光，不優(yōu)選。該表面粗糙度是指測定拉伸、縱向收縮后的熱塑性薄膜的值。本來，縱向收縮處理中的表面粗糙度反映在摩擦力上，但縱向收縮處理前后由于表面粗糙度不變化，因此使用縱向收縮后的值。具有這種表面的薄膜可以通過后述的接觸輥制膜法來實現(xiàn)。其通過用表面平滑的輥由兩面挾持剛流延后的薄膜，與未使用其的情況相比，可以實現(xiàn)更高的平滑性、實現(xiàn)上述的表面粗糙度。進行這種縱向收縮時的輥的根數優(yōu)選為2根~100根、更優(yōu)選為3根50根、進一步優(yōu)選為4根20根。優(yōu)選輥的直徑優(yōu)選為5cm100cm、更優(yōu)選為10cm80cm、進一步優(yōu)選為15cm60cm。而且，本發(fā)明中，優(yōu)選在輥上固定薄膜兩端。"固定"是指使寬度方向的尺寸變化為10%以下。這可以通過在輥的兩端或整個寬度上施加靜電來進行，還可以使輥的兩端或整個面制成抽吸轉筒(suctiondrum)以吸引薄膜來進行。另外，還可以在輥上的端部或整個寬度上設置捏合輥來固定薄膜。捏合輥的根數優(yōu)選在1根輥上設置1根~20根，更優(yōu)選2根~10根。而且，還優(yōu)選將輥制成擴展輥(expanderroll)。這些方法可以單獨實施，還可以組合實施。縱向收縮的溫度優(yōu)選為玻璃化轉變溫度(Tg-20)°C~(Tg+50)°C、更優(yōu)選為(Tg-10)°C~(Tg+40)°C、進一步優(yōu)選為(Tg-5)°C~(Tg+35)°C。超過該范圍時，Re易于降低，Rth/Re易于超過l。另一方面，低于該范圍時，Rth、Re均不會降低，Rth/Re超過本發(fā)明的范圍。另外，不能充分地消除拉伸中的殘留形變，熱尺寸變化增大、漏光易于增加。這種縱向收縮可以向通過熱塑性薄膜的輥內部通入熱介質來進行加熱，也可以從設置于熱塑性薄膜上部的熱源(IR加熱器、鹵素加熱器等)進行加熱，還可以在導入有調溫風的熱處理區(qū)域內實施。這種收縮處理所需要的時間并無特別限定，優(yōu)選1秒鐘~10分鐘、更優(yōu)選為5秒鐘~8分鐘、進一步優(yōu)選為10秒鐘~5分鐘。如此獲得的熱塑性薄膜的Re優(yōu)選為20nm300nm、更優(yōu)選為30nm280nm、進一步優(yōu)選為40nm250nm、特別優(yōu)選為50nm150nm、最優(yōu)選為70nm95nm。另外，本發(fā)明的熱處理后所得的熱塑性薄膜可以滿足用以下2式特定的區(qū)域的光學特性。Rth=(-3/8)Re+80Rth=(-3/8)Re+100(其中，Re為-10~150nm、特別優(yōu)選50nm150nm、最優(yōu)選70nm95nm。)以下依次說明本發(fā)明。(1)熱塑性薄膜的原材料本發(fā)明中使用的熱塑性薄膜并無特別限定，優(yōu)選可以舉出?；w維素、含有內酯環(huán)的聚合物、環(huán)狀烯烴、聚碳酸酯。其中優(yōu)選?；w維素、環(huán)狀烯烴，更優(yōu)選含有乙酸酯基、丙酸酯基的?；w維素、通過加聚獲得的環(huán)狀烯烴，進一步優(yōu)選通過加聚獲得的環(huán)狀烯烴。(a)?；w維素?；w維素例如可以使用日本特開2001-188128號公報、日本特開2006-142800號公報、日本特開2007-98917號公報所記載的酰化纖維素，總?；〈葍?yōu)選為2.13.0，乙?；娜〈葍?yōu)選為0.05~2.5、更優(yōu)選為0.05-0.5或1.5~2.5。丙?；〈葍?yōu)選為0.1~2.8、更優(yōu)選為0.11.2或2,3~2.8。(b)環(huán)狀烯烴環(huán)狀烯烴優(yōu)選由降冰片烯系化合物聚合而得到。該聚合可以通過開環(huán)聚合、加聚的任一種方法進行。加聚例如可以舉出日本專利3517471號公報記載的方法、日本專利3559360號公報、日本專利3867178號公報、日本專利3871721號公報、日本專利3907908號公報、日本專利3945598號公報、日本特表2005-527696號公報、日本特開2006-28993號公報、國際公開第2006/004376號小冊子所記載的方法。特別優(yōu)選日本專利3517471號公報所記載的方法。開環(huán)聚合例如可以舉出國際公開第98/14499號小冊子、日本專利3060532號公報、日本專利3220478號公報、日本專利3273046號公報、日本專利3404027號公報、日本專利3428176號公報、日本專利3687231號公報、日本專利3873934號公報、日本專利3912159號公報所記載的方法。其中優(yōu)選國際公開第98/14499號小冊子、日本專利3060532號公報記載的方法。這些環(huán)狀烯烴中更優(yōu)選加聚得到的環(huán)狀烯烴。(c)含有內酯環(huán)的聚合物是指具有下述通式(1)所示的內酯環(huán)結構的聚合物。通式(1)中，R1、R2、R各自獨立地表示氫原子或碳原子數為1~20的有機殘基。有機殘基還可以含氧原子。通式(l)的內酯環(huán)結構的含有比例優(yōu)選為590重量％、更優(yōu)選為1070重量％、進一步優(yōu)選為10~50重量°/。。除了通式(1)所示的內酯環(huán)結構以外，還優(yōu)選將選自(甲基)丙烯酸酯、含羥基單體、不飽和羧酸、下述通式(2a)所示的單體中的至少1種進行聚合而構建的聚合物結構單元(重復結構單元)。CH2=C——R4(2a)通式(2a)中，W表示氫原子或甲基，X表示氫原子、碳原子數為120的烷基、芳基、-OAc基、-CN基、-C0-R5基或-C-0-R6基，Ac基表示乙?；?，RS和RS表示氫原子或碳原子數為120的有機殘基。例如可以使用國際公開第2006/025445號小冊子、日本特開2007-70607號公報、日本特開2007-63541號公報、日本特開2006-171464號公報、日本特開2005-162835號公報所記載的化合物。(d)聚碳酸酯系樹脂通過表面聚合法或熔融聚合法使二羥基成分與碳酸酯前體發(fā)生反應而獲得，例如可以優(yōu)選使用日本特開2006-277914號公報所記載的物質或曰本特開2006-106386號公報、日本特開2006-284703號公報所記載的物質。(e)添加劑這些熱塑性薄膜中可以添加0~20質量％的垸基鄰苯二甲?；掖妓狨ヮ?、磷酸酯類、羧酸酯類、多元醇類作為增塑劑。可以添加03質量%的下述穩(wěn)定劑磷酸鹽系穩(wěn)定劑(例如三(4-甲氧基-3,5-二苯基)磷化物、三(壬基苯基)磷化物、三(2，4-二叔丁基苯基)磷化物)、苯酚系穩(wěn)定劑(例如2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、2,2-亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、2,5-二叔丁基氫醌、季戊四醇四[3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、4,4-硫代雙-(6-叔丁基-3-甲基苯酚)、l,l，-雙(4-羥基苯基)環(huán)己垸、十八烷基-3-(3,5-二叔丁基-4-羥基苯酚)丙酸酯]、環(huán)氧化合物、硫醚化合物)?？梢蕴砑?1000ppm的二氧化硅、氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋁、碳酸鈣、粘土等無機微粒、交聯(lián)丙烯酸、交聯(lián)苯乙烯等有機微粒作為消光劑。另外，還優(yōu)選添加紫外線吸收劑(例如2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2-亞甲基雙[4-(1,1,3，3-四甲基丁基)-6-[(2H-苯并三唑-2-基)苯酚]])或紅外線吸收劑、延遲調整劑。(2)熱塑性薄膜的制膜本發(fā)明中使用的薄膜可以使用熔融制膜、溶液制膜的任何方法，更優(yōu)選利用熔融制膜法。(a)熔融制膜法i)造粒上述熱塑性樹脂與添加物優(yōu)選在熔融制膜前進行混合并造粒。粒料化可以如下制作干燥上述熱塑性樹脂和添加物后，使用雙螺桿混煉擠出機在150'C30(TC下熔融后，擠出成面條狀，并將其在空氣中或水中固化、截斷，從而制作。另外，還可以通過利用擠出機熔融后在水中由?？谥苯訑D出、同時進行剪切的水下剪切法來進行粒料化。擠出機可以使用單螺桿擠出機、非嚙合型不同方向旋轉雙螺桿擠出機、嚙合型不同方向旋轉雙螺桿擠出機、嚙合型相同方向旋轉雙螺桿擠出機等。擠出機的轉速優(yōu)選為10rpm1000rpm、更優(yōu)選為20rpm700rpm。擠出滯留時間為IO秒鐘以上但IO分鐘以內、更優(yōu)選為20秒鐘5分鐘以內。優(yōu)選的粒料大小優(yōu)選為10mm3~1000mm3、更優(yōu)選為30mm3~500mm3。ii)混煉熔融優(yōu)選在熔融制膜前減少粒料中的水分。優(yōu)選的千燥溫度為40~200°C、更優(yōu)選為6015(TC。由此，含水率優(yōu)選為1.0質量％以下、更優(yōu)選為0.1質量％以下。干燥后的粒料介由擠出機的供給口被供給至料筒內進行混煉、熔融。料筒內由供給口側開始依次由供給部(區(qū)域A)、壓縮部(區(qū)域B)、測量部(區(qū)域C)構成。擠出機的螺桿壓縮比優(yōu)選為1.5~4.5、料筒長度與料筒內徑之比(L/D)優(yōu)選為20~70、料筒內徑優(yōu)選為30mm150mm。擠出溫度優(yōu)選為19030(TC。為了防止由于殘存氧所導致的熔融樹脂的氧化，優(yōu)選使擠出機內為不活性(氮氣等)氣流中來實施、或者在使用帶有通氣孔的擠出機進行真空排氣的同時來實施。過濾為了過濾樹脂中的雜質，優(yōu)選設置組裝有斷路器板式的過濾或薄片型過濾器的過濾裝置。過濾可以1段進行，也可以多段過濾。過濾精度優(yōu)選為15|im~3|im、更優(yōu)選為10^im3^im。濾材優(yōu)選使用不銹鋼。濾材的構成可以使用編織線材的構成、也可以使用燒結金屬粉末的構成(燒結濾材)，其中優(yōu)選燒結濾材。iv)齒輪泵為了減少噴出量的變動并提高厚度精度，優(yōu)選在擠出機和口模之間設置齒輪泵。由此，可以使口模內的樹脂壓力變動幅度為±1%以內。為了提高利用齒輪泵帶來的定量供給性能，還可以使用改變螺桿的轉速、將齒輪泵前的壓力控制在恒定的方法。