專利名稱：用于制造三維物體的裝置和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種按照權(quán)利要求1和10的前序部分所述的用于制造三維物體的裝置和方法。
背景技術(shù)：
從DE 100 07 711 C1中已知一種此類的裝置和一種此類的方法。那里說明了一種激光燒結(jié)裝置，在該激光燒結(jié)裝置上，在燒結(jié)位置區(qū)域內(nèi)的一移動的探測面上借助一高溫計探測燒結(jié)粉末的溫度，激光的功率根據(jù)被探測的溫度來調(diào)節(jié)。
其中，由高溫計測量的溫度受到燒結(jié)位置熱輻射決定性的影響。根據(jù)粉末不同的曝光度，表面的放射能力(從表面輻射的輻射能量與從一黑色物體上在相同溫度時輻射的輻射能量的比例)發(fā)生變化，由此測量結(jié)果出現(xiàn)偏差。此外，溫度測量也由于反射的激光輻射的發(fā)生偏差。因此，如此測量的溫度對于粉末床(Pulverbett)表面的溫度不是好的值。但是，粉末床表面的溫度根據(jù)使用的構(gòu)造材料(燒結(jié)粉末)在激光燒結(jié)時是一個對于所制造的構(gòu)件的質(zhì)量起決定性的參數(shù)。
從EP 1 466 718 A2和從EP 1 296 788 B1中分別已知一種制造三維物體的裝置，在該裝置上，粉末床表面的溫度在整個工作區(qū)域內(nèi)同時借助一紅外線攝像機(jī)現(xiàn)場解決地測量。其中的一個問題是，在該裝置中，紅外線攝像機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)會被污染。這種通過吹風(fēng)并不能完全避免的污染導(dǎo)致測量結(jié)果根據(jù)地點的不同可能出現(xiàn)偏差。這一溫度測量的另一缺點在于，與其它無接觸的溫度測量儀比如一高溫計相比，紅外線攝像機(jī)的價格較高。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種便于操作的、價格便宜的用于制造三維物體的裝置和一種簡單而價格便宜的用于制造三維物體的方法，其通過電磁或者粒子輻射的作用將構(gòu)造材料的層固結(jié)在與該物體的各個橫截面相應(yīng)的位置上，借助所述輻射，能夠可靠地制造高質(zhì)量的三維物體。
該目的通過按權(quán)利要求1所述的用于制造三維物體的裝置和按權(quán)利要求10所述的用于制造三維物體的方法實現(xiàn)。本發(fā)明的擴(kuò)展結(jié)構(gòu)在從屬權(quán)利要求中說明。
本發(fā)明特別具有的優(yōu)點在于，待固結(jié)的構(gòu)造材料的溫度能夠在不受用于固結(jié)的通過電磁或者粒子輻射輸入構(gòu)造材料中的輻射能影響下測量，因此，能夠非常準(zhǔn)確地控制和/或調(diào)節(jié)。
此外，本發(fā)明還具有的優(yōu)點在于，能夠使用一簡單而價格便宜的點式高溫計用于溫度測量，該高溫計與一紅外線攝像機(jī)相比無需冷卻。此外，對于點式高溫計來說，與對于一紅外線攝像機(jī)相比，在工序箱(Prozesskammer)中需要一小得多的窗。一個小的窗能夠又更容易地通過吹風(fēng)遠(yuǎn)離由過程氣體造成的污染，并且，當(dāng)使用一激光器作為輻射源時，減少由激光逆反射造成的溫度測量裝置損壞的風(fēng)險。
此外，本發(fā)明的優(yōu)點在于，在每個層中的測量區(qū)域能夠自由選擇，亦即能夠改變。在每個層中，無需為了溫度測量保留構(gòu)造區(qū)域的一個保持不變的特定區(qū)域，而是在每個層中，能夠主動地在構(gòu)造區(qū)域的任意位置上使用一空余的區(qū)域用于溫度測量。由此，與借助一固定的點式高溫計測量溫度相比，在沒有位置調(diào)節(jié)裝置情況下更充分的利用構(gòu)造區(qū)域成為可能。
本發(fā)明的另一優(yōu)點在于，在構(gòu)造材料的一個層中，能夠獲得一溫度分布，該溫度分布能夠用于校正局部激光功率，從而這樣將輸入的輻射能更加準(zhǔn)確地調(diào)節(jié)在一最佳的過程窗(Prozessfenster)上。這導(dǎo)致一更高的構(gòu)件的質(zhì)量。
