專利名稱：容積流體輸送系統(tǒng)中的流體狀態(tài)的控制的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于控制容積流體分配系統(tǒng)中流體壓力的裝置和方法D更具 體地，本發(fā)明提供一種改進的、用于控制容積流體供給管線中半導體加工流體(例 如超高純度或者漿料流體)壓力的裝置和方法，所述供給管線提供用于半導體制造 或者其它相關應用的加工工具。
背景技術：
半導體裝置的制造是一個復雜的過程，常常需要超過200道工序。每個步驟 需要工況的最優(yōu)設置以獲得半導體裝置的高產出率。這些工序中的很多步驟需要利 用流體，尤其是在制造過程中用于蝕刻、曝光、鍍層和拋光裝置的表面。在高純度 流體應用中，流體必須基本上不含顆粒和金屬雜質，以避免成品裝置中的缺陷。在 化學一機械拋光漿料應用中，流體必須不含能夠刮傷裝置表面的大顆粒。此外，在 制造過程中，必須有穩(wěn)定充足的流體供應到執(zhí)行不同步驟的加工工具，以避免操作 變動和生產停工。
自從九十年代引入半導體市場以來，具有真空壓力發(fā)動機的容積流體分配系 統(tǒng)已經在半導體制造過程中扮演了重要角色。因為這些系統(tǒng)基本上由惰性的潤濕的 材料構造，例如過氟烷氧基(PFA)和聚四氟乙烯(PTFE)，并且因為它們使用惰性 的壓縮氣體作為供給流體的動力，它們基本上不會使加工流體帶有顆粒和金屬雜 質。另外，單個容積流體分配系統(tǒng)可以以足夠的壓力向多個加工工具提供連續(xù)的加
工流體供給。因此，真空壓力流體分配系統(tǒng)的出現(xiàn)在半導體市場中起到了重要需求 的作用。
由于種種理由(例如O型圈失效、閥失效或者輸入流體被污染)，容積流體分 配系統(tǒng)在流體供給管線中包括過濾器。然而，通過過濾器的流體的流速的急劇變化 對過濾器造成液壓沖擊，導致之前被濾過的顆粒釋放到流體中，因此產生顆粒濃度 的峰值。盡管保持通過過濾器的流體的最小流速有助于減少顆粒的釋放，但是問題
沒有消除。相應地，流體的壓力和流量波動會導致在流體中顆粒濃度的波動，這會 導致半導體晶片的缺陷。
此外，正如以上的討論，流體分配系統(tǒng)常常供給許多工具。當工具需要加工 流體時，流體從供給管線被泵送，這造成供給管線中的流體壓力下降大約5到
25psi。如接下來將會詳細討論的，具有真空一壓力發(fā)動機的典型的流體分配系統(tǒng)，
造成供給管線中的壓力波動，這反過來會影響供給到工具的流體的流量和純凈狀 態(tài)。因此，需要有一種流體分配系統(tǒng)，其可以最小化或者消除供給管線中流體的壓
力和流量波動。
圖la描述了一個標準的、用于向半導體加工工具供應加工流體的真空一壓力 流體分配系統(tǒng)。其它類型的真空一壓力流體分配系統(tǒng)在美國專利號5,330,072和 6,019,250中有描述，其在此作為參考引入。
參見圖la，真空一壓力流體分配系統(tǒng)通常包括兩個壓力一真空容器101和 103。每個容器配備有至少兩個液位傳感器105、 107、 109和111 (例如電容傳感 器)。傳感器105和109分別監(jiān)測容器101和103中的低液位狀態(tài)；而傳感器107 和111分別監(jiān)測容器101和103中的高液位狀態(tài)。加工流體從流體源113通過兩通 閥115進入容器101，并通過兩通閥117進入容器103。流體通過兩通閥119流出 容器IOI，并且通過兩通閥121流出容器103。當流出容器101或者容器103時， 流體流過容積加工流體供給管線123。
在充填循環(huán)中，真空發(fā)生裝置125 (例如抽氣器或者文氏管)在容器101中產 生真空以吸入流體。當在充填循環(huán)中流體流入容器101時，兩通閥115和127打開， 并且三通閥129位于位置"A"。當在容器101中產生真空時，隨著流體從流體源 113被吸入容器，容器101中的所有氣體流向排氣裝置(未顯示)。當流體到達液 位傳感器107 (例如電容傳感器)時，閥115、 127和129關閉，真空停止。