v)口模利用如上構成的擠出機來進行熔融，將熔融樹脂根據需要經由過濾機、齒輪泵連續(xù)地送至口模?？谀？梢允荰口模、魚尾式口模、懸涂口模的任何類型。另外，為了樹脂溫度的均勻性提高，還優(yōu)選就在口模前放入靜態(tài)混合機。T口模出口部分的間隙一般為膜厚的1.0~10倍、優(yōu)選為1.25倍?？谀?yōu)選能夠以550mm間隔調整厚度。另外，下述的自動厚度調整口模也是有效的計算下游的薄膜厚度、厚度偏差，并將該結果反饋于口模的厚度調整。除了單層制膜裝置之外，還可以使用多層制膜裝置來制造。如此，從樹脂由供給口進入擠出機至離開口模的滯留時間優(yōu)選為3分鐘40分鐘、更優(yōu)選為4分鐘30分鐘。vi)流延在流延滾筒上冷卻固化從口模擠出至片材上的熔融樹脂(熔融物)，從而獲得薄膜。此時，優(yōu)選遮擋口模和流延滾筒之間以抑制風的影響。熔融物接觸于流延滾筒時，優(yōu)選使用靜電施加法、氣刀法、氣室(airchamber)法、吸氣嘴(vacuumnozzle)法、接觸輥法等來提高流延滾筒與熔融物的粘附，其中優(yōu)選接觸輥法。這種粘附提高法可以在熔融物的整個面上實施，還可以在一部分上實施。接觸輥法是指在流延滾筒上放置接觸輥來對薄膜表面進行整形。此時，接觸輥并非通常的剛性高的輥，優(yōu)選是具有彈性的輥。由此，可以通過過剩的面壓來抑制表面凹凸在本發(fā)明的范圍以下。因此，有必要使輥的外筒厚度薄于通常的輥，外筒的壁厚Z優(yōu)選為0.05mm7.0mm、更優(yōu)選為0.2mm5.0mm、進一步優(yōu)選為0.3mm3.5mm?？梢耘e出下述接觸輥在金屬軸上放置接觸輥，在其間通入熱介質(流體)，在外筒和金屬軸之間設置彈性體層，在彈性體層和外筒之間充滿熱介質(流體)。利用接觸輥進行的擠壓越弱，則越可以降低Rth，從而優(yōu)選，但過小時無法達成本發(fā)明的表面粗糙度，相反過大時則雖然表面粗糙度變小，但Rth易于增加。因此，接觸輥的面壓優(yōu)選為0.1MPa5Mpa、更優(yōu)選為0.2MPa3MPa、進一步優(yōu)選為0.3MPa2MPa。這里的面壓是指擠壓接觸輥的力除以熱塑性薄膜和接觸輥的接觸面積后得到的值。接觸輥的溫度優(yōu)選設定為60'C16(rC、更優(yōu)選設定為70。C15(TC、進一步優(yōu)選設定為80°C~140°C。這種溫度控制可以通過在這些輥內部通入調溫了的液體、氣體來達成。如此，更優(yōu)選在內部具有調溫機構。接觸輥的材質優(yōu)選為金屬、更優(yōu)選為不銹鋼，還優(yōu)選在表面實施鍍覆。18另一方面，在橡膠輥或以橡膠為襯套的金屬輥中，橡膠表面的凹凸過大、無法制成具有上述表面凹凸的熱塑性薄膜，從而不優(yōu)選。接觸輥、流延輥的表面的算術平均高度Ra為100nm以下、優(yōu)選為50nm以下、進一步優(yōu)選為25nm以下。接觸輥例如可以使用日本特開平11-314263號公報、日本特開2002-36332號公報、日本特開平11-235747號公報、國際公開第97/28950號小冊子、日本特開2004-216717號公報、日本特開2003-145609號公報所記載的接觸輥。流延滾筒(輥)更優(yōu)選使用多根并進行緩慢冷卻(其中，使用上述接觸輥時按照接觸于最上游側(接近口模的一側)的最初流延輥的方式來配置)。一般使用3根冷卻輥就可以較好地進行，但并非局限于此。輥的直徑優(yōu)選為100mm1500mm、更優(yōu)選為150mm1000mm。多根輥的間隔以面間計優(yōu)選為0.3mm300mm、更優(yōu)選為lmm100mm、進一步優(yōu)選為3mm30mm。流延滾筒優(yōu)選為60°C~160°C、更優(yōu)選為70°C150°C、進一步優(yōu)選為80°C~140°C。之后，從流延滾筒上剝離，經過捏合輥后進行巻繞。巻繞速度優(yōu)選為10m/分鐘100m/分鐘、更優(yōu)選為15m/分鐘80m/分鐘、進一步優(yōu)選為20m/分鐘70m/分鐘。制膜寬度優(yōu)選為0.7m3m、更優(yōu)選為lm2m。制膜后(未拉伸)的厚度優(yōu)選為40^im300(am、更優(yōu)選為6(Him250nm、進一步優(yōu)選為80,200jim。vii)修整、增厚加工、巻繞還優(yōu)選在如此拉伸制膜后將兩端進行修整。通過修整切落的部分破碎，可以再次作為原料來使用。另外，還優(yōu)選在單側或兩端進行增厚加工(滾花處理)。利用增厚加工形成的凹凸的高度優(yōu)選為lpm5(^m、更優(yōu)選為3^im20pm。增厚加工可以是在兩面上形成凸起，也可以在單面上形成凸起。增厚加工的寬度優(yōu)選為lmm50mm、更優(yōu)選為3mm30mm。擠出加工可以在室溫300。C下實施。還優(yōu)選在巻繞前在單面或兩面上粘上層疊膜。層疊膜的厚度優(yōu)選為5pm10(^m、更優(yōu)選為10pm~5(Him。材質為聚乙烯、聚酯、聚丙烯等，并無特別限定。優(yōu)選的巻繞張力為2kg/m寬度50kg/m寬度、更優(yōu)選為5kg/m寬度30kg/m寬度。(溶液制膜)i)溶解根據溶液制膜中使用的熱塑性樹脂來選擇溶劑，制備樹脂的高濃度溶液(濃液)。?；w維素、聚碳酸酯優(yōu)選使用二氯甲烷系溶劑，例如可以使用日本特開2001-188128號公報的段落所記載的溶劑。另夕卜，為環(huán)烯烴時，可以使用二氯甲垸、烴系溶劑(甲苯、二甲苯、苯、環(huán)己烷等)，例如可以使用日本特開2007-108529號公報的段落所記載的溶劑。這些濃液中的熱塑性樹脂的濃度優(yōu)選為5質量％~40質量％、更優(yōu)選為10質量％~30質量％。此時，優(yōu)選同時溶解上述添加劑。為了溶解，還可以使用冷卻、升溫法。冷卻、升溫法可以使用日本特開平11-323017號公報、日本特開平10-67860號公報、日本特開平10-95854號公報、日本特開平10-324774號公報、日本特開平11-302388號公報的方法。ii)溶液制膜將制備后的濃液暫時儲存并除去氣泡后，經過高精度泵(例如加壓型定量齒輪泵)送至加壓型口模，從?？?狹縫)均勻地流延至環(huán)形行走的流延部的支撐體(傳送帶、滾筒)上。此時，可以以單層流延、也可以以2種以上多層流延。在支撐體大致一周的剝離點處，剝離半干的濃液膜(也稱為料片)。支撐體(傳送帶、滾筒)優(yōu)選預先設置為-30'C3(TC。用夾具挾持剝離后的料片的兩端，在保持寬度的同時用拉幅機進行搬送干燥，接著，用干燥裝置的輥組進行搬送干燥后，在修整后進行滾花(模具壓制)加工，然后利用巻繞機巻繞為規(guī)定的長度。制膜寬度優(yōu)選為0.7m3m、更優(yōu)選為lm2m。制膜后(未拉伸)的厚度優(yōu)選為40pm~300|am、更優(yōu)選為6(^m250^im、進一步優(yōu)選為80,~200拜。這種溶液制膜還可以使用公開技法(公技號2001-1745、2001年3月15日發(fā)行、發(fā)明協(xié)會)所記載的方法。[拉伸工序]將如此熔融制膜、溶液制膜后得到的熱塑性薄膜進行橫向拉伸。優(yōu)選的拉伸倍率為1.1倍~3倍、更優(yōu)選為1.2倍~2.5倍、進一步優(yōu)選為1.3倍~2.3倍。拉伸倍率是指拉伸后長度除以拉伸前長度而得到的值。拉伸溫度優(yōu)選為(Tg-10)°C~(Tg+50)。C、更優(yōu)選為(Tg-5)°C~(Tg+40)°C、進一步優(yōu)選為Tg(Tg+30)°C。還優(yōu)選在這種橫向拉伸的前后中的一個或兩者組合縱向拉伸。優(yōu)選的縱向拉伸溫度為(Tg-10)°C(Tg+40)°C、更優(yōu)選為Tg(Tg+20)°C。優(yōu)選的拉伸倍率為1.05倍~2.5倍、更優(yōu)選為1.1倍~1.8倍，優(yōu)選小于橫向拉伸倍率、更優(yōu)選為橫向拉伸倍率的0.8倍以下。這些拉伸有必要在不含殘留溶劑(0.1質量％以下)的狀態(tài)下實施。其原因在于，含有殘留溶劑時，產生來自薄膜面內的揮散不均，Rth/Re比的范圍(不均)增大。拉伸后的薄膜厚度優(yōu)選為2(Vm150pm、更優(yōu)選為30pm~12(^m、進一步優(yōu)選為40jxm100^im。拉伸后的薄膜如上所述進行縱向收縮。這可以在拉伸后在線地進行，也可以在拉伸后暫時巻繞后進行。[薄膜的加工]如此獲得的本發(fā)明的熱塑性薄膜可以單獨使用，還可以將其與偏振片組合使用，還可以在其上設置液晶層或控制了折射率的層(低反射層)或硬涂層后使用。這可以通過以下工序達成。(表面處理)(1)?；w維素薄膜通過進行表面處理，可以提高與各功能層(例如下涂層和背層)的粘接。例如，可以使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或堿性皂化處理。這里所說的輝光放電處理包括在10—320Torr(0.13~2700Pa)的低壓氣體下發(fā)生的低溫等離子體處理。另夕卜，大氣壓下的等離子體處理也是優(yōu)選的輝光放電處理。其中特別優(yōu)選堿性皂化處理。堿性皂化處理可以浸漬在皂化液中(浸漬法)、也可以涂覆皂化液(涂覆法)。浸漬法時，可以通過使NaOH或KOH等pH為10~14的水溶液在加熱至20'C8(TC的槽內經過0.1分鐘10分鐘后，進行中和、水洗、干燥，從而達成。為涂覆法時，可以使用浸涂法、幕式淋涂法、擠出涂布法、棒涂法和E型涂覆法。堿性皂化處理涂覆液的溶劑優(yōu)選使用用于提高潤濕性的醇系溶劑，特別優(yōu)選異丙醇。另外，還可以使用表面活性劑的水溶液作為溶劑。堿性皂化涂覆液的堿可以使用KOH、NaOH等。皂化涂覆液的pH優(yōu)選為10以上，更優(yōu)選為12以上。皂化條件優(yōu)選室溫下5秒鐘~5分鐘，特別優(yōu)選20秒鐘~3分鐘。皂化反應后優(yōu)選進行水洗。可以連續(xù)進行涂覆式皂化處理和后述的取向膜的涂覆設置，可以減少工序數。這些皂化方法例如可以舉出日本特開2002-82226號公報、國際公開第02/46809號小冊子的內容所記載的方法。為了與功能層粘接，還優(yōu)選設置下涂層。該層可以在上述表面處理后涂覆設置，也可以不進行表面處理而涂覆設置。下涂層的詳細情況記載于發(fā)明協(xié)會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發(fā)行、發(fā)明協(xié)會)的32頁。