此外，溫度分布還能夠作為用于控制粉末床的與位置有關(guān)的加熱的輸入端參數(shù)使用。局部溫度波動的補(bǔ)償導(dǎo)致一更高的構(gòu)件的質(zhì)量。


本發(fā)明的其它特征和應(yīng)用借助附圖從實施例的描述中得出。
附圖中圖1示出用于制造三維物體的裝置的實施例的示意圖；圖2示出溫度測量裝置的實施方式的部分剖視圖；圖3示出圖1中示出的裝置的示意圖。
具體實施例方式
圖1示出作為按本發(fā)明裝置的實施例的一激光燒結(jié)裝置。該激光燒結(jié)裝置具有一向上開口的容器1。在該容器1中設(shè)置一用于支承待形成的物體的支座2。支座2能夠借助一驅(qū)動裝置4在容器1中沿垂直方向A上下運動。容器1的上邊緣確定一工作平面5。在工作平面5上方設(shè)置一激光器形式的輻射裝置6，該輻射裝置發(fā)出一定向的激光射線18，該激光射線通過一偏轉(zhuǎn)裝置7偏轉(zhuǎn)到工作平面5上。此外，設(shè)置一用于將一層待固結(jié)的粉末狀的構(gòu)造材料涂覆到支座2表面或者已固結(jié)的最后一層上的涂布器8。該涂布器8能夠借助于一通過箭頭B示出的驅(qū)動裝置在工作平面5上來回運動。涂布器由兩個粉末儲存容器10通過在構(gòu)造區(qū)域左右側(cè)的兩個定量器9供給。此外，在構(gòu)造區(qū)域的左右側(cè)還設(shè)置兩個溢出容器11，它們能夠接收在涂布時落下的多余的粉末。
此外，所述裝置還具有一個設(shè)置在工作平面5上方的加熱裝置12，用于加熱粉末床19和特別是用于將已涂敷的、但尚未燒結(jié)的固結(jié)的粉末層預(yù)熱到適于燒結(jié)的工作溫度TA。加熱裝置12例如設(shè)計為一個或多個加熱輻射器比如一紅外線輻射器的形式，其如此設(shè)置在工作平面5上方，使得被涂敷的粉末層能夠均勻地受熱。
在距工作平面5上方的一段距離內(nèi)設(shè)置一溫度測量裝置13，該溫度測量裝置用于無接觸地測量最終被涂敷的即最上方粉末層的溫度。其中，溫度測量裝置13測量在一測量區(qū)域14內(nèi)的平均溫度，該測量區(qū)域與在構(gòu)造區(qū)域內(nèi)被敷的粉末層相比占據(jù)一較小的面積。溫度測量裝置13的測量區(qū)域14的位置能夠借助一位置調(diào)節(jié)裝置15在工作平面內(nèi)改變。
通過一工序箱(Prozesskammer)16，工作區(qū)域與周圍環(huán)境隔斷。由此，在必要時可以阻止粉末的氧化。
控制和/或調(diào)節(jié)裝置17用于控制和/或調(diào)節(jié)加熱裝置12的功率、輻射裝置6的功率、通過偏轉(zhuǎn)裝置7的偏轉(zhuǎn)和用于控制位置調(diào)節(jié)裝置15以及用于讀取被溫度測量裝置13測量的粉末床19的溫度。為此，控制和/或調(diào)節(jié)裝置17與加熱裝置12、溫度測量裝置13、位置調(diào)節(jié)裝置15、偏轉(zhuǎn)裝置7以及與輻射裝置6相連接。
圖2示出溫度測量裝置和位置調(diào)節(jié)裝置的實施方式的視圖。
溫度測量裝置13按該實施方式由一在外殼21中設(shè)置的點式高溫計20組成。外殼21保護(hù)點式高溫計20免受機(jī)械和熱負(fù)荷，并通過一球窩關(guān)節(jié)軸承23與工序箱16的壁22相連接。穿過外殼21中的一個窗24，點式高溫計20探測到來自最上方粉末層的測量區(qū)域14的熱輻射。為防止過程氣體的污染，窗24通過例如氮氣吹風(fēng)，使得過程氣體可以遠(yuǎn)離該窗24。
點式高溫計20的測量區(qū)域能夠通過相對于工作平面的旋轉(zhuǎn)改變。其中，點式高溫計的旋轉(zhuǎn)通過兩個伺服馬達(dá)25和25’實現(xiàn)，它們借助兩個伺服臂27和27’作用在點式高溫計20外殼21的作用點26上。借助伺服馬達(dá)25，點式高溫計20的外殼21圍繞Y軸旋轉(zhuǎn)，借助伺服馬達(dá)25’，它圍繞X軸旋轉(zhuǎn)。特別如圖3所示，通過點式高溫計20圍繞Y軸旋轉(zhuǎn)一角度α，測量區(qū)域14的位置沿X軸移動長度ΔX。與此相應(yīng)，測量區(qū)域的位置通過點式高溫計20圍繞X軸的旋轉(zhuǎn)沿Y軸運動。以此方式，點式高溫計的測量區(qū)域14的位置完全獨立于通過輻射裝置6在工作平面中產(chǎn)生的輻射光斑的位置改變和調(diào)節(jié)。這與測量區(qū)域14的位置和輻射光斑的位置之間不存在固結(jié)位置關(guān)系同樣重要。