在分配循環(huán)中，惰性氣體131，例如氮，流過"從"調節(jié)器133，并且流過三 通閥129的位置"B"進入容器101。容器101開始加壓到設定值，之后閥119打 開允許流體在惰性氣體的壓力作用下流過閥119，流過過濾器(未顯示)進入容積 流體供給管線123。容器101分配流體，直到它達到低液位傳感器105，在該位置 閥119關閉，充填循環(huán)再次開始。
在工作過程中，容器101和103在充填和分配循環(huán)之間交替，如此以致于當 容器101充填時，容器103分配。在容器103的充填循環(huán)中，閥117和127打開，
閥137處于位置"A"。在容器103的分配循環(huán)中，惰性氣體131流過從調節(jié)器135 和閥137的端口 "B"，以使容器103中的流體加壓，并且驅動流體通過閥121進入 供給管線123。在容器103的分配循環(huán)結束時，容器轉換，因此容器103開始充填 循環(huán)而容器101開始分配循環(huán)。特別是，真空發(fā)生裝置125被配置成使容器的充填 比分配更快，以便向供給管線123提供連續(xù)的流體流。
在如圖la所示的系統(tǒng)中，手動調節(jié)的主調節(jié)器141易于使用來自高壓氣源141 的氣體，例如壓縮的干空氣。主調節(jié)器137向從調節(jié)器133和135發(fā)送恒定的氣體 導引信號，因此從調節(jié)器133和135分別向閥129和137提供恒定的惰性氣體壓力。 供應給每個閥129和127的壓力是相同的。因此，在容器101或者103的分配循環(huán) 過程中，供應給每個容器的惰性氣體壓力是恒定的并且是相同的。
圖la所示系統(tǒng)的問題在于它不能保持供給管線123中流體的穩(wěn)定壓力。圖lb 顯示了簡化的示例以說明供給管線123中的流體壓力如何隨著時間的推移而波動。 由于加工工具要求造成的損耗，存在于復雜流體分配系統(tǒng)中的配件、管道及其它部 件在此圖示中沒有考慮。在系統(tǒng)100工作過程中，隨著容器從其高位傳感器分配到 其低位傳感器，供給管線123中的壓力降低一個相當于位于高位和低位傳感器之間 的流體的高差壓力(head pressure)損失的量值。該高差壓力定義為由于容器中 流體的重量而作用于供給管線中的流體上的壓力。當容器轉換時，開始其分配循環(huán) 的容器開始充填流體到其高位傳感器，而施加到正好完成分配循環(huán)的那個容器的相 同壓力被施加到該分配容器上。因此，當容器轉換時，供給管線中的壓力形成峰值 或者增加一個相當于剛剛分配完的容器的高差壓力的量值。
已經通過積極地控制供給管線中的流體壓力以試圖改進圖la所示的系統(tǒng)。圖 2a顯示了改變的真空一壓力系統(tǒng)200。系統(tǒng)200基本上類似于系統(tǒng)100，除了使用 電氣致動的主調節(jié)器241代替手動調節(jié)的調節(jié)器141。圖2a的系統(tǒng)還包括傳感器 245，監(jiān)測位于供給管線223中點的壓力。與圖la的系統(tǒng)類似，容器201和203 在真空充填和壓力分配循環(huán)之間交替，并且主調節(jié)器241向兩個從調節(jié)器233和 235提供相同的氣動信號。
在分配循環(huán)過程中，基于來自壓力指示器245的信號調整施加到分配容器201 或者203的流體上的惰性氣體的壓力?？紤]到簡化的流體分配系統(tǒng)沒有加工工具要 求或者其它的壓力損失，在分配時被提供給分配容器201或203的惰性氣體壓力增 加，以補償位于容器中的高位和低位傳感器(分別為207、 211和205、 209)之間的高差壓力的損失。
盡管系統(tǒng)200預防了由于分配容器中的落差損失導致的壓力下降，但是它不