這些表面處理、下涂工序可以在制膜工序的最后加入，還可以單獨實施，還可以在后述的功能層賦予工序中實施。(2)?；w維素以外的本發(fā)明的熱塑性薄膜?；w維素以外的本發(fā)明的熱塑性薄膜可以使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈處理、火焰處理、酸或堿性處理。這里所說的輝光放電處理包括在l(r3~20Torr(0.13~2700Pa)的低壓氣體下發(fā)生的低溫等離子體處理。另外，大氣壓下的等離子體處理也是優(yōu)選的輝光放電處理。其中優(yōu)選輝光放電處理、電暈處理、火焰處理，更優(yōu)選電暈處理。為了與功能層粘接，還優(yōu)選設置下涂層。該層可以在上述表面處理后進行涂覆設置，還可以不進行表面處理而涂覆設置。下涂層的詳細情況記載于發(fā)明協(xié)會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發(fā)行、發(fā)明協(xié)會)32頁。這些表面處理、下涂工序可以在制膜工序的最后加入，還可以單獨實施，還可以在后述的功能層賦予工序中實施。(功能層的賦予)在本發(fā)明的熱塑性薄膜上優(yōu)選組合發(fā)明協(xié)會公開技報(公技號2001-1745、2001年3月15日發(fā)行、發(fā)明協(xié)會)3245頁詳細記載的功能性層。其中優(yōu)選的是賦予偏振層(偏振片)、賦予光學各向異性層(光學補償層)、賦予防反射層(防反射膜)。<光學各向異性層>光學各向異性層優(yōu)選按照補償液晶顯示裝置的黑顯示時液晶單元中液晶性化合物的方式來設計。黑顯示時的液晶單元中的液晶性化合物的取向狀態(tài)根據液晶顯示裝置的模式而不同。該液晶單元中的液晶性化合物的取向狀態(tài)記載于IDWOO、FMC7-2的P411414等中。光學各向異性層在支撐體上直接由液晶性化合物形成，或者介由取向膜由液晶性化合物形成。取向膜優(yōu)選具有10,以下的膜厚。光學各向異性層所用的液晶性化合物包括棒狀液晶性化合物和盤狀液晶性化合物。棒狀液晶性化合物和盤狀液晶性化合物可以是高分子液晶也可以是低分子液晶，而且還包括低分子液晶發(fā)生交聯(lián)從而不顯示液晶性的化合物。光學各向異性層可以通過將含有液晶性化合物和根據需要含有的聚合性引發(fā)劑或任意成分的涂覆液涂覆在取向膜上而形成。作為本發(fā)明的取向膜的優(yōu)選例子記載于日本特開平8-338913號公報中。(棒狀液晶性化合物)作為棒狀液晶性化合物，優(yōu)選使用偶氮甲堿類、氧化偶氮類、氰基聯(lián)苯類、氰基苯基酯類、苯甲酸酯類、環(huán)己羧酸苯酯類、氰基苯基環(huán)己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、垸氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁唑類、二苯乙炔類和鏈烯基環(huán)己基芐腈類。其中，棒狀液晶性化合物還包括金屬絡合物。另外，在重復單元中含有棒狀液晶性化合物的液晶聚合物也可以作為棒狀液晶性化合物來使用。即，棒狀液晶性化合物可以與(液晶)聚合物鍵合。棒狀液晶性化合物例如可以采用季刊化學總說第22巻液晶化學(1994)日本化學會編的第4章、第7章和第11章以及液晶設備手冊、日本學術振興會第142委員會編的第3章所記載的化合物。棒狀液晶性化合物的雙折射率優(yōu)選為0.001-0.7的范圍。棒狀液晶性化合物為了固定其取向狀態(tài)，優(yōu)選具有聚合性基團。聚合性基團優(yōu)選不飽和聚合性基團或環(huán)氧基，更優(yōu)選為不飽和聚合性基團、最優(yōu)選烯鍵式不飽和聚合性基團。(盤狀液晶性化合物)盤狀液晶性化合物包括C.Destrade等人的研究報告(Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年))所記載的苯衍生物、CDestrade等人的研究報告(Mo1.Cryst.122巻、141頁C1985年)、Physicslett,A，78巻、82頁(1990))所記載的三亞茚(tmxene)衍生物、B.Kohne等人的研究報告(Angew.Chem.96巻、70頁(1兆4年))所記載的環(huán)己烷衍生物和J.M，Lehn等人的研究報告(J.C.S.，Chem.Commun.,1794頁(1985年))、J.Zhang等人的研究報告(J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁U994年))所記載的氮雜冠類、苯基乙炔系大環(huán)。作為盤狀液晶性化合物，還包括相對于分子中心的母核，直鏈的垸基、烷氧基、取代苯甲酰氧基作為母核側鏈而取代成放射線狀結構的化合物。分子或分子的集合體優(yōu)選為具有旋轉對稱性、可以賦予一定取向的化合物。由盤狀液晶性化合物形成的光學各向異性層的最終光學各向異性層所含化合物并非必須是盤狀液晶性化合物，例如還包括下述化合物低分子的盤狀液晶性分子具有由于熱和光而反應的基團，結果由于熱、光發(fā)生反應而聚合或交聯(lián)、高分子量化，從而失去液晶性。盤狀液晶性化合物的優(yōu)選例子記載于日本特開平8-50206號公報中。另外，盤狀液晶性化合物的聚合在日本特開平8-27284號公報中有記載。為了通過聚合將盤狀液晶性化合物固定，有必要在盤狀液晶性化合物的圓盤狀芯上鍵合聚合性基團作為取代基。但是，當在圓盤狀芯上直接鍵合聚合性基團時，聚合反應中難以保持取向狀態(tài)。因此，在圓盤狀芯與聚合性基團之間引入連接基團。因而，具有聚合性基團的盤狀液晶性化合物優(yōu)選為下述式(5)所示的化合物。通式(5)D(-LQ)r通式(5)中，D為圓盤狀芯、L為二價的連接基團、Q為聚合性基團、24r為412的整數。以下表示圓盤狀芯(D)的例子。以下各例中，LQ(或QL)表示二價連接基團(L)與聚合性基團(Q)的組合。CD1)(D2)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage26</formula>(D15)通式(5)中，二價連接基團(L)優(yōu)選為選自亞垸基、亞鏈烯基、亞芳基、-CO-、-NH-、-O-、-S-和它們的組合中的二價連接基團。二價連接基團(L)更優(yōu)選為至少組合有2個選自亞垸基、亞芳基、-CO-、-NH-、-0-和-S-中的二價基團的二價連接基團。二價連接基團(L)最優(yōu)選為至少組合有2個選自亞垸基、亞芳基、-CO-和-O-中的二價基團的二價連接基團。亞烷基的碳原子數優(yōu)選為1~12。亞鏈烯基的碳原子數優(yōu)選為212。亞芳基的碳原子數優(yōu)選為6~10。以下示出二價連接基團(L)的例子。左側鍵合于圓盤狀芯(D)、右側鍵合于聚合性基團(Q)。AL表示亞垸基或亞鏈烯基、AR表示亞芳基。亞烷基、亞鏈烯基和亞芳基還可以具有取代基(例如烷基)。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage28</formula>通式(5)的聚合性基團(Q)根據聚合反應的種類來決定。以下示出聚合性基團(Q)的例子。(Ql)(Q2)(Q3)—CH=CH2——C=CH—CH2—C3CH(Q4)Q5)(Q6)八——NH2——S03H-CH2—CH—CH2柳(Q8)(Q9)—C=CH2—CH=CH——CH3-N=C=SI(Qio)(QU)(Q12)—SH—CHO—OH(Q13)(Q14)(Q15)—C02H——n=C=0—CH-CH——C2H5(Q")(Q17)(Q18)^~CH=CH——n-C3H7—CH=C—CH3/\T——CH_CH2聚合性基團(Q)優(yōu)選為不飽和聚合性基團(Ql、Q2、Q3、Q7、Q8、Q15、Q16、Q17)或環(huán)氧基(Q6、Q18)、更優(yōu)選為不飽和聚合性基團、最優(yōu)選為烯鍵式不飽和聚合性基團(Ql、Q7、Q8、Q15、Q16、Q17)。具體的r值根據圓盤狀芯(D)的種類來決定。多個L和Q的組合可以不同，但優(yōu)選相同?；旌先∠蛑校P狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)與支撐體面所成的角度、即傾斜角在光學各向異性層的深度(即垂直于透明支撐體的)方向上，隨著與偏振膜面的距離的增加而增加或減少。角度優(yōu)選隨著距離的增加而增加。而且，傾斜角的變化可以是連續(xù)增加、連續(xù)減少、間歇增加、間歇減少、包含連續(xù)增加和連續(xù)減少的變化或者包含增加和減少的間歇變化。間歇變化包含在厚度方向途中傾斜角不變化的區(qū)域。即便包含角度不變化的區(qū)域，只要作為整體發(fā)生增加或減少即可。但是，優(yōu)選傾斜角連續(xù)地變化。盤狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)的平均方向(各分子的長軸方向的平均)一般可以通過選擇盤狀液晶性化合物或取向膜的材料或者通過選擇摩擦處理方法來進行調整。另外，表面?zhèn)?空氣側)的盤狀液晶性化合物的長軸(圓盤面)方向一般可以通過選擇盤狀液晶性化合物或與盤狀液晶性化合物一起使用的添加劑的種類來進行調整。與盤狀液晶性化合物一起使用的添加劑的例子可以舉出增塑劑、表面活性劑、聚合性單體和聚合物等。長軸的取向方向變化的程度與上述同樣，也可以通過液晶性化合物和添加劑的選擇來調整。與盤狀液晶性化合物一起使用的增塑劑、表面活性劑和聚合性單體優(yōu)選與盤狀液晶性化合物具有相容性、并可以賦予盤狀液晶性化合物的傾斜角的變化或者不妨礙取向。添加成分中優(yōu)選添加聚合性單體(例如具有乙烯基、乙烯氧基、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基的化合物)。上述化合物的添加量相對于盤狀液晶性化合物通常為1~50質量％的范圍、優(yōu)選為530質量％的范圍?；旌鲜褂镁酆闲缘姆磻怨倌軋F數為4以上的單體時，可以提高取向膜和光學各向異性層之間的粘附性。上述光學各向異性層可以與盤狀液晶性化合物一起含有聚合物。該聚合物優(yōu)選與盤狀液晶性化合物具有某種程度的相容性，并可以賦予盤狀液晶性化合物以傾斜角的變化。聚合物的例子可以舉出纖維素酯。纖維素酯的優(yōu)選例子可以舉出醋酸纖維素、醋酸丙酸纖維素、羥丙基纖維素和醋酸丁酸纖維素。