技術(shù)特征：

1.一種日照遮蔽膜形成用涂布液，包括粘合劑和近紅外線遮蔽劑，其特征在于，所述粘合劑包括式I所示的化合物：

其中，X為烷氧基。

2.如權(quán)利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述烷氧基是甲氧基或乙氧基。

3.如權(quán)利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述的式I所示的化合物采用含有縮水甘油氧基丙基的烷氧基硅烷、含有氨基丙基的烷氧基硅烷與四羥基二苯甲酮進行混合反應(yīng)而成。

4.如權(quán)利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近紅外線遮蔽劑是平均粒徑為100nm以下的近紅外線遮蔽微粒子。

5.如權(quán)利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述近紅外線遮蔽劑選自含氧化錫微粒子、含氧化鎢微粒子、含釕氧化物微粒子、含銥氧化物微粒子和含銠氧化物微粒子中的一種或多種。

6.如權(quán)利要求1所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述日照遮蔽膜形成用涂布液還包括稀釋溶劑、硬化催化劑或紫外線遮蔽劑。

7.如權(quán)利要求6所述的日照遮蔽膜形成用涂布液，其特征在于，所述紫外線遮蔽劑是平均粒徑為100nm以下的紫外線遮蔽微粒子。

8.一種用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合劑，其特征在于，所述的用于日照遮蔽膜形成用涂布液的粘合劑為式I所示的化合物：

其中，X為烷氧基。

9.一種日照遮蔽膜，其特征在于，采用根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項所述的日照遮蔽膜形成用涂布液涂布并在常溫下硬化而成。

10.一種具有日照遮蔽功能的基材，其特征在于，所述基材具有根據(jù)權(quán)利要求9所述的日照遮蔽膜。