本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種運(yùn)載體清潔裝置和方法。

背景技術(shù)：

運(yùn)載體(英文：carrier)是一種用于在對基板鍍膜時(shí)運(yùn)載基板的器具，運(yùn)載體呈板狀，并位于基板的下方以支撐基板。運(yùn)載體的下方為傳輸導(dǎo)軌，該傳輸導(dǎo)軌用于移動運(yùn)載體。運(yùn)載體在使用過程中會隨基板一起進(jìn)入鍍膜機(jī)，其底部(該底部為運(yùn)載體遠(yuǎn)離基板的一側(cè))承載梁(英文：carrierbar)會聚集大量由空氣中的異物和鍍膜材料構(gòu)成的微粒(英文：particle)，該微?？赡軙阱兡C(jī)對基板鍍膜時(shí)飄浮至基板上，并對基板上形成的膜層的質(zhì)量造成嚴(yán)重影響。

相關(guān)技術(shù)中有一種運(yùn)載體清潔方法，在該方法中，由操作人員定期將運(yùn)載體從傳輸導(dǎo)軌上拆下，并對運(yùn)載體的底部承載梁進(jìn)行打磨與沖洗，以清除底部承載梁的微粒。

在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的過程中，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題：上述方法在清除微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中在清除運(yùn)載體的底部承載梁的微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作的問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種運(yùn)載體清潔裝置和方法。所述技術(shù)方案如下：

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種運(yùn)載體清潔裝置，所述運(yùn)載體清潔裝置包括：

至少一個(gè)清除組件和收集組件；

所述至少一個(gè)清除組件設(shè)置在運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌中，用于清除掉運(yùn)載體的底部承載梁的微粒；

所述收集組件與所述至少一個(gè)清除組件連接，用于收集所述至少一個(gè)清除組件清除掉的微粒。

可選的，所述至少一個(gè)清除組件中的任一清除組件包括清潔頭和導(dǎo)管，

所述清潔頭和所述導(dǎo)管連接，用于使所述運(yùn)載體的底部承載梁的微粒與所述運(yùn)載體脫離；

所述導(dǎo)管與所述收集組件連接，用于將與所述運(yùn)載體脫離的微粒導(dǎo)向所述收集組件。

可選的，，所述收集組件包括管道、抽氣機(jī)和收集倉，

所述管道的一端與所述至少一個(gè)清除組件連接，另一端與所述收集倉連接；

所述抽氣機(jī)設(shè)置在所述管道中，用于將所述管道中的氣體抽入所述收集倉。

可選的，所述收集倉中設(shè)置有粘塵紙。

可選的，所述抽氣機(jī)包括擴(kuò)壓器，所述擴(kuò)壓器用于調(diào)整通過所述抽氣機(jī)的風(fēng)量。

可選的，所述至少一個(gè)清除組件設(shè)置在鍍膜機(jī)的入口處；

和/或，

所述至少一個(gè)清除組件設(shè)置在所述鍍膜機(jī)的出口處。

可選的，所述任一清除組件還包括子傳輸導(dǎo)軌，

所述子傳輸導(dǎo)軌與所述運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌連接。

可選的，所述運(yùn)載體清潔裝置還包括微粒計(jì)數(shù)器，所述微粒計(jì)數(shù)器用于獲取所述運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種運(yùn)載體清潔方法，所述方法用于第一方面提供的運(yùn)載體清潔裝置，所述運(yùn)載體清潔裝置包括：至少一個(gè)清除組件和收集組件，所述方法包括：

將所述至少一個(gè)清除組件設(shè)置在運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌中；

通過所述至少一個(gè)清除組件使所述運(yùn)載體的底部承載梁的微粒與所述運(yùn)載體脫離；

通過所述收集組件收集與所述運(yùn)載體脫離的所述微粒。

可選的，所述運(yùn)載體清潔裝置還包括微粒計(jì)數(shù)器，所述收集組件包括管道、抽氣機(jī)和收集倉，所述管道的一端與所述至少一個(gè)清除組件連接，另一端與所述收集倉連接，所述抽氣機(jī)設(shè)置在所述管道中，所述方法還包括：