為了不妨礙盤狀液晶性化合物的取向，上述聚合物的添加量相對于盤狀液晶性化合物優(yōu)選為0.1~10質量％的范圍、更優(yōu)選為0.1~8質量％的范圍、進一步優(yōu)選為0.1~5質量％的范圍。盤狀液晶性化合物的盤狀向列液晶相-固相轉變溫度優(yōu)選為70~300°C、更優(yōu)選為70~170°C。(液晶性分子的取向狀態(tài)的固定)可以將取向后的液晶性分子維持取向狀態(tài)來固定。固定化優(yōu)選通過聚合反應來實施。聚合反應包括使用熱聚合引發(fā)劑的熱聚合反應和使用光聚合引發(fā)劑的光聚合反應。優(yōu)選光聚合反應。在光聚合引發(fā)劑的例子中包括a-羰基化合物(美國專利2367661號、美國專利2367670號的各公報記載)、偶姻醚(美國專利24478828號公報記載)、a-烴取代芳香族偶姻化合物(美國專利2722512號公報記載)、多核醌化合物(美國專利3046127號、美國專利2951758號的各公報記載)、三芳基咪唑二聚物和對-氨基苯基酮的組合(美國專利3549367號公報記載)、吖啶和吩嗪化合物(日本特開昭60-105667號、美國專利4239850號的各公30報記載)和噁二唑化合物(美國專利4212970號公報記載)。光聚合引發(fā)劑的使用量優(yōu)選為涂覆液固體成分的0.01-20質量％的范圍、更優(yōu)選為0.5~5質量％的范圍。用于液晶性分子聚合的光照射優(yōu)選使用紫外線。照射能量優(yōu)選為20mJ/cn^50J/cn^的范圍、更優(yōu)選為20mJ/cm25000mJ/cm2的范圍、進一步優(yōu)選為100mJ/cm2800mJ/cm2的范圍。另外，為了促進光聚合反應，可以在加熱條件下實施光照射。還可以在光學各向異性層上設置保護層。上述光學各向異性層可以如下形成制備含有上述液晶性化合物的至少一種和根據需要的聚合性引發(fā)劑、氟系聚合物等添加劑的涂覆液，將該涂覆液涂覆在取向膜表面上并進行干燥而形成。氟系化合物可以舉出以往公知的化合物，具體例如可以舉出日本特開2001-330725號公報說明書中的段落號所記載的氟系化合物等。用于涂覆液制備的溶劑優(yōu)選使用有機溶劑。有機溶劑的例子包括酰胺(例如N,N-二甲基甲酰胺)、亞砜(例如二甲基亞砜)、雜環(huán)化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、烷基鹵化物(例如氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷)、酯(例如醋酸甲酯、醋酸丁酯)、酮(例如丙酮、丁酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。優(yōu)選烷基鹵化物和酮。可以并用2種以上的有機溶劑。制作均一性高的光學補償薄膜時，上述涂覆液的表面張力優(yōu)選為25mN/m以下、更優(yōu)選為22mN/m以下。涂覆液的涂覆可以通過公知的方法(例如擠出涂覆法、直接凹版涂覆法、逆向凹版涂覆法、口模涂覆法)來實施。(偏振膜)本發(fā)明的偏振片中可以使用的偏振膜優(yōu)選以Optiva公司制的偏振膜為代表的涂覆型偏振膜、或者由粘合劑和碘或二色性色素所構成的偏振膜。偏振膜中的碘和二色性色素通過在粘合劑中取向而表現(xiàn)偏振性能。碘和二色性色素優(yōu)選沿著粘合劑分子取向，或者二色性色素通過液晶那樣的的自身組織化而在一個方向上取向。常用的起偏器例如可以如下制作將拉伸后的聚合物浸漬在浴槽中的碘或二色性色素的溶液中，使碘或二色性色素滲透至粘合劑中，從而制作。常用的偏振膜從聚合物表面至4pm左右(兩側合起來為8pm左右)分布有碘或二色性色素，為了獲得充分的偏振性能，需要至少l(Him的厚度。滲透度可以通過碘或二色性色素的溶液濃度、同浴槽的溫度、同浸漬時間來控制。如上所述，粘合劑厚度的下限優(yōu)選為10Pn。另一方面，厚度的上限并無特別限定，從在液晶顯示裝置中使用偏振片時發(fā)生的漏光現(xiàn)象的觀點出發(fā)，越薄越好。目前，常用偏振片優(yōu)選為約3(Him以下、更優(yōu)選為25pn以下、進一步優(yōu)選為20pm以下。為20pm以下時，漏光現(xiàn)象在17英寸的液晶顯示裝置中觀察不到。偏振膜的粘合劑還可以交聯(lián)。交聯(lián)的粘合劑可以使用本身可以交聯(lián)的聚合物。可以通過光、熱和pH變化使具有官能團的聚合物或在聚合物中導入官能團而得到的粘合劑在粘合劑間發(fā)生反應，從而形成偏振膜。另外，可以通過交聯(lián)劑在聚合物中導入交聯(lián)結構?？梢允褂米鳛榉磻钚愿叩幕衔锏慕宦?lián)劑，在粘合劑間導入來自交聯(lián)劑的鍵合基團，將粘合劑之間交聯(lián)，從而形成。交聯(lián)一般通過將含有聚合物或含有聚合物和交聯(lián)劑的混合物的涂覆液涂覆在透明支撐體上后進行加熱來實施。由于只要在最終商品階段可以確保持久性即可，因此使其交聯(lián)的處理可以在獲得最終偏振片前的任何階段進行。偏振膜的粘合劑可以使用其本身可以交聯(lián)的聚合物或可以通過交聯(lián)劑而交聯(lián)的聚合物的任一種。聚合物的例子包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚苯乙烯、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯酰胺)、聚乙烯基甲苯、氯磺化聚乙烯、硝基纖維素、氯化聚烯烴(例如聚氯乙烯)、聚酯、聚酰亞胺、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯、羧甲基纖維素、聚丙烯、聚碳酸酯和它們的共聚物(例如丙烯酸/甲基丙烯酸聚合物、苯乙烯/馬來酰亞胺聚合物、苯乙烯/乙烯基甲苯聚合物、醋酸乙烯酯/氯乙烯聚合物、乙烯/醋酸乙烯酯聚合物)。優(yōu)選水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯酰胺)、羧甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇)，更優(yōu)選為明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇，最優(yōu)選為聚乙烯醇、改性聚乙烯醇。聚乙烯醇、改性聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選為70~100%、更優(yōu)選為80~100%、最優(yōu)選為95~100%。聚乙烯醇的聚合度優(yōu)選為100~5000。改性聚乙烯醇通過共聚改性、鏈轉移改性或嵌段聚合改性而在聚乙烯醇中導入改性基團而獲得。共聚改性中，可以引入-COONa、-Si(OH)3、N(CH3)3C1、C9H19COO-、-S03Na、-C12H25作為改性基團。鏈轉移改性中，可以引入-COONa、-SH、-SC12H25作為改性基團。改性聚乙烯醇的聚合度優(yōu)選為1003000。改性聚乙烯醇在日本特開平8-338913號、日本特開平9-152509號和日本特開平9-316127號的各公報中有記載。特別優(yōu)選皂化度為85~95%的未改性聚乙烯醇和垸基硫代改性聚乙烯醇。聚乙烯醇和改性聚乙烯醇可以并用2種以上。粘合劑的交聯(lián)劑多量添加時，可以提高偏振膜的耐濕熱性。但相對于粘合劑添加50質量％以上的交聯(lián)劑時，碘或二色性色素的取向性降低。交聯(lián)劑的添加量相對于粘合劑優(yōu)選為0.1-20質量％、更優(yōu)選為0.515質量％。粘合劑即便在交聯(lián)反應結束后，也在某種程度上含有未反應的交聯(lián)劑。但是，殘存的交聯(lián)劑的量優(yōu)選為粘合劑中的1.0質量％以下、更優(yōu)選為0.5質量％以下。粘合劑層中以超過1.0質量°/。的量含有交聯(lián)劑時，有時持久性產生問題。即，當將交聯(lián)劑的殘留量較多的偏振膜組裝于液晶顯示裝置中并長期使用或者高溫高濕氣氛下長時間放置時，有時發(fā)生偏振度的降低。交聯(lián)劑在美國再頒專利23297號公報中有記載。另夕卜，硼化合物(例如硼酸、硼砂)也可以作為交聯(lián)劑來使用。二色性色素可以使用偶氮系色素、二苯乙烯系色素、吡唑啉酮系色素、三苯基甲烷系色素、喹啉系色素、噁嗪系色素、噻嗪系色素或蒽醌系色素。二色性色素優(yōu)選為水溶性。二色性色素優(yōu)選具有親水性取代基(例如磺基、氨基、羥基)。二色性色素的例子包括C.I.直接黃12、C丄直接橙39、C丄直接橙72、C.I.直接紅39、C.I.直接紅79、C丄直接紅81、C.I.直接紅83、C.I.直接紅89、C.I.直接紫48、C.I.直接藍67、C.I.直接藍90、C.I.直接綠59、C.I.酸性紅37。二色性色素記載于日本特開平1-161202號、日本特開平l-172906號、日本特開平1-172907號、日本特開平1-183602號、日本特開平1-248105號、日本特開平1-265205號、日本特開平7-261024號各公報中。二色性色素作以游離酸、或堿金屬鹽、銨鹽或胺鹽的形式使用。通過配合2種以上的二色性色素，可以制造具有各種色調的偏振膜。使用了在使偏振軸垂直時呈現(xiàn)黑色的化合物(色素)的偏振膜、或者按照呈現(xiàn)黑色的方式配合了各種二色性分子的偏振膜或偏振片的單板透射率和偏振率均優(yōu)異，從而優(yōu)選。為了提高液晶顯示裝置的對比度，優(yōu)選偏振片的透射率高，優(yōu)選偏振度也高。偏振片的透射率在波長550nm的光下優(yōu)選為30~50%范圍、更優(yōu)選為35~50%范圍、最優(yōu)選為4050%范圍(偏振片的單板透射率的最大值為50%)。偏振度在波長550nm的光下優(yōu)選為90~100%的范圍、更優(yōu)選為95~100%的范圍、最優(yōu)選為99~100%的范圍。可以介由粘接劑來配置偏振膜和光學各向異性層、或者偏振膜和取向膜。粘接劑可以使用聚乙烯醇系樹脂(包括乙酰乙酰基、磺酸基、羧基、利用氧化烯基的改性聚乙烯醇)或硼化合物水溶液。其中優(yōu)選聚乙烯醇系樹脂。粘接劑層的厚度在干燥后優(yōu)選為O.Ol-lOpm的范圍、特別優(yōu)選為0.055|im的范圍。(偏振片的制造)從合格率的觀點出發(fā)，偏振膜優(yōu)選將粘合劑相對于偏振膜的長度方向(MD方向)傾斜1080度后進行拉伸(拉伸法)，或者在摩擦(摩擦法)后用碘、二色性染料進行染色。