下面，根據(jù)一按照第一實施方式的方法說明以上所述的激光燒結(jié)裝置的運行。
首先，通過涂布器8將第一粉末層涂布到支座2上。
對于要制造的物體的質(zhì)量的關(guān)鍵的特別在于，待固結(jié)的最上方的粉末層的溫度具有一在特定區(qū)域亦即過程窗(Prozessfenster)內(nèi)的溫度。在該過程窗以上，粉末無需額外輻射能至少部分地通過燒結(jié)固結(jié)，而在過程窗以下的溫度時在已固結(jié)的層中形成應(yīng)力或其它不希望的由熱引起的效應(yīng)。所謂的卷曲效應(yīng)也經(jīng)常歸咎于最上方粉末層的太低的溫度，在該卷曲效應(yīng)時固結(jié)的層的邊緣向上彎曲或卷曲。因此，借助涂布器涂覆的粉末層必須為了達(dá)到好結(jié)果、特別是為了避免在制造的物體中的應(yīng)力，在借助加熱裝置12固結(jié)之前加熱到過程窗內(nèi)的一工作溫度TA。
為此，在涂覆粉末層之后，用溫度測量裝置13非接觸地測量該層的溫度。根據(jù)在其中測量的溫度確定加熱裝置12的加熱功率。其中，溫度測量裝置13的測量區(qū)域14的位置借助位置調(diào)節(jié)裝置15如此調(diào)節(jié)，使得測量區(qū)域14不與在該層中的在下一步驟通過用激光輻射進(jìn)行固結(jié)的區(qū)域30重疊。因此在按第一實施方式的方法中，在固結(jié)該層之前在每個層中，主動地控制一個用于測量最上方粉末層表面溫度的不被曝光的區(qū)域。
在第一實施方式中，測量區(qū)域優(yōu)選地如此選擇，使得它在層中與待曝光的區(qū)域、以及在下方的已固結(jié)的層中待曝光的區(qū)域之間具有一預(yù)先規(guī)定的距離。該預(yù)先規(guī)定的距離越大，曝光區(qū)域?qū)囟葴y量的影響越小。特別也能夠考慮到的是，緊密燒結(jié)的區(qū)域保持更多熱量，因此，在距離測量區(qū)域相同時，這些區(qū)域?qū)囟葴y量的影響大于小的燒結(jié)結(jié)構(gòu)。
如果最上方的粉末層加熱到工作溫度TA，那么，在粉末層中的與物體橫截面相應(yīng)的位置通過用激光輻射進(jìn)行固結(jié)。此外，即使在達(dá)到工作溫度TA之后，在用激光的輻射過程中，最上方的粉末層的溫度T也被測量，并且根據(jù)該溫度調(diào)節(jié)加熱裝置12的加熱功率，以便溫度T保持在過程窗中的。
在固結(jié)一層之后，支座2下降一段與層厚度相應(yīng)的距離，借助涂布器8將一新的粉末層涂覆在此前用激光輻射的層上。然后，重復(fù)此前所述的步驟，直到三維物體制造結(jié)束。
測量區(qū)域14位置在一層中的改變或調(diào)節(jié)按照第一實施方式在固結(jié)該層之前完成，與在固結(jié)該層時電磁或粒子輻射影響的區(qū)域(輻射光斑區(qū)域)位置的改變無關(guān)。這與在固結(jié)該層時在測量區(qū)域14的位置和輻射光斑區(qū)域位置之間不存在保持相同的固結(jié)的位置關(guān)系具有相同意義。
通過溫度測量裝置的測量區(qū)域的位置在每個層中位于一未曝光的區(qū)域中，溫度測量不會受到用激光進(jìn)行輻射的區(qū)域干擾。由此，對最上方粉末層溫度的非常準(zhǔn)確的調(diào)節(jié)和/或控制成為可能。過程窗能夠被非常好地保持，并由此能夠制造高質(zhì)量的物體。
在按本發(fā)明的方法的第二實施方式中，測量區(qū)域的位置在曝光過程中也被改變。由此，在一層中測量各種位置上的溫度，并如此測量溫度分布。
如此測量的粉末層表面的溫度分布由控制裝置17使用，該控制裝置用于通過控制輻射裝置6的局部激光功率和/或通過控制掃描速度控制用激光輻射導(dǎo)入的能量，借助該掃描速度，定向的激光射線通過偏轉(zhuǎn)裝置7在曝光時在構(gòu)造區(qū)域上運動。
如在第一實施方式中，測量區(qū)域位置在一層中的改變和調(diào)節(jié)與輻射光斑區(qū)域的位置改變無關(guān)。
