專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術(shù)區(qū)域本發(fā)明涉及一種在被保持在保持面的基板上涂敷處理液的基板處理裝置。
背景技術(shù)：
在液晶用方形玻璃基板、半導(dǎo)體基板、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、濾色器用基板等各種基板的制造工序中，都使用向基板表面涂敷處理液的基板處理裝置，即涂敷處理裝置。作為這樣的涂敷處理裝置公知的有，通過從狹縫噴嘴噴出處理液，同時使狹縫噴嘴相對基板移動，進(jìn)行將處理液涂敷于基板全體的狹縫涂敷的狹縫式涂敷機(jī)和狹縫涂敷后使基板翻轉(zhuǎn)的狹縫·旋轉(zhuǎn)式涂敷機(jī)等等。
在這些涂敷處理裝置進(jìn)行狹縫涂敷時，在狹縫噴嘴的前端部與基板接近的狀態(tài)，使狹縫噴嘴相對于基板移動。為此，如果基板的表面附著了異物，或是由于基板與保持該基板的保持面之間有異物導(dǎo)致基板上有隆起部的話，這些異物或是隆起部會跟狹縫噴嘴相接觸，從而引起狹縫噴嘴的損傷、基板的損傷、或是導(dǎo)致涂敷不良等問題。
因此，一直以來，為了防止這種狹縫噴嘴與異物等相接觸，有在狹縫噴嘴行進(jìn)的前方側(cè)配置長尺狀的平板，基于此平板與異物等接觸產(chǎn)生的平板的振動，檢測異物等的技術(shù)被提出(例如，參照特許文獻(xiàn)1以及2)。
特許文獻(xiàn)1JP特開2000-24571號公報。
特許文獻(xiàn)2JP特開2002-1195號公報。
但是，上述現(xiàn)有技術(shù)，因?yàn)槭腔谄桨逭駝?擺動變化)檢查異物等被檢測物體，所以有時會有根據(jù)因例如狹縫噴嘴的移動或是伴隨外部裝置動作的振動等，平板與被檢測物體接觸之外產(chǎn)生的干擾振動而誤認(rèn)為檢測出了被檢測物體，檢測被檢測物體的精度很低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述課題的，目的在于提供一種可以不受干擾振動影響，高精度地檢測被檢測物體的基板處理裝置。
為了解決上述問題，實(shí)施方案1所述的發(fā)明是一種向被保持在保持面的基板涂敷處理液的基板處理裝置，其特征在于，具有可以從沿著與上述保持面大致平行的第1方向延伸的狹縫狀噴出口向上述基板噴出處理液的噴嘴；通過使上述噴嘴相對于上述基板沿著與上述保持面大致平行且與上述第1方向互相垂直的第2方向相對移動，上述噴嘴對上述基板進(jìn)行噴出掃描的移動機(jī)構(gòu)；相對于上述噴嘴，相對固定在上述噴出掃描的上述噴嘴行進(jìn)的前方側(cè)，且沿著上述第1方向延伸的檢測用構(gòu)件；檢測由在上述排液掃描過程中被檢測物體與上述檢測用構(gòu)件相接觸產(chǎn)生的、上述檢測用構(gòu)件相對于上述噴嘴向與上述前方側(cè)相反的后方側(cè)的相對移動的檢測機(jī)構(gòu)。
此外，實(shí)施方案2所述的發(fā)明，在實(shí)施方案1所記載的基板處理裝置的基礎(chǔ)上，上述檢測單元具有相對于上述噴嘴相對固定，且對上述相對移動時上述檢測用構(gòu)件的移動路線的至少一部分投射激光的投光部；接受上述激光的受光部。
此外，實(shí)施方案3所述的發(fā)明，在實(shí)施方案2所記載的基板處理裝置中的上述檢測用構(gòu)件是非透明構(gòu)件。
此外，實(shí)施方案4所述的發(fā)明，在實(shí)施方案2或3所記載的基板處理裝置中，上述檢測用構(gòu)件具有可撓性。
此外，實(shí)施方案5所述的發(fā)明，在實(shí)施方案2或3所記載的基板處理裝置中，上述受光部是光點(diǎn)型受光傳感器。
此外，實(shí)施方案6所述的發(fā)明，在實(shí)施方案2或3所記載的基板處理裝置中，上述受光部是沿著上述第2方向延伸的線型受光傳感器。
此外，實(shí)施方案7所述的發(fā)明，在實(shí)施方案2或3所記載的基板處理裝置中，上述受光部配置在可以接受來自上述投光部的上述激光的直接光的位置。
此外，實(shí)施方案8所述的發(fā)明，在實(shí)施方案4所記載的基板處理裝置中，上述受光部配置在不能直接來自上述投光部的上述激光的直接光，而可以接受被上述相對移動的上述檢測用構(gòu)件的部分反射的上述激光的反射光的位置。
此外，實(shí)施方案9所述的發(fā)明，在實(shí)施方案4所記載的基板處理裝置中，上述檢測用構(gòu)件相對于上述噴嘴被固定在上述第1方向的多個位置。
此外，實(shí)施方案10所述的發(fā)明，在實(shí)施方案1所記載的基板處理裝置中，上述檢測單元具有檢測相對于上述噴嘴的上述檢測用構(gòu)件的相對移動量的位移計。
此外，實(shí)施方案11所述的發(fā)明，在實(shí)施方案10所記載的基板處理裝置中，上述檢測單元具備多個上述位移計，多個上述位移計分別配置在上述檢測用構(gòu)件在上述第1方向的多個位置上。
此外，實(shí)施方案12所述的發(fā)明，在實(shí)施方案11所記載的基板處理裝置中，上述檢測用構(gòu)件沿著上述第1方向排列，并且，由相互獨(dú)立并相對上述噴嘴可以向上述后方側(cè)相對移動的多個部分構(gòu)件構(gòu)成，多個上述位移計分別配置在上述多個部分構(gòu)件上。