通過所述微粒計(jì)數(shù)器獲取所述運(yùn)載體底部的微粒的數(shù)量；

根據(jù)所述微粒的數(shù)量調(diào)整所述抽氣機(jī)的風(fēng)量以及所述傳輸導(dǎo)軌的速度，所述風(fēng)量與所述微粒的數(shù)量負(fù)相關(guān)，所述傳輸導(dǎo)軌的速度與所述微粒的數(shù)量正相關(guān)。

本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是：

通過設(shè)置在導(dǎo)軌中的清除組件將微粒從運(yùn)載體的底部承載梁清除掉，再通過收集組件收集這些微粒，解決了相關(guān)技術(shù)中在清除微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作的問題。達(dá)到了能夠及時(shí)的清潔運(yùn)載體的底部承載梁，在清潔運(yùn)載體的底部承載梁時(shí)運(yùn)載體能夠正常的工作的效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是承載體各處的微粒數(shù)量示意圖；

圖2是本發(fā)明實(shí)施例示出的一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3-1是發(fā)明實(shí)施例提供的另一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3-2是發(fā)明實(shí)施例提供的另一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4本發(fā)明實(shí)施例提供的一種運(yùn)載體清潔方法的流程圖；

圖5-1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例中承載體的底部承載梁的微粒數(shù)量變化示意圖；

圖5-2是本發(fā)明另一個(gè)實(shí)施例中承載體的底部承載梁的微粒數(shù)量變化示意圖。

通過上述附圖，已示出本發(fā)明明確的實(shí)施例，后文中將有更詳細(xì)的描述。這些附圖和文字描述并不是為了通過任何方式限制本發(fā)明構(gòu)思的范圍，而是通過參考特定實(shí)施例為本領(lǐng)域技術(shù)人員說明本發(fā)明的概念。

具體實(shí)施方式

為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。

運(yùn)載體的底部承載梁是微粒漂浮聚集凝結(jié)的主要區(qū)域。主要原因有三個(gè)：

第一，微粒在自身重力作用下，易于在運(yùn)載體的底部承載梁漂浮聚集。

第二，運(yùn)載體的底部承載梁在動力部件驅(qū)動下在位于其下方的傳輸導(dǎo)軌上運(yùn)動，致使運(yùn)載體的底部承載梁與導(dǎo)軌存在物理摩擦，這使運(yùn)載體的底部承載梁的表面溫度較高、表面活性能較大以及物理吸附能力強(qiáng)，這些特性進(jìn)而使得運(yùn)載體的底部承載梁易于吸附凝結(jié)微粒。

第三，運(yùn)載體進(jìn)入鍍膜機(jī)后，鍍膜時(shí)的工作氣體中的ar+(氬)離子對靶材(濺射源)的轟擊，致使濺射的部分靶材粒子在運(yùn)載體的底部承載梁的沉積凝結(jié)。

如圖1所示，其為承載體各處的微粒數(shù)量示意圖，橫坐標(biāo)表示承載體的各個(gè)區(qū)域，縱坐標(biāo)表示微粒的數(shù)量。線條y1為直徑0.3微米的微粒的數(shù)量曲線，線條y2為直徑0.5微米的微粒的數(shù)量曲線，線條y3為直徑1微米的微粒的數(shù)量曲線。q1表示承載體的頂部，q2代表承載體的側(cè)面，q3代表承載體的底部，q4代表承載體的底部承載梁?？梢钥闯?，底部承載梁q4的各種尺寸的微粒數(shù)量最多。

微粒在運(yùn)載體的底部承載梁漂浮聚集凝結(jié)，對基板上鍍制的薄膜的品質(zhì)以及設(shè)備的稼動率(英文：activation)會造成嚴(yán)重的影響。這些影響可以包括：