能對供給管線223中的流體提供穩(wěn)定的壓力控制。圖2b圖表說明了在一個沒有加 工工具要求或者其它的壓力損失的分配系統(tǒng)中，供給管線223中的壓力如何隨著時 間的推移而波動。在工作過程中，當容器轉換時，主調節(jié)器241繼續(xù)向開始分配循 環(huán)的容器發(fā)送相同的信號(或者壓力要求)，就如發(fā)送給那些正好完成分配循環(huán)的 容器的信號一樣。因此，當容器轉換時，供給管線223中的壓力產生峰值，該峰值 相當于正好完成其分配循環(huán)的容器的高位和低位傳感器之間的高差壓力的變化。因 此，系統(tǒng)200有效地試圖降低供給管線223中的流體壓力，并且繼續(xù)調整該壓力直 到它達到預定的給定值。因此，系統(tǒng)200的問題在于供給管線223中的流體壓力發(fā) 生擺動直到它達到如圖2b所示的穩(wěn)定狀態(tài)。
另外，系統(tǒng)200的另一個問題在于它頻繁地調整傳遞給非分配或者備用容器 的從調節(jié)器的氣動信號。因此，用于非分配容器的從調節(jié)器在備用容器的從調節(jié)器 上引起顯著的磨損或者撕裂。
因此，在半導體工業(yè)中需要對流體分配系統(tǒng)進行改善，包括對加工流體的流 動狀態(tài)提供穩(wěn)定的控制而不會造成零部件的磨損或者撕裂。

發(fā)明內容
一種控制容積流體分配系統(tǒng)中的流體壓力的方法，包括從第一容器和第二容 器交替地將流體分配到至少一個應用位置，在這樣的狀態(tài)下，其中在該至少一個應 用位置的流體壓力基本上保持恒定。
一種控制容積流體分配系統(tǒng)中的流體壓力的方法，該分配系統(tǒng)具有用于向供 給管線提供流體的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器提供惰性氣體的惰 性氣體源，設置在供給管線中的控制器和傳感器，該方法包括以下步驟在控制器 接收來自傳感器的控制信號；開始第一容器的分配循環(huán)包括以下步驟根據控制信 號和位于第二容器的第一液位和第二液位之間的流體的高差壓力確定第一信號；基 于第一信號向第一容器中的流體施加第一壓力；和將流體從第一容器的第一液位分 配到第二液位；和開始第二容器的分配循環(huán)包括以下步驟根據控制信號和位于第 一容器的第一液位和第二液位之間的高差壓力確定第二信號；基于第二信號向第二 容器中的流體施加第二壓力；并且將流體從第二容器的第一液位分配到第二液位。
一種用于在交替的容器容積流體分配系統(tǒng)中控制流體壓力的設備，包括第 一容器，具有用于檢測第一容器中的流體的第一液位和第二液位的第一對傳感器； 第二容器，具有用于檢測第二容器中的流體的第一液位和第二液位的第二對傳感 器；用于向容器提供惰性氣體的惰性氣體供應管道；第一對調節(jié)器，包括第一主調 節(jié)器和第一從調節(jié)器，其中第一從調節(jié)器適合于調節(jié)第一容器的惰性氣體的壓力； 第二對調節(jié)器，包括第二主調節(jié)器和第二從調節(jié)器，其中第二從調節(jié)器適合于調節(jié) 第二容器的惰性氣體的壓力；流體供給管線，具有設置在該供給管線內部的控制傳 感器，其中所述容器適合于交替地向供給管線分配流體；和控制器，適合于接收來
自控制傳感器的控制信號，基于該控制信號和第二容器的第一和第二液位之間的流 體的高差壓力的變化確定第一信號，基于該控制信號和第一容器的第一和第二液位 之間的流體的高差壓力的變化確定第二信號，將第一信號發(fā)送到第一主調節(jié)器，將 第二信號發(fā)送到第二主調節(jié)器。


圖la是現(xiàn)有技術的真空一壓力流體分配系統(tǒng)的示意圖。
圖lb是在圖la的現(xiàn)有技術的流體分配系統(tǒng)的供給管線中的流體壓力波動的 圖表。
圖2a是現(xiàn)有技術的流體分配系統(tǒng)的示意圖。
圖2b是在圖2a的現(xiàn)有技術的流體分配系統(tǒng)的供給管線中的流體壓力波動的 圖表。
圖3是依照本發(fā)明的流體分配系統(tǒng)的示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明的實施例如圖3所示。本發(fā)明涉及一種真空一壓力流體分配系統(tǒng)300， 其對容積流體供給管線323中的流體壓力提供了穩(wěn)定的控制。系統(tǒng)300基本上消除 了如圖1和2所示的現(xiàn)有技術中的系統(tǒng)的所有壓力波動。