按第二實施方式的按本發(fā)明的方法的優(yōu)點在于，通過測量層中的溫度分布，能夠確定最上層的局部溫度升高，該溫度升高由相鄰于已曝光的區(qū)域的那一層或者由最上方層下面的層的曝光區(qū)域?qū)е?。通過校正輻射裝置6的局部激光功率和/或通過控制掃描速度能夠更準(zhǔn)確地保持用于導(dǎo)入粉末的能量的過程窗，通過偏轉(zhuǎn)裝置7定向的激光射線在曝光時在構(gòu)造區(qū)域上以所述掃描速度運動，借助此方法制造的物體的質(zhì)量明顯地得到改善。
在曝光過程中，測量區(qū)域的位置優(yōu)選地如此改變，使得它不與層中的正被固結(jié)或已經(jīng)固結(jié)的區(qū)域重疊。于是，在按第二實施方式的方法中，如在第一實施方式中一樣能夠避免溫度測量受到用激光曝光的干擾。
上述的裝置和方法的選擇和變形是可能的。
按本發(fā)明的裝置被如此說明，使得溫度測量裝置的測量區(qū)域的位置通過伺服馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)改變。然而，測量區(qū)域的位置也能夠通過設(shè)置一標(biāo)繪儀(Plottermechanik)改變，該標(biāo)繪儀工作平面上方沿X軸和/或Y軸移動溫度測量裝置。然而，其缺點在于，用于溫度測量裝置的標(biāo)繪儀會干擾激光的射線光程。
另一種改變溫度測量裝置在工作平面中的測量區(qū)域的位置的可能性在于，如此可變地設(shè)置高溫計的光學(xué)系統(tǒng)，使得通過調(diào)節(jié)可變的光學(xué)系統(tǒng)能夠改變測量區(qū)域的位置，借助該光學(xué)系統(tǒng)，測量區(qū)域的熱輻射映射到高溫計中本身的熱輻射探測器上。可變的光學(xué)系統(tǒng)特別能夠包含一可旋轉(zhuǎn)的反射鏡，借助該反射鏡，根據(jù)反射鏡不同的角度位置，各種方向的熱輻射能夠映射到高溫計中的熱輻射探測器上。
按本發(fā)明的裝置如此說明，使得點式高溫計作為溫度測量裝置使用。然而，也能夠同樣使用多點式高溫計或紅外線攝像機(jī)，該攝像機(jī)具有相對于構(gòu)造區(qū)域較小的測量區(qū)域。
同樣可能的是，使用具有一沿X軸延伸的測量區(qū)域的單條狀CCD-攝像機(jī)，其中測量區(qū)域的位置能夠沿Y軸改變。相反，使用具有一沿Y軸延伸的測量區(qū)域的CCD-攝像機(jī)也是可能的，其中測量區(qū)域的位置能夠沿X軸改變。
取代借助一偏轉(zhuǎn)裝置對準(zhǔn)目標(biāo)地將激光射線偏轉(zhuǎn)到工作平面上，并對準(zhǔn)工作區(qū)域的各個位置，物體也能夠相對于激光得到移動。
涂布器如此說明，使得它能夠在工作平面上來回運動。構(gòu)造材料也能夠有選擇地噴鍍或以任一其它方式在工作區(qū)域內(nèi)涂覆成層。
本發(fā)明借助一激光燒結(jié)裝置說明，在該激光燒結(jié)裝置上，激光作為輻射源使用。任一其它輻射源也是可能的，借助它，電磁或粒子輻射能夠?qū)霕?gòu)造材料中。這樣，例如一用于不相干的光輻射、用于紅外線輻射、用于X光輻射或電子輻射的輻射源能夠作為輻射源使用。與此相應(yīng)，能夠使用借助各輻射固結(jié)的構(gòu)造材料。
在上述裝置上，在工作平面上方的紅外線輻射器作為加熱裝置說明。加熱構(gòu)造材料最終涂敷的一層的其它可能性是可以想像的。例如，能夠使用熱空氣或者氮氣的循環(huán)用于預(yù)熱在剛剛涂敷的層上引導(dǎo)的層。
要說明的是，按第二實施方式的方法測量的溫度分布用于控制通過激光輻射導(dǎo)入的能量。此外，溫度分布也能夠用于控制用于加熱粉末床19表面的一加熱裝置12。特別是能夠控制一具有多個區(qū)域的加熱裝置12，其中加熱裝置12的每個區(qū)域均配置測量的溫度分布的一分區(qū)域，以便通過各個區(qū)域不同大小的功率補(bǔ)償溫度分布的溫度差別。