傾斜角度優(yōu)選按照與粘貼在構成LCD的液晶單元兩側的2張偏振片的透射軸與液晶單元的縱向或橫方向所成的角度相對應的方式來進行拉伸。通常的傾斜角度為45度。但是，最近開發(fā)了在透射型、反射型和半透射型LCD中并非45度的裝置，拉伸方向優(yōu)選可以對應LCD的設計任意地調整。在為拉伸法時，拉伸率優(yōu)選為2.5-30.0倍、更優(yōu)選為3.0~10.0倍。拉伸可以通過在空氣中的干式拉伸來實施。另外，還可以實施浸漬于水中的狀態(tài)下的濕式拉伸。干式拉伸的拉伸率優(yōu)選為2.5-5.0倍、濕式拉伸的拉伸率優(yōu)選為3.0-10.0倍。拉伸工序可以包含斜向拉伸并分數次進行。通過分成數次，即便進行高倍率拉伸也可更均勻地拉伸。斜向拉伸前，也可以在橫向或縱向上進行若干的拉伸(防止寬度方向收縮的程度)。這里所說的拉伸率是指拉伸前在薄膜上標記標點，以其拉伸前長度(L)與拉伸后長度(L，)之比(L，/L)來表示。拉伸可以通過將雙軸拉伸中的拉幅機拉伸在左右不同的工序中進行來實施。上述雙軸拉伸與通常薄膜制膜中進行的拉伸方法相同。雙軸拉伸中，由于利用左右不同的速度進行拉伸，因此有必要使拉伸前的粘合劑薄膜的厚度左右不同。在流延制膜中，可以通過在口模上造成錐度，從而使粘合劑溶液的流量產生左右差異。如上所述，可以制造相對于偏振膜的MD方向傾斜10~80度并進行拉伸而得到的粘合劑薄膜。摩擦法中，可以應用作為LCD的液晶取向處理工序而廣泛采用的摩擦處理方法。即，通過將膜的表面用紙、紗布、毛氈、橡膠或尼龍、聚酯纖維在恒定方向上摩擦，從而獲得取向。一般來說，通過使用平均地植有長度和粗度均勻的纖維而成的布進行數次左右的摩擦來實施。優(yōu)選使用輥本身的正圓度、圓柱度、偏差(偏芯)均為30pm以下的摩擦輥來實施。薄膜相對于摩擦輥的摩擦角度優(yōu)選為0.1~90度。但如日本特開平8-160430號公報所述，通過巻繞360度以上，也可以獲得穩(wěn)定的摩擦處理。將長條薄膜進行摩擦處理時，優(yōu)選利用搬送裝置以恒定張力的狀態(tài)、1100m/min的速度來搬送薄膜。為了設定任意的摩擦角度，摩擦輥優(yōu)選相對于薄膜行進方向在水平方向上可以自由旋轉。優(yōu)選在0~60度的范圍內選擇適當的摩擦角度。用于液晶顯示裝置時，優(yōu)選4050度、特別優(yōu)選45度。可以將本發(fā)明的光學補償薄膜和偏振片用于各種模式的液晶顯示裝置。以下說明各液晶模式的光學各向異性層的優(yōu)選形態(tài)。(TN模式液晶顯示裝置)TN模式的液晶單元是最多用作彩色TFT液晶顯示裝置的，記載于大量文獻中。TN模式的黑顯示時的液晶單元中的取向狀態(tài)為在單元中央部棒狀液晶性分子豎起、在單元的基板附近棒狀液晶性分子橫臥的取向狀態(tài)。對于單元中央部分的棒狀液晶性分子，可以用垂直取向(homeotropicalignment)(圓盤面橫臥的水平取向)的盤狀液晶性化合物或(透明)支撐體來補償，對于單元基板附近的棒狀液晶性分子，可以用混合取向(長軸的傾斜隨著與偏振膜的距離而變化的取向)的盤狀液晶性化合物來補償。對于單元中央部分的棒狀液晶性分子，可以用平行取向(homogeneousalignment)(長軸橫臥的水平取向)的棒狀液晶性化合物或(透明)支撐體來補償，對于單元基板附近的棒狀液晶性分子，也可以用混合取向的盤狀液晶性化合物來補償。垂直取向的液晶性分子在液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度為85~95度的狀態(tài)下取向。平行取向的液晶性分子在液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度小于5度的狀態(tài)下取向。對于混合取向的液晶性分子，優(yōu)選液晶性分子的長軸平均取向方向與偏振膜面所成角度為15度以上、更優(yōu)選為15度~85度。(透明)支撐體或盤狀液晶性化合物進行垂直取向的光學各向異性層、或棒狀液晶性化合物進行平行取向的光學各向異性層、以及由垂直取向的盤狀液晶性化合物和平行取向的棒狀液晶性化合物的混合體構成的光學各向異性層的Rth延遲值為40nm200nm、Re延遲值優(yōu)選為070nm。垂直取向(水平取向)的盤狀液晶性化合物層和平行取向(水平取向)的棒狀液晶性化合物記載于日本特開平12-304931號和日本特開平12-304932號各公報中?；旌先∠虻谋P狀液晶性化合物層記載于日本特開平8-50206號公報中。(OCB模式液晶顯示裝置)OCB模式的液晶單元為在液晶單元的上部和下部使棒狀液晶性化合物沿基本相反的方向(對稱地)進行取向的彎曲取向模式的液晶單元。使用彎曲取向模式的液晶單元的液晶顯示裝置公開于美國專利4583825號、美國專利5410422號的各公報中。棒狀液晶性化合物由于在液晶單元的上部和下部對稱地進行取向，因此彎曲取向模式的液晶單元具有自我光學補償功能。因此，該液晶模式被稱作OCB(光學補償彎曲)液晶模式。OCB模式的液晶單元也與TN模式同樣，在黑顯示時，液晶單元中的取向狀態(tài)為單元中央部處棒狀液晶性化合物豎起、單元基板附近處棒狀液晶性化合物橫臥的取向狀態(tài)。由于黑顯示的液晶取向與TN模式為相同狀態(tài)，因此優(yōu)選方式也與TN模式對應相同。但是與TN模式相比，OCB模式由于單元中央部處液晶性化合物豎起的范圍更大，因此對于盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或者棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層，有必要進行若干的延遲值調整。具體地說，(透明)支撐體上的盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層的Rth延遲值優(yōu)選為150nm500nm、Re延遲值優(yōu)選為2070nm。(VA模式液晶顯示裝置)VA模式的液晶單元中，未施加電壓時棒狀液晶性化合物基本垂直地取向。VA模式的液晶單元中，除了(1)在未施加電壓時使棒狀液晶性化合物基本垂直地取向、施加電壓時使其基本水平地取向的狹義VA模式的液晶單元(日本特開平2-176625號公報記載)之外，還包括(2)為了擴大視角而將VA模式多疇化(MVA模式的)的液晶單元(SID97、Digestoftech.Papers(預稿集)28(1977)845記載)、(3)在未施加電壓時使棒狀液晶性化合物基本垂直地取向、施加電壓時使其扭曲多疇取向的模式(n-ASM模式)的液晶單元(日本液晶討論會的預稿集58-59(1998)記載)和(4)SURVAIVAL模式的液晶單元(LCDInternational98上發(fā)表)。VA模式的液晶顯示裝置在黑顯示時，液晶單元中的棒狀液晶性化合物幾乎全部為豎起的狀態(tài)，因此優(yōu)選用盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或者棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層來補償液晶性化合物，另外，優(yōu)選用棒狀液晶性化合物為平行取向、棒狀液晶性化合物的長軸平均取向方向與偏振膜的透射軸方向所成角度小于5度的光學各向異性層來補償偏振片的視角依賴性。盤狀液晶性化合物為垂直取向的光學各向異性層或棒狀液晶性化合物為平行取向的光學各向異性層的Rth延遲值優(yōu)選為150nm500nm、Re延遲值優(yōu)選為20~70nm。(其它液晶顯示裝置)對于ECB模式和STN模式的液晶顯示裝置，可以用與上述同樣的思考方法進行光學補償。(a)防反射層的賦予(防反射膜)可以在本發(fā)明的熱塑性薄膜上賦予防反射層。防反射膜一般是在透明基體上設置也作為防污性層的低折射率層、以及具有高于低折射率層的折射率的至少一層的層(即高折射率層、中折射率層)而成。作為層疊有折射率不同的無機化合物(金屬氧化物等)的透明薄膜的多層膜，可以舉出下述方法使用化學蒸鍍(CVD)法、物理蒸鍍(PVD)法、烷氧基金屬等金屬化合物的溶膠-凝膠法來形成膠體狀金屬氧化物粒子覆膜后進行后處理(紫外線照射日本特開平9-157855號公報、等離子體處理日本特開2002-327310號公報)，從而形成薄膜。另一方面，作為生產率高的防反射膜，提出了各種將在基質中分散無機粒子而成的薄膜進行層疊涂覆而得到的防反射膜。還可舉出下述防反射膜由在利用上述涂覆形成的防反射膜上的最上層表面具有微細凹凸形狀且賦予了防眩性的防反射層構成的防反射膜。本發(fā)明的熱塑性薄膜可以適用于上述任何方式，特別優(yōu)選的是利用涂覆的方式(涂覆型)。(a-l)涂覆型防反射膜的層構成在基體上由至少依次為中折射率層、高折射率層、低折射率層(最外層)的層構成而形成的防反射膜按照具有滿足以下關系的折射率的方式來設計。高折射率層的折射率>中折射率層的折射率>透明支撐體的折射率>低折射率層的折射率另外，透明支撐體和中折射率層之間還可以設置硬涂層。而且，可以由中折射率硬涂層、高折射率層和低折射率層構成。例如，可以舉出日本特開平8-122504號公報、日本特開平8-110401號公報、日本特開平10-300902號公報、日本特開2002-243卯6號公報、日本特開2000-111706號公報等。另外，還可以對各層賦予其它功能，例如可以舉出防污性的低折射率層、防靜電性的高折射率層(例如日本特開平10-206603號公報、日本特38開2002-243906號公報等)等。防反射膜的霧度優(yōu)選為5°/。以下、更優(yōu)選為3%以下。另外，膜強度在根據JISK5400的鉛筆硬度試驗中優(yōu)選為H以上、更優(yōu)選為2H以上、最優(yōu)選為3H以上。(a-2)高折射率層和中折射率層防反射膜的具有高折射率的層由至少含有平均粒子大小為100nm以下的高折射率無機化合物超微粒子和基質粘合劑的固化性膜而構成。高折射率的無機化合物微粒子可以舉出折射率為1.65以上的無機化合物，優(yōu)選折射率為1.9以上的無機化合物。例如，可以舉出Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等的氧化物、含有這些金屬原子的復合氧化物等。