此外，實(shí)施方案13所述的發(fā)明，在實(shí)施方案1所記載的基板處理裝置中，上述檢測用構(gòu)件由導(dǎo)體構(gòu)成，上述檢測單元在與上述檢測用構(gòu)件之間隔著絕緣構(gòu)件配置在上述檢測用構(gòu)件的上述后方側(cè)，具有由導(dǎo)體構(gòu)成，并且，沿著上述第1方向延伸的開關(guān)構(gòu)件和，電性檢測上述檢測用構(gòu)件和上述開關(guān)構(gòu)件的接觸的機(jī)構(gòu)。
此外，實(shí)施方案14所述的發(fā)明，在實(shí)施方案13所記載的基板處理裝置中，上述檢測用構(gòu)件具有可撓性。
根據(jù)實(shí)施方案1～14所述的發(fā)明，不檢測用構(gòu)件的振動，而檢測檢測用構(gòu)件的移動，所以可以不受干擾振動的影響，能夠高精度地檢測被檢測物體。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案2～9所述的發(fā)明，基于受光部的受光量的變化，可以容易地檢測檢測用構(gòu)件的相對移動。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案3所述的發(fā)明，可以可靠地遮蔽激光，提高檢測精度。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案4所述的發(fā)明，因?yàn)闄z測用構(gòu)件具有可撓性，即使檢測用構(gòu)件與被檢測物體相接觸，其僅發(fā)生部分撓性變形，可以防止檢測用構(gòu)件的破損。此外，可以擴(kuò)大遮蔽激光的區(qū)域，提高檢測精度。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案5所述的發(fā)明，可以使檢測機(jī)構(gòu)小型化。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案6所述的發(fā)明，因?yàn)榫€型受光傳感器大致沿著激光的移動路線，可以可靠地檢測激光受光量的變化。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案7所述的發(fā)明，可以使檢測機(jī)構(gòu)小型化。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案8所述的發(fā)明，因?yàn)椴恍枰呔鹊貙ο蚺渲檬芄獠亢驼丈洳?，可以減輕受光部配置的調(diào)整操作的負(fù)擔(dān)。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案9所述的發(fā)明，可以防止因檢測用構(gòu)件自重產(chǎn)生的彎曲，可以提高檢測精度。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案10～12所述的發(fā)明，通過位移計，可以容易地檢測檢測用構(gòu)件的相對移動。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案11所述的發(fā)明，因?yàn)榭梢愿鶕?jù)多個位移計檢測檢測用構(gòu)件的相對移動，可以提高檢測被檢測物體的精度。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案12所述的發(fā)明，檢測用構(gòu)件由相互獨(dú)立并可以相對移動的多個部分構(gòu)件構(gòu)成，通過分別配置的位移計，可以進(jìn)一步提高檢測被檢測物體的精度。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案13以及14所述的發(fā)明，通過比較單純的結(jié)構(gòu)，可以容易地檢測出檢測用構(gòu)件的相對移動。
此外，特別地根據(jù)實(shí)施方案14所述的發(fā)明，因?yàn)闄z測用構(gòu)件具有撓性，即使檢測用構(gòu)件與被檢測物體相接觸，其僅發(fā)生部分撓性變形，可以防止檢測用構(gòu)件的破損。


圖1是表示狹縫式涂敷機(jī)的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是表示被檢測物體的一個例子的圖。
圖3是表示被檢測物體的一個例子的圖。
圖4是第一實(shí)施方式中異物檢測部的立體圖。
圖5是第一實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖6是第一實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖7是表示狹縫式涂敷機(jī)的動作流程的圖。