在按第一或第二實施方式的方法中，除了在那里所說明的對測量區(qū)域14位置的調(diào)節(jié)或改變，該測量區(qū)域還能夠在固結(jié)過程中額外地如此改變，使得測量區(qū)域14有時與已經(jīng)固結(jié)或正在固結(jié)的區(qū)域重疊。其中測量的溫度能夠用于檢驗和/或控制輻射裝置6的功率。此外，從一此前曝光區(qū)域的溫度的時間變化中，還能夠推斷出熱容量以及在X、Y及Z方向上的熱傳導(dǎo)。其中，熱容量和熱傳導(dǎo)對于過程參數(shù)的最佳選擇，例如固結(jié)輻射的功率或者掃描速度和粉末預(yù)熱的規(guī)定參數(shù)來說是關(guān)鍵的數(shù)值。因此，過程參數(shù)以及構(gòu)件的質(zhì)量和制造時間能夠根據(jù)這樣的溫度測量進(jìn)行優(yōu)化。
權(quán)利要求
1.一種用于制造三維物體的裝置，其通過電磁或者粒子輻射的作用在與物體各橫截面相應(yīng)的位置上固結(jié)構(gòu)造材料的層，該裝置包括用于在一測量區(qū)域(14)中無接觸地測量構(gòu)造材料的溫度的溫度測量裝置(13)，該測量區(qū)域是構(gòu)造材料的層的一個分區(qū)域，其特征在于，所述裝置還包括一位置調(diào)節(jié)裝置(15)，用于與電磁或粒子輻射作用的區(qū)域的位置的改變無關(guān)地改變溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域(14)的位置。
2.按權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，位置調(diào)節(jié)裝置(15)包括一用于改變溫度測量裝置(13)相對于構(gòu)造材料的層的角度位置的旋轉(zhuǎn)裝置(23、25、26)。
3.按權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，位置調(diào)節(jié)裝置(15)包括一能使溫度測量裝置在構(gòu)造材料的層上移動的機(jī)構(gòu)。
4.按權(quán)利要求1至3任一項所述的裝置，其特征在于，位置調(diào)節(jié)裝置(15)包括一光學(xué)系統(tǒng)，借助該光學(xué)系統(tǒng)，從測量區(qū)域發(fā)出的熱輻射映射到溫度測量裝置(13)中并且可以改變測量區(qū)域(14)的位置。
5.按權(quán)利要求1至4任一項所述的裝置，其特征在于，溫度測量裝置(13)為點式高溫計。
6.按權(quán)利要求1至5任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一控制裝置(17)，該控制裝置如此地控制位置調(diào)節(jié)裝置(15)，使得溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域(14)不與層的電磁或粒子輻射正好作用的區(qū)域重疊。
7.按權(quán)利要求1至6任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一控制裝置(17)，該控制裝置根據(jù)由溫度測量裝置(13)測量的溫度控制起作用的電磁或粒子輻射。
8.按權(quán)利要求1至7任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括一用于構(gòu)造材料的加熱器和一控制裝置(17)，該控制裝置根據(jù)由溫度測量裝置(13)測量的溫度控制用于構(gòu)造材料的加熱器的功率。
9.按權(quán)利要求1至8任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置為一激光燒結(jié)裝置。
10.一種用于制造三維物體的方法，包括以下步驟將待通過電磁或粒子輻射進(jìn)行固結(jié)的構(gòu)造材料的層涂覆到一底座或一此前已固結(jié)的層上；通過電磁或粒子輻射的作用將構(gòu)造材料的層固結(jié)在與物體在該層中橫截面相應(yīng)的位置(30)上；重復(fù)步驟(a)和(b)，直到三維物體(3)制造完成；其特征在于，借助一溫度測量裝置(13)在作為該層的分區(qū)域的測量區(qū)域(14)內(nèi)無接觸地測量構(gòu)造材料的溫度，其中通過位置調(diào)節(jié)裝置(15)與在步驟(b)中電磁或粒子輻射作用的區(qū)域的位置的改變無關(guān)地調(diào)節(jié)或改變測量區(qū)域(14)的位置。