系統(tǒng)300具有兩個容器301和303，每個容器裝備有至少一個液位感應設備(例 如305、 307、 309和311)。雖然真空一壓力發(fā)動機通常使用電容傳感器作為液位 感應設備，本發(fā)明還可以使用光學傳感器、數字傳感器、測力傳感器(未顯示)等。 如圖3所示的系統(tǒng)包括兩個傳感器305和309，其分別用于監(jiān)測容器301和303中 的低液位狀態(tài)；以及傳感器307和311，其分別用于監(jiān)測容器301和303中的高液 位狀態(tài)。流體從流體源313 (例如泵、另外的化學分配系統(tǒng)、加壓圓筒等等)通過 兩通閥315進入容器301，并且通過兩通閥317進入容器303。流體通過兩通閥319 流出容器301，并且通過兩通閥321流出容器303。在流出容器301或者容器303 時，流體流過過濾器(未顯示)，并且流向流體供給管線323。
在充填循環(huán)中，容器301和303可以在壓力或者真空狀態(tài)下充填。例如，泵 或者來自另外的流體分配系統(tǒng)的供給管線可以向容器301和303提供加壓流體供 應。如果利用壓力源，那么當容器充填時，該容器中的排氣孔(未顯示)將打開以 從容器中排出剩余氣體。相反，當該容器是在真空狀態(tài)下充填時，真空發(fā)生裝置(未 在圖3中顯示)，例如抽氣機，將會使流體吸入到該容器中，如上文所述，并且如 圖la和2a所示。
在容器301的充填循環(huán)過程中，閥315在流體流入該容器時打開。當流體達 到預定的高液位時，正如通過液位傳感器307 (例如電容式的、光學的、數字的等 等)或者通過測力傳感器(未顯示)指示的那樣，閥315關閉。
在容器301的分配循環(huán)過程中，惰性氣體331，例如氮，流過"從"調節(jié)器 333和閥329以向容器301加壓，從而通過閥319將流體分配給供給管線323,直 到容器301中的液位達到預定的"低"液位，正如通過液位傳感器305 (例如電容 式的、光學的、數字的等等)或者測力傳感器(未顯示)檢測的那樣，在該位置閥 319關閉，真空充填序列開始。
在工作過程中，容器301和303在充填和分配循環(huán)之間交替，以致于當容器 301裝填時，容器303分配。在容器303的分配循環(huán)過程中，惰性氣體331流過從 調節(jié)器335和閥337以向容器303加壓，從而通過閥321將流體分配給供給管線 323，直到容器303中的液位達到預定的"低"液位，正如通過液位傳感器309或 者測力傳感器檢測的那樣，在該位置閥321關閉，真空充填序列開始。特別的是， 系統(tǒng)被配置成使容器的充填比分配更快，以便向供給管線323提供連續(xù)的流體流。
系統(tǒng)300使用傳感器345 (例如壓力變換器、流量計等等)以監(jiān)測供給管線
323中流體的狀態(tài)，系統(tǒng)調整供給到容器的惰性氣體的壓力，以補償供給管線323
中流體狀態(tài)的變化。傳感器345可以設置在供給管線323中的任一點上，但是優(yōu)選
的是設置在供給管線323的中點。此外，系統(tǒng)300基本上消除了容器的分配循環(huán)過
程中由于高差壓力的變化而導致的供給管線323中流體壓力的所有變化。
系統(tǒng)300包括控制器343，其從傳感器345接收控制信號。該控制器連接到主 調節(jié)器341和342 (例如電動一氣動調節(jié)器)，其分別控制從調節(jié)器333和335 (例 如圓頂形負荷壓力調節(jié)器)。傳感器345和主調節(jié)器341及342可以通過模擬電纜、 數字電纜(例如以太網電纜)或者無線連接與控制器連接。從調節(jié)器333和335 分別控制供給到每個容器301和303的惰性氣體的壓力。
為了消除由于在分配循環(huán)過程中容器的高差壓力的變化而造成的供給管線 323中的流體壓力波動，在分配循環(huán)開始的時候控制器使發(fā)送給每個容器的信號產 生偏差。下面的例子說明了本發(fā)明的工作過程，以消除由于高差壓力的變化產生的 波動。
例子1