第一，運(yùn)載體的底部承載梁的微粒在高溫鍍膜制程中，易于漂浮移動并吸附于高溫的基板上，致使微?？赡艽嬖谟阱冎频哪拥南路?、內(nèi)部或者表面，在后續(xù)清洗制程中難以完全清除，造成膜層的電學(xué)性能不良(如斷路和短路)

第二，運(yùn)載體的底部承載梁的凝結(jié)的微?？赡苤率刮挥趥鬏攲?dǎo)軌的傳感器發(fā)射到運(yùn)載體的底部承載梁的光被吸收，造成傳感器感應(yīng)不靈敏甚至感應(yīng)不到運(yùn)載體的存在，進(jìn)而可能通過傳輸導(dǎo)軌控制運(yùn)載體停止運(yùn)動，造成設(shè)備宕機(jī)。

本發(fā)明各個(gè)實(shí)施例所涉及基板可以是各種進(jìn)行鍍膜的基板，如玻璃基板等各種透明基板。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例示出的一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。該運(yùn)載體清潔裝置可以包括：

至少一個(gè)清除組件11和收集組件12。

至少一個(gè)清除組件11設(shè)置在運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌31中，用于清除掉運(yùn)載體的底部承載梁的微粒。

收集組件12與至少一個(gè)清除組件11連接，用于收集至少一個(gè)清除組件11清除掉的微粒。

圖2示出的是清潔組件11的數(shù)量為2的情況，但清潔組件11的數(shù)量還可以是其他數(shù)值(如1、3、4等)，本發(fā)明實(shí)施例不作出限制。

圖2中的鍍膜機(jī)以及傳輸導(dǎo)軌31可以并不包括在本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置中。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置，通過設(shè)置在導(dǎo)軌中的清除組件將微粒從運(yùn)載體的底部承載梁清除掉，再通過收集組件收集這些微粒，解決了相關(guān)技術(shù)中在清除微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作的問題。達(dá)到了能夠及時(shí)的清潔運(yùn)載體的底部承載梁，在清潔運(yùn)載體的底部承載梁時(shí)運(yùn)載體能夠正常的工作的效果。

進(jìn)一步的，請參考圖3-1，其示出了本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，該運(yùn)載體清潔裝置在圖2所示的運(yùn)載體清潔裝置的基礎(chǔ)上增加了更優(yōu)選的部件，從而使得本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置具有更好的性能。

可選的，至少一個(gè)清除組件11中的任一清除組件包括清潔頭111和導(dǎo)管112，清潔頭111和導(dǎo)管112連接，用于使運(yùn)載體的底部承載梁的微粒與運(yùn)載體脫離。清潔頭可以包括尼龍毛刷，而根據(jù)該尼龍毛刷的損耗情況，可以對其定期進(jìn)行更換。

導(dǎo)管112與收集組件12連接，用于將與運(yùn)載體脫離的微粒導(dǎo)向收集組件12。

可選的，收集組件12包括管道121、抽氣機(jī)122和收集倉123，管道121的一端(該端可以與導(dǎo)管112連接)與至少一個(gè)清除組件11連接，另一端與收集倉123連接。

抽氣機(jī)122設(shè)置在管道121中，用于將管道121中的氣體抽入收集倉123。抽氣機(jī)122可以包括至少一個(gè)滑片式鼓風(fēng)機(jī)，該滑片式鼓風(fēng)機(jī)可以包括吸風(fēng)口、排風(fēng)口和壓縮空氣組件。吸風(fēng)口和排風(fēng)口可以和管道121連通。此外，收集組件12還可以包括動力電源124，動力電源124與抽氣機(jī)122電連接，用于為抽氣機(jī)122提供電源。此外，在滑片式鼓風(fēng)機(jī)為多個(gè)時(shí)，這多個(gè)滑片式鼓風(fēng)機(jī)可以串聯(lián)在管道121中。多個(gè)劃片式鼓風(fēng)機(jī)能夠提供強(qiáng)大的吸力。