11.按權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，測量區(qū)域(14)的位置通過位置調(diào)節(jié)裝置(15)如此地調(diào)節(jié)或改變，使得測量區(qū)域(14)不與在該層中的、正在固結(jié)或此前在該層中已固結(jié)的一區(qū)域重疊。
12.按權(quán)利要求10或11所述的方法，其特征在于，測量區(qū)域(14)的位置如此地調(diào)節(jié)或改變，使得測量區(qū)域(14)不與在層中的還待固結(jié)的區(qū)域重疊。
13.按權(quán)利要求10至12任一項所述的方法，其特征在于，將構(gòu)造材料加熱并且為此使用的加熱功率根據(jù)由溫度測量裝置(13)測量的溫度調(diào)節(jié)。
14.按權(quán)利要求10至13任一項所述的方法，其特征在于，在一層中在多個彼此不同的測量區(qū)域內(nèi)測量構(gòu)造材料的溫度。
15.按權(quán)利要求14所述的方法，其特征在于，與區(qū)域有關(guān)地在多個與所述多個測量區(qū)域相配的加熱區(qū)域中加熱構(gòu)造材料，以及根據(jù)配屬的測量區(qū)域的溫度調(diào)節(jié)或控制用于各個加熱區(qū)域的加熱功率。
16.按權(quán)利要求10至15任一項所述的方法，其特征在于，根據(jù)由溫度測量裝置(13)測量的溫度調(diào)節(jié)用于固結(jié)所述層的輻射能的局部能量輸入。
17.按權(quán)利要求10至16任一項所述的方法，其特征在于，通過改變溫度測量裝置相對于構(gòu)造材料的層的角度位置(α)來改變溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域的位置。
18.按權(quán)利要求10至17任一項所述的方法，其特征在于，通過在構(gòu)造材料上方的平面內(nèi)移動溫度測量裝置(13)來改變溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域(14)的位置。
19.按權(quán)利要求10至18任一項所述的方法，其特征在于，通過調(diào)節(jié)一可變的光學(xué)系統(tǒng)來改變溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域(14)的位置。
20.按權(quán)利要求10至19任一項所述的方法，其特征在于，測量區(qū)域(14)的位置調(diào)節(jié)還如此進(jìn)行，使得測量區(qū)域(14)與在最上層中和在最上層的下方的此前固結(jié)的區(qū)域具有一預(yù)先規(guī)定的距離。
21.按權(quán)利要求10至20任一項所述的方法，其特征在于，使用粉末狀的構(gòu)造材料并且使用激光器作為輻射源(6)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種用于制造三維物體(3)的裝置和方法，其通過電磁或粒子輻射的作用將構(gòu)造材料的層局部地固結(jié)在與物體(3)各個橫截面相應(yīng)的位置上。所述裝置包括用于在測量區(qū)域(14)內(nèi)無接觸地測量構(gòu)造材料的溫度的溫度測量裝置(13)，該測量區(qū)域是構(gòu)造材料的層的一個分區(qū)域，并且還包括用于改變溫度測量裝置(13)的測量區(qū)域(14)位置的位置調(diào)節(jié)裝置(15)，而與輻射能作用的區(qū)域的位置的改變無關(guān)。借助所述裝置，為了每個層的溫度測量可以主動地控制表面的一未曝光的區(qū)域，并且通過改變在一層中的測量區(qū)域(14)的位置能夠探測到溫度分布。
文檔編號B29C35/02GK1976800SQ200680000419
公開日2007年6月6日 申請日期2006年2月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年4月6日
發(fā)明者J·菲利皮, T·哈爾德, T·馬特斯 申請人:Eos有限公司電鍍光纖系統(tǒng)