假定通過向容器中充注液體達到其高液位(如圖3中所示的307)的容器301 已經完成了充填循環(huán)并且在通過分配流體達到了其低液位(如圖3中所示的309) 的容器303完成了它的分配循環(huán)的同時處在備用狀態(tài)。
在容器303的分配循環(huán)中，控制器343周期性地或者連續(xù)不斷地接收來自傳 感器345的信號，并且調整供給到容器303的惰性氣體的壓力以保持供給管線323 中的預定的流動狀態(tài)(例如壓力、流速等等)。當容器303從它的高液位(如圖3 中所示的311)到它的低液位(如圖3中所示的309)分配流體時，流體的高差壓 力根據下列表示容器中的流體的高差壓力變化的等式在液位h，和液位h,皿之間 減少
AP則二P,.加i一P2,3。P Pg (h,.鄉(xiāng)一h2,:")3)(其中P =流體的密度，g二9.8tn/s2)。 因此，為了防止供給管線323中的流體壓力減少，控制器343發(fā)送信號(例 如4一20 mA的信號)給主調節(jié)器342來增加通過從調節(jié)器335控制的、傳遞給容 器303的惰性氣體的壓力。特別的是，傳感器345可以檢測由于工具要求或者通過 流體分配系統(tǒng)中的管道和零部件的壓力損失造成的其它壓力變化，但是對此例子來 說，這些損失沒有考慮。當容器303中的流體達到低液位時，該容器轉換，容器 301開始分配循環(huán)而容器303開始充填循環(huán)。
當容器303分配時，控制器獨立地確定或者計算發(fā)送給調節(jié)器的第一信號， 當該容器開始它的分配循環(huán)時，該調節(jié)器控制供給到容器301的惰性氣體的壓力。 在這個例子中，控制器監(jiān)測通過傳感器345發(fā)送的控制信號，并且通過將控制信號 減小與容器303的高差壓力變化相關的量值來確定第一信號。因此，當容器301
開始它的分配循環(huán)時，施加到容器301中的流體的惰性氣體的壓力減少了相當于流
體在容器303中的高差壓力的變化的量值。沒有這些減少，施加于容器的壓力將會 過高，并且使供給管線323中的壓力達到峰值。
在開始分配循環(huán)之后，控制器343用如上所述的有關容器303的同樣方法來 調整供給到容器301的惰性氣體的壓力，以保持供給管線323中的預定的流體的流 動狀態(tài)。
本發(fā)明的系統(tǒng)300提供一種改進的加工流體的壓力控制，優(yōu)于現(xiàn)有技術的系 統(tǒng)100和200。實際上，根據傳感器的設置，(即它們之間的垂直距離)，本發(fā)明可 以提供一種供給管線中流體的壓力控制，利用連續(xù)調整控制到預定的給定值的大約 土0.2 psi到大約±1.5 psi，以保持穩(wěn)態(tài)狀態(tài)，而系統(tǒng)200最多能提供預定的給 定值的從1.5到3 psi的控制。
本發(fā)明的另一個優(yōu)點是那些成對的調節(jié)器333、 341和335、 342可以獨立地 控制。這使得控制過程更加靈活，并且減少了從調節(jié)器的磨損和撕裂，因此用于非 分配容器的從調節(jié)器不需要頻繁地調整。
另外，如上所述，系統(tǒng)300可以補償其它的壓力或者流動狀態(tài)的變化(通過 傳感器345監(jiān)測)，該變化尤其是由于工具要求、通過過濾器的壓力損失和來自管 道及其它系統(tǒng)部件的摩擦損失導致的。因此，本發(fā)明的系統(tǒng)300與其它的現(xiàn)有技術 的系統(tǒng)相比能對供給到應用位置的流體的流動狀態(tài)提供更加穩(wěn)定的控制。
可以預料的是，根據上述的描述和例子本發(fā)明其它的實施例和變化對本領域 的技術人員是顯而易見的，而上述的實施例和變化同樣包括在隨后的權利要求所闡 述的本發(fā)明的范圍之內。
權利要求