為了制成這種超微粒子，可以舉出用表面處理劑處理粒子表面的方法(例如硅垸偶聯(lián)劑等日本特開平11-295503號公報、日本特開平11-153703號公報、日本特開2000-9908號公報、陰離子性化合物或有機金屬偶聯(lián)劑日本特開2001-310432號公報等)、制成以高折射率粒子為芯的芯鞘結構的方法(日本特開2001-166104等)、與特定分散劑的并用(日本特開平11-153703號公報、美國專利第6210858號說明書、日本特開2002-2776069號公報等)等。形成基質的材料可以舉出以往公知的熱塑性樹脂、固化性樹脂覆膜等。另外，優(yōu)選選自含有至少2個以上的自由基聚合性和/或陽離子聚合性的聚合性基團的含多官能性化合物的組合物、含有水解性基團的有機金屬化合物及其部分縮合物組合物中的至少1種組合物。例如可以舉出日本特開2000-47004號公報、日本特開2001-315242號公報、日本特開2001-31871號公報、日本特開2001-296401號公報等所記載的化合物。另外，還優(yōu)選由烷氧基金屬的水解縮合物獲得的膠體狀金屬氧化物和由垸氧基金屬組合物獲得的固化性膜。例如記載于日本特開2001-293818號公報等中。高折射率層的折射率一般為1.702.20。高折射率層的厚度優(yōu)選為5nm10(im、更優(yōu)選為10nmljam。中折射率層的折射率按照處于低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間的值來調整。中折射率層的折射率優(yōu)選為1.501.70。(a-3)低折射率層低射射率層依次層疊于高折射率層上而成。低折射率層的折射率為1.201.55。優(yōu)選為1.301.50。優(yōu)選制成具有耐擦傷性、防污性的最外層來構建。作為大大提高耐擦傷性的方法，賦予表面以光滑性是有效的，可以適用以往公知的包括有機硅的導入、氟的導入等的薄膜層的方法。含氟化合物的折射率優(yōu)選為1.35~1.50。更優(yōu)選為1.36~1.47。另夕卜，含氟化合物優(yōu)選為以35~80質量％的范圍含有氟原子且具有交聯(lián)性或聚合性官能團的化合物。例如，可以舉出日本特開平9-222503號公報說明書段落號、日本特開平11-38202號公報說明書段落號、日本特開2001-40284號公報說明書段落號、日本特開2000-284102號公報等所記載的化合物。有機硅化合物為具有聚硅氧烷結構的化合物，優(yōu)選在高分子鏈中具有固化性官能團或聚合性官能團、在膜中具有交聯(lián)結構的化合物。例如，可以舉出反應性有機硅(例如SILAPLANE(Chisso株式會社制)、兩末端含有硅烷醇基的聚硅氧烷(日本特開平11-258403號公報等)等。具有交聯(lián)或聚合性基團的含氟和/或硅氧烷的聚合物的交聯(lián)或聚合反應優(yōu)選如下實施在涂覆含有聚合引發(fā)劑、增感劑等且用于形成最外層的涂覆組合物的同時或涂覆之后進行光照射或加熱，從而實施。另外，還優(yōu)選下述溶膠-凝膠固化膜通過在催化劑共存下的硅垸偶聯(lián)劑等有機金屬化物與含有特定含氟烴基的硅垸偶聯(lián)劑的縮合反應而發(fā)生固化。例如，可以舉出含有聚氟代垸基的硅垸化合物或其部分水解縮合物(曰本特開昭58-142958號公報、日本特開昭58-147483號公報、日本特開昭58-147484號公報、日本特開平9-157582號公報、日本特開平11-106704號公報記載等所記載的化合物)、含有作為含氟長鏈基的聚"全氟代烷基醚"基的甲硅烷化合物(日本特開2000-117902號公報、日本特開2001-48590號公報、日本特開2002-53804號公報所記載的化合物等)等。低折射率層可以含有填充劑(例如二氧化硅、含氟粒子(氟化鎂、氟化鈣、氟化鋇)等一次粒子平均粒徑為1150nm的低折射率無機化合物、日本特開平11-3820號公報的段落號所記載的有機微粒等)、硅烷偶聯(lián)劑、潤滑劑、表面活性劑等作為上述以外的添加劑。低折射率層位于最外層的下層時，低折射率可以通過氣相法(真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍覆法、等離子體CVD法等)來形成。從可以廉價地制造的方面出發(fā)，優(yōu)選涂覆法。低折射率層的膜厚優(yōu)選為30200nm、更優(yōu)選為50150nm、最優(yōu)選為60~120nm。(a-4)硬涂層硬涂層為了賦予防反射膜以物理強度而設置在透明支撐體的表面上。特別優(yōu)選設置在透明支撐體和上述高折射率層之間。硬涂層優(yōu)選通過光和/或熱的固化性化合物的交聯(lián)反應或聚合反應來形成。作為上述固化性化合物，優(yōu)選含有光聚合性官能團、并含有水解性官能團的有機金屬化合物優(yōu)選為有機烷氧基甲硅烷化合物。這些化合物的具體例子可以舉出與高折射率層中示例的化合物同樣的化合物。硬涂層的具體構成組合物例如可以舉出日本特開2002-144913號公報、曰本特開2000-9908號公報、國際公開第00/46617號小冊子等記載的組合物。高折射率層可以兼作硬涂層。此時，優(yōu)選使用高折射率層所記載的方法將微粒微細地分散并含有在硬涂層中來形成。硬涂層還可以兼作防眩層(后述)，該防眩層通過含有平均粒子大小為0.2~l(^m的粒子而賦予了防眩功能。硬涂層的膜厚可以根據用途來適當地設計。硬涂層的膜厚優(yōu)選為0.210pm、更優(yōu)選為0.5~7|im。硬涂層的強度在根據JISK5400的鉛筆硬度試驗中優(yōu)選為H以上、更優(yōu)選為2H以上、最優(yōu)選為3H以上。另外，在根據JISK5400的錐度試驗中，優(yōu)選試驗前后的試驗片的磨耗量少。(a-5)前方散射層前方散射層是為了在適用于液晶顯示裝置時賦予使視角在上下左右方向上傾斜時的視角改良效果而設置的。通過在上述硬涂層中分散折射率不同的微粒，還可以兼具硬涂層功能。例如，可以舉出將前方散射系數特定化了的日本特開平11-38208號公報、使透明樹脂和微粒的相對折射率在特定范圍內的日本特開2000-199809號公報、使霧度值規(guī)定為40%以上的日本特開2002-107512號公報等。(a-6)其它層除了上述層之外，還可以設置等離子體層、防靜電層、下涂層或保護層等。(a-7)涂覆方法防反射膜的各層可以利用浸涂法、氣刀涂覆法、幕式淋涂法、輥涂法、繞線棒涂覆法、凹版涂覆法、微凹版法、擠出涂布法(美國專利第2681294號說明書)通過涂覆來形成。(a-8)防眩功能防反射膜可以具有散射外光的防眩功能。防眩功能通過在防反射膜表面上形成凹凸而獲得。防反射膜具有防眩功能時，防反射膜的霧度優(yōu)選為3~30%、更優(yōu)選為5~20%、最優(yōu)選為7~20%。在防反射膜表面形成凹凸的方法只要是可以充分保持它們表面形狀的方法，則可以使用任何方法。例如在低折射率層中使用微粒在膜表面形成凹凸的方法(例如日本特開2000-271878號公報等)、在低折射率層的下層(高折射率層、中折射率層或硬涂層)中添加少量(0.1~50質量％)較大粒子(粒子大小為0.052^im)而形成表面凹凸膜，并在其上維持它們形狀來設置低折射率層的方法(例如日本特開2000-281410號公報、日本特開2000-95893號公報、日本特開2001-100004號公報、日本特開2001-281407號公報等)、將最上層(防污性層)物理地轉印凹凸形狀至涂覆設置后的表面上的方法(例如壓花加工方法，記載于日本特開昭63-278839號公報、日本特開平11-183710號公報、日本特開2000-275401號公報等)等。以下記載本發(fā)明中使用的測定法。(1)Rth/Re比、Rth/Re比的范圍(a)將制成薄膜的兩端各剪切5cm后，在整個寬度上以等間隔采集20個樣品(3cmx3cm的正方形)。此時，在MD(制膜方向)、TD(寬度方向)上平行地剪切正方形的各邊。(b)在25°C、相對濕度60%下調濕樣品膜5小時以上后，使用自動雙折射計(KOBRA-21ADH:王子計測器株式會社制)，在25。C、相對濕度60%下，如上所述，從相對于樣品膜表面垂直的方向和從薄膜面法線每隔10°傾斜至50。的方向上，測定波長550nm下的延遲值。(c)由垂直(法線)方向計算面內的延遲值(Re)、由垂直方向、土10。50。方向的測定值計算厚度方向的延遲值(Rth)。(d)將這些各測定點的Rth/Re比的平均值作為"Re/Rth比"。另外，將20點的Rth/Re比中最大值與最小值之差作為"Rth/Re比的范圍"。(2)熱尺寸變化、熱尺寸變化不均(a)在整個寬度上將下述樣品5等分，進行采樣。i)MD樣品MD15cmxTD5cmii)TD樣品TD15cmxMD5cm(b)在25〔、60%相對濕度下調濕各樣品3小時以上，在此環(huán)境中使用基長為10cm的栓規(guī)測量長度。將其作為L1。(C)將各樣品放置在8CTC干燥的環(huán)境下200小時后，在25'C、60%相對濕度下調濕3小時以上，在此環(huán)境中使用基長為10cm的栓規(guī)測量長度。將其作為L2。(d)由下述式測定MD、TD的各點(10點)的熱尺寸變化，將其平均值作為熱尺寸變化。熱尺寸變化(％)=100x|L2-Ll|/Ll(e)將上述10點中的熱尺寸變化(絕對值)的最大值與最小值之差除以10點的熱尺寸變化的平均值并以百分率表示，將其作為熱尺寸變化不均。(3)表面粗糙度使用小型激光干涉計(FUJINON株式會社制，F(xiàn)601)來測定Ra。(4)玻璃化轉變溫度(Tg)將樣品20mg放入掃描型示差熱量計(DSC)的測定盤中。將其在氮氣流中以1(TC/分鐘的速度從3(TC升溫至25(rC后(第一次)、以-l(TC/分冷卻至30。C。之后，再次從30'C升溫至25(TC(第二次)。將第二次中基線從低溫側開始偏離的溫度作為玻璃化轉變溫度(Tg)。<實施例>以下舉出實施例和比較例來更具體地說明本發(fā)明的特征。以下實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發(fā)明主旨，可以適當變更。因此，本發(fā)明的范圍并非局限于以下所示具體例子。1.未拉伸薄膜的制備(1)?；w維素系薄膜(a)熔融制膜薄膜制備日本特開2007-98917的實施例1的醋酸丙酸纖維素薄膜(厚度為100pm)。將其作為薄膜tfCM。其Tg為146X:。根據日本特開2007-169588號公報的實施例B的實施例101來制備?；w維素薄膜(厚度-10(^m、Tg=131°C)。將其作為薄膜弁CN。