可選的，收集倉123中設(shè)置有粘塵紙123a。粘塵紙123a能夠?qū)⒈怀闅鈾C(jī)122吸入收集倉123中的微粒粘附，避免微粒再次不受控制的漂浮，并對基板造成二次污染。粘塵紙123a可以為雙面粘塵紙，一面貼附在收集倉123中?？梢愿鶕?jù)粘塵紙上微粒的數(shù)量，定期更換粘塵紙。

可選的，抽氣機(jī)122包括擴(kuò)壓器122a，擴(kuò)壓器122a用于調(diào)整通過抽氣機(jī)的風(fēng)量。擴(kuò)壓器是一種用于將抽氣機(jī)出口處的動能轉(zhuǎn)換靜壓能的裝置，擴(kuò)壓器能夠在保證抽氣機(jī)效率的情況下，調(diào)整通過抽氣機(jī)的風(fēng)量。

可選的，任一清除組件11還包括子傳輸導(dǎo)軌113，子傳輸導(dǎo)軌113與運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌31連接。子傳輸導(dǎo)軌113能夠在清潔頭111清潔運(yùn)載體的底部承載梁時(shí)，對運(yùn)載體提供足夠的動力，以避免運(yùn)載體被清潔頭111阻擋，難以移動?？蛇x的，清潔頭111可以設(shè)置在子傳輸導(dǎo)軌113之間。

可選的，至少一個(gè)清除組件11設(shè)置在鍍膜機(jī)32的入口321處；和/或，至少一個(gè)清除組件設(shè)置在鍍膜機(jī)32的出口322處。在鍍膜機(jī)的入口處，和/或，出口處設(shè)置清除組件，能夠進(jìn)一步的減少運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量，提高微粒的清潔效果。

可選的，運(yùn)載體清潔裝置還包括微粒計(jì)數(shù)器13，微粒計(jì)數(shù)器13用于獲取運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量。該微粒技術(shù)器13可以包括有多個(gè)，這多個(gè)微粒技術(shù)器13可以設(shè)置在鍍膜機(jī)32的入口321處的清除組件11之前，和/或，鍍膜機(jī)32的出口322處的清除組件11之后。該微粒技術(shù)器13可以為激光塵埃粒子計(jì)數(shù)器。需要說明的是，這里的之前之后是相對于傳輸導(dǎo)軌的運(yùn)行方向的前后，示例性的，圖3-1所示的運(yùn)載體清潔裝置中，傳輸導(dǎo)軌31自左向右運(yùn)行，則清除組件11的左側(cè)即為其之前，清除組件11的右側(cè)即為其之后。

圖3-1示出的是鍍膜機(jī)32的入口321處以及鍍膜機(jī)32的出口322處各設(shè)置有一個(gè)清除組件的情況，但本發(fā)明實(shí)施例不對清除組件的設(shè)置方式和數(shù)量進(jìn)行限制。

如圖3-2所示，其為本發(fā)明實(shí)施例示出的另一種運(yùn)載體清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，在該運(yùn)載體清潔裝置中，鍍膜機(jī)32的入口321處以及鍍膜機(jī)32的出口322處各設(shè)置有兩個(gè)清除組件11，這樣能夠進(jìn)一步的減少運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量。圖3-2中其他標(biāo)記的含義可以參考圖3-1，在此不再贅述。

需要說明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置還可以對承載體底部的微粒進(jìn)行清潔。

本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置結(jié)構(gòu)簡單且維護(hù)成本低。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔裝置，通過設(shè)置在導(dǎo)軌中的清除組件將微粒從運(yùn)載體的底部承載梁清除掉，再通過收集組件收集這些微粒，解決了相關(guān)技術(shù)中在清除微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作的問題。達(dá)到了能夠及時(shí)的清潔運(yùn)載體的底部承載梁，在清潔運(yùn)載體的底部承載梁時(shí)運(yùn)載體能夠正常的工作的效果。