1.一種用于控制容積流體分配系統(tǒng)中的流體的壓力的方法，該分配系統(tǒng)具有用于向供給管線供給流體的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器供給惰性氣體的惰性氣體源，設置在供給管線中的控制器和傳感器，該方法包括以下步驟在控制器接收來自傳感器的控制信號；開始第一容器的分配循環(huán)，包括以下步驟根據控制信號和位于第二容器的第一液位和第二液位之間的流體的高差壓力確定第一信號；基于第一信號向第一容器中的流體施加第一壓力；和將流體從第一容器的第一液位分配到第二液位；和開始第二容器的分配循環(huán)，包括以下步驟根據控制信號和位于第一容器的第一液位和第二液位之間的流體的高差壓力確定第二信號；基于第二信號向第二容器中的流體施加第二壓力；和將流體從第二容器的第一液位分配到第二液位。
2. 根據權利要求l所述的方法，其特征在于，控制器獨立于第二容器的分配 循環(huán)地控制第一容器的分配循環(huán)。
3. 根據權利要求l所述的方法，其特征在于，從第一容器分配流體的步驟包 括響應控制信號來調整施加于第一容器的流體的惰性氣體的壓力，以保持供給管線 中的預定壓力。
4. 根據權利要求l所述的方法，其特征在于，從第二容器分配流體的步驟包 括響應控制信號來調整施加于第二容器的流體的惰性氣體的壓力，以保持供給管線 中的預定壓力。
5. 根據權利要求l所述的方法，其特征在于，進一步包括在將流體分配到第 一容器的第二液位的步驟之后和在從第二容器分配流體的步驟過程中，從流體源充 填第一容器的步驟。
6. 根據權利要求5所述的方法，其特征在于，流體源供給加壓流體。
7. 根據權利要求5所述的方法，其特征在于，充填第一容器的步驟包括在第 一容器中產生真空以從流體源吸入流體。
8. 根據權利要求l所述的方法，其特征在于，進一步包括在將流體分配到第二容器的第二液位的步驟之后和在從第一容器分配流體的步驟過程中，從流體源充 填第二容器的步驟。
9. 根據權利要求8所述的方法，其特征在于，流體源供給加壓流體。
10. 根據權利要求8所述的方法，其特征在于，充填第一容器的步驟包括在第一容器中產生真空以從流體源吸入流體。
11. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，控制信號對應于供給管線中 的流體的壓力。
12. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，控制信號對應于供給管線中 的流體的流速。
13. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，流體從半導體加工流體組群 中挑選，該組群由酸、底基、溶劑和化學-機械拋光漿料組成。
14. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，進一步包括利用電容式的、 光學的或者數字的傳感器檢測第一容器中流體的第一液位和第二液位的步驟。
15. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，進一步包括利用測力傳感器 檢測第一容器中流體的第一液位和第二液位的步驟。
16. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，進一步包括利用電容式的、 光學的或者數字的傳感器檢測第二容器中流體的第一液位和第二液位的步驟。
17. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，進一步包括利用測力傳感器 檢測第二容器中流體的第一液位和第二液位的步驟。
18. —種用于控制容積流體分配系統(tǒng)中的流體壓力的方法，該分配系統(tǒng)具有 用于向供給管線供給流體的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容器供給惰性 氣體的惰性氣體源，設置在供給管線中的控制器和傳感器，該方法包括以下步驟向位于第一容器中第一液位的流體施加惰性氣體；從第一容器的第一液位到第二液位分配第一容器中的流體；響應于供給管線中來自傳感器的信號調整傳遞給第一容器的惰性氣體的壓力，以保持供給管線中的預定的流體壓力；向位于第二容器中第一液位的流體施加惰性氣體；從第二容器的第一液位到第二液位分配第二容器中的流體；響應于供給管線中來自傳感器的信號調整傳遞給第二容器的惰性氣體的壓力，以保持供給管線中的預定的流體壓力； 其中，調整供給到位于第一容器的第一液位的流體的惰性氣體的壓力用于第 二容器的第一和第二液位之間的高差壓力的變化，并且其中，調整供給到位于第二 容器的第一液位的惰性氣體的壓力用于第一容器的第一和第二液位之間的高差壓 力。