(b)溶液制膜薄膜制備日本特開2001-188128的實施例1所記載的薄膜No.l(醋酸丙酸纖維素厚度10(Hmi)。將其作為薄膜弁CS。其Tg為15(TC。(2)環(huán)烯烴系薄膜(a)熔融制膜薄膜使用下述樹脂來實施熔融制膜。樹脂A:Polyplastics株式會社制TOPAS6013(Tg=130°C)樹脂B:三井化學株式會社制APEL6015T(Tg=145°C)樹脂C:W098/14499的實施例1的化合物(Tg=136°C)樹脂D:日本特開2007-108529實施例中的合成例1所記載的"樹脂A畫1"(Tg=165。C)樹脂E:三井化學株式會社制APEL6013T(Tg=125°C)在ll(TC的真空干燥機中干燥這些樹脂，使含水率達到0.1%以下后，使用單螺桿混煉擠出機在26(TC下進行熔融，由齒輪泵送出后，使用過濾精度為5i_im的盤式過濾器進行過濾，經由靜態(tài)混合機后，從狹縫間隔為0.8mm、270。C的懸涂口模中將熔融物(熔融樹脂)擠出至設定為(Tg-5)°C、Tg°C、(Tg-10)'C的3個連續(xù)流延輥上。此時，以下述面壓使接觸輥接觸于最上游側的流延輥，制成厚度為100(im的未拉伸薄膜。接觸輥使用日本特開平11-235747號公報的實施例1所記載的輥(記為雙層壓延輥的輥)，并調溫至Tg-5'C(但薄壁金屬外筒厚度為2mm)。之后，在剛要巻繞之前將兩端(整個寬度的各3%)修整后，在兩端進行寬度為10mm、高度為20iim的增厚加工(滾花)。各標準均為以寬度1.5m在30m/分鐘下巻繞3000m。接觸輥壓薄膜^0M1樹脂A(加聚系)0MPa(不使用接薄膜#01^2樹脂A(加聚系)O.lMPa薄膜#0!^3樹脂A(加聚系)IMPa薄膜^0M4樹脂A(加聚系)4.5MPa薄膜A0M5樹脂A(加聚系)6MP3薄膜gOM6樹脂B(加聚系)IMPa薄膜弁OM7樹脂C(開環(huán)聚合系)IMPa薄膜#01^18樹脂D(開環(huán)聚合系)IMPa薄膜gOM9柳旨E(加聚系)IMPa(b)溶液制膜薄膜根據日本特開2007-108529號公報記載的制造例來制備厚度為100pm的薄膜弁OS。其使用與上述薄膜弁OM8相同的樹脂，Tg為165t:。2.橫向拉伸、縱向收縮以表l-l表l-4、表2-1~表2-3的倍率、在Tg+5。C下將上述未拉伸薄膜在橫方向上進行拉幅機拉伸。之后，以表1-1~表1-4記載的方法進行縱向收縮?？v向收縮是在配置有10根直徑40cm輥的熱處理區(qū)域內進行的，以使得達到表l-l表1-4、表2-l表2-3所記載的G/D。另外，一部分的標準為在橫向拉伸前在Tg+10'C下以表1-1~表1-4、表2-1~表2-3記載的拉伸倍率來進行縱向拉伸。表中，縱向拉伸倍率=1是指未進行縱向拉伸。通過上述方法對如此進行橫向拉伸、縱向收縮后的熱塑性薄膜測定Re(寬度20點的平均值)、Rth/Re比、Re/Rth比的范圍、表面粗糙度、熱尺寸變化、熱尺寸變化不均、擦傷劃痕，并記載于表1-1~表1-4、表2-1~表2-3。擦傷劃痕為目視檢查100m來評價強弱。另外，對于實施本發(fā)明的例子，與日本特開2007-108529號公報的實施例1同樣地測定的取向角均為90±1°，且慢軸為TD取向。表l-l表1-4中，作為熱尺寸變化率，記載了如上在80°C200小時下的測定值，但與將時間延長至500小時來進行熱處理的值基本相同。另外，表1-1~表1-4的本發(fā)明1-2728為在與本發(fā)明1-2相同的條件下在縱向收縮處理時在輥上固定了薄膜的例子。本發(fā)明l-27在兩端部(各整個寬度的5%)施加靜電(邊緣噴砂(日語原文為工、乂^匕。二y夕、'))來固定薄膜。為此，使用春日電機制靜電邊緣噴砂裝置(直流穩(wěn)定化電源PSE-2005N和電極HDE-20R-54)，在噴砂電壓為-10kV下實施。本發(fā)明1-28通過將輥制成抽吸轉筒來固定薄膜整個寬度。本發(fā)明1-29中在輥上將輥徑的1/10的捏合輥(輥徑-X)針對接觸于輥上的長度(摩擦長度-Y)而設置Y/X根。另外，捏合輥使用整個寬度的5%長度的輥，并設置在兩端。3.表面處理(1)?；w維素薄膜在2.0N的氫氧化鉀溶液(25°C)中浸漬2分鐘后，用硫酸中和，并用純水洗滌、干燥。通過接觸角法求得該PK-1的表面能量，結果均為6065mN/m。(2)酰化纖維素薄膜以外的薄膜在下述條件下進行電暈放電處理。電極VETAPONE公司制Coron-Plus發(fā)生器CP1C輸出功率900W薄膜搬送速度6m/分鐘4.光學各向異性層用取向膜的制作在這些熱塑性薄膜上使用#16的繞線棒涂覆機以28mL/n^涂覆下述組成的涂覆液。用60。C的熱風干燥60秒鐘、再用卯。C的熱風干燥150秒鐘。(O取向膜涂覆液組成下述的改性聚乙烯醇水甲醇戊二醛(交聯(lián)劑)20質量份360質量份120質量份1.0質量份改性聚乙烯醇OHO"CCKH.(2)光學各向異性層的制作在取向膜上以1171轉使約.2繞線棒在與薄膜搬送方向相同的方向上旋轉，從而將下述涂覆液連續(xù)地涂覆在以30m/分鐘搬送的上述輥薄膜的取向膜面上。在從室溫連續(xù)加熱至IO(TC的工序中，將溶劑干燥，之后在135。C的干燥區(qū)域中，按照對著盤狀液晶化合物層的膜面風速與薄膜搬送方向平行且為1.5m/秒鐘的方式加熱約90秒鐘，從而使盤狀液晶化合物取向。接著，搬送至8(TC的干燥區(qū)域，在薄膜的表面溫度約IO(TC的狀態(tài)下通過紫外線照射裝置(紫外燈輸出功率為160W/cm、發(fā)光長為1.6m)，照射4秒鐘的照度為600mW的紫外線，進行交聯(lián)反應，從而將盤狀液晶化合物固定在其取向上。之后，放冷至室溫，巻繞成圓筒狀，制成輥狀的形態(tài)。光學各向異性層的厚度為1.3pm。另外，測定所得光學補償薄膜的彈性模量時，結果為2.4MPa。(光學各向異性層的涂覆液組成)將下述組合物溶解在97質量份的丁酮中來制備下述化學式的盤狀液晶性化合物(1)環(huán)氧乙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360、大阪有機化學株式會社制)醋酸丁酸纖維素(CAB551-0.2、EastmanChemicals公司制)醋酸丁酸纖維素(CAB531-1、EastmanChemicals公司制)下述化學式的含有氟代脂肪基的聚合物1下述化學式的含有氟代脂肪基的聚合物2光聚合引發(fā)劑(hW力、年二7—907、Ciba-geigy公司制)增感劑(力卞年二7—DETX、日本化藥株式會社制)盤狀液晶性化合物(1)含有氟代脂肪基的聚合物l(a/b=90/10wt%)41.01質量份4.06質量份0.34質量份0.11質量份0.56質量份0.06質量份1.35質量份0.45質量份含有氟代脂肪基的聚合物2(a/b=98/2wt%)CH廠CH-CH2—CH_,Cf^亂H0'OH使偏振片為正交尼科耳配置，觀察所得光學補償片的不均，結果無論從正面還是從法線傾斜至60度的方向上觀察，均未觀察到不均。(3)偏振片的制作將厚度為80,的聚乙烯醇(PVA)薄膜在3(TC下浸漬在碘濃度為0.05質量％的碘水溶液中60秒鐘，進行染色，接著，在浸漬于硼酸濃度為4質量％濃度的硼酸水溶液中60秒鐘的期間縱向拉伸至原來長度的5倍，然后在5(TC下干燥4分鐘，獲得厚度為20pm的偏振膜。將光學補償片浸漬于1.5摩爾/L的55。C的氫氧化鈉水溶液中后，用水充分地洗去氫氧化鈉。之后，在0.005摩爾/L的35'C的稀硫酸水溶液中浸漬1分鐘后，浸漬于水中，充分地洗去稀硫酸水溶液。最后在12(TC下將試樣充分地干燥。將如上迸行了皂化處理的光學補償片與同樣進行了皂化處理的市售酰化纖維素薄膜組合，按照挾持上述偏振膜的方式，使用聚乙烯醇系粘接劑進行粘貼，獲得偏振片。這里，作為市售的?；w維素薄膜，使用FujitacTF80UL(富士膠片株式會社制)。此時，偏振膜和偏振膜兩側的保護膜由于以輥形態(tài)制作，因此各輥薄膜的長度方向平行，并連續(xù)地粘貼。因此，光學補償片輥長度方向(?；w維素薄膜的流延方向)與起偏器吸收軸成為平行的方向。5.TN液晶面板的評價將設置于使用了TN型液晶面板的液晶顯示裝置(MDT-191S、三菱電機株式會社制)的一對偏振片剝離，取而代之，將上述制作的偏振片介由粘著劑粘貼在觀察者側和背光側，每側各為一張，并使光學補償片成為液晶單元側。觀察者側的偏振片的透射軸與背光側的偏振片的透射軸配置成O模式。如此制作的TN液晶面板在80。C下干燥熱處理200小時。熱處理后，在25"C、60%相對濕度下調溫、調濕8小時后，對液晶顯示裝置實施下述評價。(a)對比度、對比度不均在通常的室內熒光燈照明下，使用分光放射亮度計，測定從液晶顯示裝置的下側透射的亮度。此時的觀察角度在將液晶顯示裝置水平放置的狀態(tài)下，在偏離法線080。的方向上以每10。固定極角，在各個角度上以每10。改變液晶顯示裝置的方位角，同時測定液晶顯示裝置開、關時的亮度，計算作為開、關時亮度比的對比度比。從全方位對全部極角、方位角的對比度比加合后得到的值進行點數評價，并作為對比度記載于表1-1~表1-4、表2-l表2-3。另外，將畫面整個區(qū)域等分IOO份得到的點進行該測定，評價用對比度的最大值與最小值之差除以平均值并以百分率表示的對比度不均。(b)漏光使液晶顯示裝置進行黑顯示，求出用目視可以確認漏光的范圍，以相對于顯示畫面總面積的百分率表示將該面積。(c)評價結果表I-l表1-4表示了縱向收縮處理等工序條件的研究結果。本發(fā)明1-1~1-7、比較例1-1~1-2顯示了縱向收縮下的G/D比的效果，低于本發(fā)明范圍的比較例1-1的Rth/Re比的范圍增大、對比度不均增大。另外，熱尺寸變化增大、漏光也增大。另外，G/D比超過本發(fā)明范圍時，如比較例1-2所示，Rth/Re比增大、對比度降低。另一方面，G/D比為本發(fā)明范圍內的例子顯示了良好的特性。本發(fā)明1-81-10、本發(fā)明1-23、1-24、比較例1-3、l-4顯示了V2/Vl的效果。V2/V1超過本發(fā)明范圍時，如比較例1-3所示，Rth/Re比增加、對比度降低。V2/V1低于本發(fā)明范圍時，熱尺寸變化變得過小，漏光增加、縱向收縮處理中的擦傷劃痕也增加。另一方面，V2/V1為本發(fā)明范圍內的例子顯示了良好的特性。本發(fā)明1-11-1-14顯示了縱向收縮溫度的效果。優(yōu)選(Tg-20)°C~(Tg+50)°C，超過該范圍時，顯示了Rth/Re比易于增大、對比度降低的傾向。