如圖4所示，其為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種運(yùn)載體清潔方法的流程圖，該方法用于圖3-1提供的運(yùn)載體清潔裝置，該方法包括：

步驟301、將至少一個(gè)清除組件設(shè)置在運(yùn)載體下方的傳輸導(dǎo)軌中。

清除組件的設(shè)置方式可以參考圖3-1所示實(shí)施例，在此不再贅述。

步驟302、通過至少一個(gè)清除組件使運(yùn)載體的底部承載梁的微粒與運(yùn)載體脫離。

運(yùn)載體在傳輸導(dǎo)軌上移動，經(jīng)過清除組件時(shí)，運(yùn)載體的底部承載梁會與清除組件中的清潔頭產(chǎn)生摩擦，運(yùn)載體的底部承載梁的微粒會與運(yùn)載體脫離。

步驟303、通過收集組件收集與運(yùn)載體脫離的微粒。

運(yùn)載體的底部承載梁的微粒與運(yùn)載體脫離后，會被收集組件中的抽氣機(jī)吸入收集倉中，并粘附在收集倉中的粘塵紙上。

步驟304、通過微粒計(jì)數(shù)器獲取運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量。

本發(fā)明實(shí)施例體用的運(yùn)載體清潔方法中，還可以通過微粒計(jì)數(shù)器獲取運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量。該微粒計(jì)數(shù)器可以位于各個(gè)位置，如鍍膜機(jī)的入口處，和/或，鍍膜機(jī)的出口處。位于這些位置的微粒技術(shù)器記錄的微粒數(shù)量能夠?qū)崟r(shí)且準(zhǔn)確的反應(yīng)運(yùn)載體清潔方法對于運(yùn)載體的底部承載梁的微粒的清潔效果。

步驟305、根據(jù)微粒的數(shù)量調(diào)整抽氣機(jī)的風(fēng)量以及傳輸導(dǎo)軌的速度，風(fēng)量與微粒的數(shù)量負(fù)相關(guān)，傳輸導(dǎo)軌的速度與微粒的數(shù)量正相關(guān)。

在獲取了運(yùn)載體底部承載梁的微粒的數(shù)量后，可以根據(jù)微粒的數(shù)量調(diào)整抽氣機(jī)的風(fēng)量以及傳輸導(dǎo)軌的速度。示例性的，在微粒的數(shù)量較大時(shí)，可以降低傳輸導(dǎo)軌的速度，和/或，提高抽氣機(jī)的風(fēng)量。

本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法能夠在鍍膜機(jī)以及承載體正常工作時(shí)，清潔承載體的底部承載梁，節(jié)省了大量人力物力、并降低了生產(chǎn)成本、提高了設(shè)備稼動率。

綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法，通過設(shè)置在導(dǎo)軌中的清除組件將微粒從運(yùn)載體的底部承載梁清除掉，再通過收集組件收集這些微粒，解決了相關(guān)技術(shù)中在清除微粒時(shí)，運(yùn)載體難以正常工作的問題。達(dá)到了能夠及時(shí)的清潔運(yùn)載體底部承載梁，在清潔運(yùn)載體底部承載梁時(shí)運(yùn)載體能夠正常的工作的效果。

在一個(gè)實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法可以包括：

1)按一定的鍍膜工藝進(jìn)行鍍膜(該鍍膜工藝可以參考相關(guān)技術(shù)，在此不再贅述)。

在進(jìn)行鍍膜時(shí)，可以以磁控濺射鍍膜儀先預(yù)打靶2h(小時(shí))，承載基板溫度為120℃，靶材轉(zhuǎn)速為18r/min(圈/分鐘)，運(yùn)載體運(yùn)載基板(該基板可以為玻璃基板)的移動速率為0.85m/min(米/分鐘)至1.7m/min。