19. 一種用于控制容積流體分配系統(tǒng)中的流體壓力的方法，該分配系統(tǒng)具有 供給管線，用于向供給管線供給流體的第一容器和第二容器，用于向第一和第二容 器供給惰性氣體的惰性氣體源，設置在供給管線中的控制器和傳感器，該方法包括 以下步驟將來自傳感器的控制信號傳送到控制器；根據控制信號和位于第二容器的第一液位和第二液位之間的流體的高差壓力 的變化來確定第一信號；基于第一信號向第一容器施加第一惰性氣體壓力； 將流體從第一容器分配到供給管線，，和根據控制信號和位于第一容器的第一液位和第二液位之間的流體的高差壓力 的變化來確定第二信號；基于第二信號向第二容器施加第二惰性氣體壓力；和 將流體從第二容器中分配到供給管線。
20. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，從第一容器分配流體的步驟 包括響應于控制信號來調整第一容器的惰性氣體的壓力，以保持供給管線中的預定 壓力。
21. 根據權利要求1所述的方法，其特征在于，從第二容器分配流體的步驟 包括響應于控制信號來調整第二容器的惰性氣體的壓力，以保持供給管線中的預定 壓力。
22. —種用于在容積流體分配系統(tǒng)中控制流體壓力的方法，包括交替地從 第一容器和第二容器將流體分配到至少一個應用位置，在這樣的情況下，在該至少一個應用位置的流體的壓力基本上保持恒定。
23. —種用于在交替的容器容積流體分配系統(tǒng)中控制流體壓力的設備，包括: 第一容器，具有用于檢測第一容器中的流體的第一液位和第二液位的第一對傳感器；第二容器，具有用于檢測第二容器中的流體的第一液位和第二液位的第二對 傳感器；用于向容器供給惰性氣體的惰性氣體供應管道；第一對調節(jié)器，包括第一主調節(jié)器和第一從調節(jié)器，其中第一從調節(jié)器適合 于調節(jié)第一容器的惰性氣體的壓力；第二對調節(jié)器，包括第二主調節(jié)器和第二從調節(jié)器，其中第二從調節(jié)器適合 于調節(jié)第二容器的惰性氣體的壓力；流體供給管線，具有設置在該供給管線中的控制傳感器，其中所述容器適合 于交替地向供給管線分配流體；和控制器，適合于接收來自控制傳感器的控制信號，基于該控制信號和第二容 器的第一和第二液位之間的流體的高差壓力的變化確定第一信號，基于該控制信號 和第一容器的第一和第二液位之間的流體的高差壓力的變化確定第二信號，并且將 第一信號發(fā)送到第一主調節(jié)器，將第二信號發(fā)送到第二主調節(jié)器。
24.根據權利要求23所述的設備，其特征在于，第一和第二對傳感器是電容式的、光學的或者數字的傳感器。
25. 根據權利要求23所述的設備，傳感器。
26. 根據權利要求23所述的設備，器。
27. 根據權利要求23所述的設備， 調節(jié)器。
28. 根據權利要求23所述的設備，
29. 根據權利要求23所述的設備，
30. 根據權利要求23所述的設備， 該控制器適合于接收無線信號。其特征在于，第一和第二對傳感器是測力其特征在于，主調節(jié)器是電動一氣動調節(jié)其特征在于，從調節(jié)器是圓頂形負荷壓力其特征在于， 其特征在于， 其特征在于，控制傳感器是壓力變換器。 控制傳感器是流量計。 控制傳感器是無線的，并且
全文摘要
一種改進的、用于向半導體加工工具提供加工流體的容積流體分配系統(tǒng)。該具有交變的壓力容器式發(fā)動機的改進系統(tǒng)基本上消除了容積流體供給管線中由于來自分配容器中的流體的重量變化的落差損失而導致的壓力波動。該系統(tǒng)還能夠靈活控制流體供給管線中的流體的流動狀態(tài)。
文檔編號B67D7/72GK101193815SQ200680006460
公開日2008年6月4日 申請日期2006年3月6日 優(yōu)先權日2005年3月4日
發(fā)明者D·杰肯 申請人:波克愛德華茲股份有限公司