低于上述溫度范圍時，不僅無法降低Rth/Re，而且熱尺寸變化也易于增大，顯示了對比度降低、漏光增加的傾向。另一方面，縱向收縮處理溫度在本發(fā)明范圍內的例子顯示了良好的特性。本發(fā)明1-15~1-19顯示了改變接觸輥條件、改變表面粗糙度的結果。表面粗糙度過小時，與輥的摩擦過強，如本發(fā)明1-19所示，發(fā)生擦傷劃痕。表面粗糙度大時，如本發(fā)明115所示，Rth/Re比、Rth/Re比的范圍增加、對比度稍有降低、對比度不均稍有增加。另一方面，表面粗糙度為0.00050.004的例子顯示了良好的特性。本發(fā)明l-20l-22顯示了拉伸倍率的效果。本發(fā)明的優(yōu)選范圍(1.1倍~3.0倍)下顯示了良好的性能，但3.1倍拉伸的本發(fā)明1-22中，Rth/Re比和熱尺寸變化增加，對比度不均和漏光稍有增加。本發(fā)明1-2、1-27、1-28、l-29顯示了在縱向收縮時固定兩端的效果。與未固定兩端的本發(fā)明1-2相比，固定了兩端的本發(fā)明1-27、1-28、1-29(分別為邊緣噴砂法、抽吸轉筒法、捏合輥法)的液晶顯示特性(對比度不均、漏光)有所改善。表2-l表2-3顯示了薄膜種類的效果。進行熔融制膜法間的薄膜材料間的比較。本發(fā)明2-3、2-4、2-13的加聚系環(huán)烯烴的Re表現(xiàn)性高、Rth/Re比的范圍低、對比度不均和漏光少，特別優(yōu)異。下一個優(yōu)異的是本發(fā)明2-5、2-6所示的開環(huán)聚合系的環(huán)烯烴。它們與加聚系(本發(fā)明2-3、2-4)相比，Rth/Re比的范圍和熱尺寸變化增加，對比度不均和漏光稍有增加。本發(fā)明2-l、2-2、2-12的?；w維素與加成、開環(huán)聚合的環(huán)烯烴相比，Re難以表現(xiàn)，而且Rth/Re比的范圍和熱尺寸變化增加，對比度稍有降低，對比度不均和漏光稍有增加。將使用含有內酯環(huán)的聚合物、聚碳酸酯系聚合物來實施本發(fā)明時的例子示于本發(fā)明2-8~2-10中。聚碳酸酯根據日本特開2006-277914的實施例1、日本特開2006-284703的實施例1來制備(但是，后者在不進行縱向拉伸的情況下來制備未拉伸薄膜)。含有內酯環(huán)的聚合物根據國際公開第2006/025445號小冊子記載的實施例1來進行制膜。但以薄膜寬度為1.5m來進行制膜。以這些坯片(未拉伸薄膜)的厚度全部為100pm進行制備。它們也獲得了良好的特性，按照本發(fā)明2-10、2-8、2-9的順序獲得良好的結果。比較制膜法的例子為本發(fā)明2-1和2-2(?；w維素)、本發(fā)明2-6、2-7(環(huán)烯烴)，與熔融制膜法相比，均是溶液制膜法可以更稍為降低Rth/Re比的范圍和熱尺寸變化，可以更稍降低對比度不均和漏光。本發(fā)明2-7和比較例2-1是對在相同薄膜之間進行本發(fā)明的縱向收縮的方法及日本特開2007-108529號公報記載的實施例1的方法(同時使用雙軸拉伸機，在橫向拉伸的同時在拉幅機內進行縱向收縮)進行了比較。本發(fā)明2-7可以減小Rth/Re比的范圍和熱尺寸變化，結果可以顯著減小對比度不均和漏光。比較例2-2為根據日本特開2006-133720號公報記載的實施例1，在將ZEONOR(Tg=136°C)進行橫向拉伸的同時縱向收縮。另一方面，本發(fā)明2-11是在以與比較例2-2同樣的橫向拉伸倍率、如本發(fā)明所示橫向拉伸后，根據本發(fā)明的條件(G/D)在輥上進行縱向收縮。本發(fā)明2-8可以減小Rth/Re比的范圍和熱尺寸變化，結果可以顯著減小對比度不均和漏光。[表l陽l]<table>tableseeoriginaldocumentpage53</column></row><table>[表1-2]<table>tableseeoriginaldocumentpage54</column></row><table>熱收縮G/W*:在輥上施加靜電(邊緣噴砂)來固定薄膜兩端**:在輥上用抽吸轉筒吸引整個面來固定薄膜***:在輥上用捏合輥擠壓兩端來固定薄膜[表1-3]<table>tableseeoriginaldocumentpage55</column></row><table>[表1-4]<table>tableseeoriginaldocumentpage55</column></row><table>[表2-1]<table>tableseeoriginaldocumentpage56</column></row><table>*PC-1:根據日本特開2006-277914號公報的實施例1來制備PC-1:根據日本特開2006-284703號公報的實施例1來制備內酯根據國際公開第2006/025445號小冊子的實施例1來制備[表2-2]<table>tableseeoriginaldocumentpage57</column></row><table>縱向收縮G/W*比較例2-1:根據日本特開2007-108529號公報的實施例1，使用雙軸拉伸機同時實施**比較例2-2:根據日本特開2006-133720號公報的實施例1，使用雙軸拉伸機同時實施(同時進行TD拉伸和縱向收縮)[表2-3]<table>tableseeoriginaldocumentpage58</column></row><table>6.其它液晶顯示元件的制作將本發(fā)明的偏振片用于日本特開平10-48420號公報的實施例1記載的液晶顯示裝置、日本特開平9-26572號公報的實施例1記載的含有盤狀液晶分子的光學各向異性層、涂覆有聚乙烯醇的取向膜、日本特開2000-154261號公報的圖2~9所記載的20英寸VA型液晶顯示裝置、日本特開2000-154261號公報的圖10~15所記載的20英寸OCB型液晶顯示裝置、日本特開2004-12731號公報的圖11所記載的IPS型液晶顯示裝置中。而且，將本發(fā)明的低反射膜粘貼在這些液晶顯示裝置的最表層后進行評價，結果獲得良好的液晶顯示元件。7.低反射膜的制作根據發(fā)明協(xié)會公開技報(公技號2001-1745)的實施例47，將本發(fā)明的拉伸熱塑性薄膜制成低反射膜，結果獲得良好的光學性能。權利要求1.熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜后，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度V1和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6～0.999下在熱處理區(qū)域中搬送，所述熱處理區(qū)域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01～3的方式來配置。2.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.050.9。3.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，在輥上固定薄膜的兩端。4.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，在玻璃化轉變溫度(Tg-20)°C~(Tg+50)。C下進行熱處理。5.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述橫方向的拉伸即橫向拉伸的倍率為1.1倍3倍。6.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述熱塑性薄膜由?；w維素、環(huán)烯烴、含有內酯環(huán)的聚合物或聚碳酸酯系聚合物構成。7.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述熱塑性薄膜是通過熔融制膜法制成的。8.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述熱塑性薄膜的表面粗糙度Ra為0.005^im0.04^im。9.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述熱塑性薄膜是通過接觸輥制膜法制成的。10.權利要求1所述的熱塑性薄膜的熱處理方法，其特征在于，所述熱處理后的熱塑性薄膜的Re為50150nm。11.熱塑性薄膜，其特征在于，厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比為0.5以上但小于1，在寬度方向上測定的厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比的范圍為0.010.1，在80°C、200小時下的熱尺寸變化為0.001°/。0.3%。12.熱塑性薄膜的制造方法，其特征在于，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜后，將該薄膜用2根以上的搬送用輥在入口側的搬送速度VI和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6~0.999下在熱處理區(qū)域中搬送，所述熱處理區(qū)域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01~3的方式來配置。全文摘要本發(fā)明提供熱塑性薄膜的熱處理方法、熱塑性薄膜及其制造方法，在所述熱塑性薄膜的熱處理方法中，在橫方向上拉伸熱塑性薄膜后，將所述薄膜在入口側的搬送速度V1和出口側的搬送速度V2之比V2/V1為0.6～0.999下、在熱處理區(qū)域(46)中進行搬送，同時在玻璃化轉變溫度(Tg-20)℃～(Tg+50)℃下進行熱處理，所述熱處理區(qū)域按照輥搭接長度D與輥間長度G之比G/D為0.01～3的方式來配置。熱塑性薄膜的特征在于，Rth/Re比為0.5以上但小于1，在寬度方向上測定的厚度方向的延遲/面內的延遲Rth/Re比的范圍為0.01～0.1，在80℃、200小時下的熱尺寸變化為0.001％～0.3％。文檔編號B29C71/02GK101290358SQ20081009219公開日2008年10月22日申請日期2008年4月18日優(yōu)先權日2007年4月20日發(fā)明者吉田哲也,大歲正明,橋本齊和申請人:富士膠片株式會社