2)調(diào)整抽氣機(jī)的風(fēng)量，使風(fēng)量保持為0.01m³/s(立方米/秒)至30m³/s；

3)運(yùn)載體a運(yùn)載基板，經(jīng)過位于鍍膜機(jī)入口處的清潔組件之前，第一微粒計(jì)數(shù)器對運(yùn)載體底部的微粒的數(shù)量進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，作為第一數(shù)據(jù)d；運(yùn)載體a經(jīng)過位于鍍膜機(jī)出口處的清潔組件之后，采用第二微粒計(jì)數(shù)器運(yùn)載體底部的微粒數(shù)量進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，第一次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n1、第二次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n2、第三次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n3，以此類推。如圖5-1所示，其為該實(shí)施例微粒的統(tǒng)計(jì)結(jié)果。其中縱坐標(biāo)為微粒的數(shù)量，線條x1為直徑0.3微米的微粒的數(shù)量曲線，線條x2為直徑0.5微米的微粒的數(shù)量曲線，線條x3為直徑1微米的微粒的數(shù)量曲線。可以看出，隨著清潔次數(shù)的增加，各種尺寸的微粒的數(shù)量顯著減少，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法達(dá)到了提高產(chǎn)品良率的效果。

在另一個(gè)實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法可以包括：

1)按一定的鍍膜工藝進(jìn)行鍍膜。

在進(jìn)行鍍膜時(shí)，可以以磁控濺射鍍膜儀先預(yù)打靶2h(小時(shí))，基板溫度為120℃，靶材轉(zhuǎn)速為18r/min(圈/分鐘)，運(yùn)載體運(yùn)載基板(該基板可以為玻璃基板)的移動速率為0.01m/min至0.85m/min。

2)調(diào)整抽氣機(jī)的風(fēng)量，使風(fēng)量保持為0.01m³/s至30m³/s；

3)運(yùn)載體a運(yùn)載基板，經(jīng)過位于鍍膜機(jī)入口處的清潔組件之前，第一微粒計(jì)數(shù)器對運(yùn)載體底部的微粒的數(shù)量進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，作為第一數(shù)據(jù)d；運(yùn)載體a經(jīng)過位于鍍膜機(jī)出口處的清潔組件之后，采用第二微粒計(jì)數(shù)器運(yùn)載體底部的微粒數(shù)量進(jìn)行統(tǒng)計(jì)，第一次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n1、第二次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n2、第三次經(jīng)過第二微粒計(jì)數(shù)器記為數(shù)據(jù)n3，以此類推。如圖5-2所示，其為該實(shí)施例微粒的統(tǒng)計(jì)結(jié)果。其中縱坐標(biāo)為微粒的數(shù)量，線條x4為直徑0.3微米的微粒的數(shù)量曲線，線條x5為直徑0.5微米的微粒的數(shù)量曲線，線條x6為直徑1微米的微粒的數(shù)量曲線。可以看出，隨著清潔次數(shù)的增加，各種尺寸的微粒的數(shù)量顯著減少，本發(fā)明實(shí)施例提供的運(yùn)載體清潔方法達(dá)到了提高產(chǎn)品良率的效果。

本發(fā)明中術(shù)語“和/或”，僅僅是一種描述關(guān)聯(lián)對象的關(guān)聯(lián)關(guān)系，表示可以存在三種關(guān)系，例如，a和/或b，可以表示：單獨(dú)存在a，同時(shí)存在a和b，單獨(dú)存在b這三種情況。另外，本文中字符“/”，一般表示前后關(guān)聯(lián)對象是一種“或”的關(guān)系。

本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分步驟可以通過硬件來完成，也可以通過程序來指令相關(guān)的硬件完成，所述的程序可以存儲于一種計(jì)算機(jī)可讀存儲介質(zhì)中，上述提到的存儲介質(zhì)可以是只讀存儲器，磁盤或光盤等。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。