技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種用于阻擋層拋光的堿性拋光液，含有:(a)研磨顆粒(b)唑類化合物(c)磷酸(d)氯化銨(e)端基有氨基的聚乙二醇、聚丙二醇、乙二醇和丙二醇共聚物的Low?K材料抑制劑(f)氧化劑(g)水。該拋光液通過加入端基含氨基的聚乙二醇、聚丙二醇、乙二醇和丙二醇的共聚物可以選擇性抑制Low?K材料的拋光速度，改善芯片表面的蝶形缺陷和局部侵蝕。

技術(shù)研發(fā)人員：何華鋒;王晨;李星
受保護(hù)的技術(shù)使用者：安集微電子科技（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2015.12.31
技術(shù)公布日：2017.07.07