圖8是第二實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖9是第二實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖10是第三實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖11是第三實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖12是第四實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖13是第四實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖14是第五實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖15是第五實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖16是第六實(shí)施方式中異物檢測部的立體圖。
圖17是第七實(shí)施方式中異物檢測部的立體圖。
圖18是第七實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
圖19是第七實(shí)施方式中異物檢測部的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
下面參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。
1.基板處理裝置的概要圖1是表示作為涉及本發(fā)明實(shí)施方式的基板處理裝置，即狹縫式涂敷機(jī)1的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。狹縫式涂敷機(jī)1是，進(jìn)行被稱為狹縫式涂敷的涂敷處理的涂敷處理裝置，狹縫式涂敷即是向基板90的表面涂敷作為處理液的抗蝕劑液，上述狹縫式涂敷機(jī)1被利用于有選擇地蝕刻在基板90表面形成的電極層等工藝過程等。成為狹縫式涂敷機(jī)1的涂敷對象的基板90代表性的是用于制造液晶顯示裝置的畫面面板的方形玻璃基板，但也可以是半導(dǎo)體基板、薄膜液晶用柔性基板，光掩模用基板、濾色器用基板等其他基板。
如圖1所示，狹縫式涂敷機(jī)1，大致分為實(shí)施涂敷處理的涂敷處理部2和控制涂敷處理部的控制部8。進(jìn)而，涂敷處理部2大致劃分為用于保持基板90的載物臺3，向保持在載物臺3上的基板90噴出抗蝕液的噴出機(jī)構(gòu)4和使噴出機(jī)構(gòu)4向規(guī)定方向移動的移動機(jī)構(gòu)5。
另外，在下面的說明中，在表示方向以及朝向時，酌情使用圖示的3維的XYZ直角坐標(biāo)系。此XYZ軸相對于載物臺3是相對固定的。在這里，X軸以及Y軸方向是水平方向，Z軸方向是垂直方向(+Z側(cè)是上方)。此外，X軸方向?yàn)榭v深方向(+X側(cè)是正面?zhèn)?，Y軸方向?yàn)樽笥曳较?+Y側(cè)是右側(cè))。
載物臺3是由具有大致長方體形狀的花崗巖等石材構(gòu)成的，其上表面加工成大致水平且平坦，作為基板90的保持面30而發(fā)揮功能。在保持面30分散形成有多個真空吸附口。通過這些真空吸附口吸附著基板90，由此在涂敷處理時使基板90在規(guī)定的位置保持水平狀態(tài)。此外，在保持面30上按規(guī)定的間隔設(shè)置了可以沿著垂垂方向(Z軸方向)升降的多個升降銷LP。
噴出機(jī)構(gòu)4主要由噴出抗蝕液的狹縫噴嘴41、支撐狹縫噴嘴的噴嘴支撐部42和支撐噴嘴支撐部42的兩端使其升降的2個升降機(jī)構(gòu)43構(gòu)成。
狹縫噴嘴41將從圖外的供給機(jī)構(gòu)供給的抗蝕液，從狹縫狀的噴出口排向基板90的上表面。該狹縫噴嘴41的噴出口，沿著與保持面30大致平行的Y軸方向延伸，并為了可以向垂垂下方(-Z側(cè))噴出抗蝕液，由噴嘴支撐部42支撐著。噴嘴支撐部42是由以Y軸方向?yàn)殚L度方向的碳素纖維加強(qiáng)樹脂等板狀構(gòu)件構(gòu)成的。
2個升降機(jī)構(gòu)43連接在噴嘴支撐部42的左右兩端部。這些升降機(jī)構(gòu)43分別具備AC伺服電動機(jī)以及滾珠螺桿等，可以使噴嘴支撐部40以及被噴嘴支撐部40支撐的狹縫噴嘴41在垂直方向(Z軸方向)升降。通過這兩個升降機(jī)構(gòu)43，調(diào)整狹縫噴嘴41與基板90之間的間隔(間隙)或狹縫噴嘴41相對基板90的姿勢等。
如圖1所示那樣，通過包含這些狹縫噴嘴41、噴嘴支撐部42以及兩個升降機(jī)構(gòu)43的噴出機(jī)構(gòu)4全體，形成載物臺3的左右兩端部沿Y軸方向架設(shè)的架橋結(jié)構(gòu)。移動機(jī)構(gòu)5，使具有這樣的架橋結(jié)構(gòu)的噴出機(jī)構(gòu)4的全體沿著X軸方向移動。
如圖所示的移動機(jī)構(gòu)5是左右對稱結(jié)構(gòu)(+Y側(cè)與-Y側(cè)的對稱)，其左右分別具有，向X軸方向引導(dǎo)噴出機(jī)構(gòu)4的移動的行走軌道51、產(chǎn)生用于移動噴出機(jī)構(gòu)4的移動力的線性電動機(jī)52和用于檢測噴出機(jī)構(gòu)4的位置的線性編碼器53。
兩個行走軌道51分別在載物臺3的Y軸方向的端部(左右端部)沿著X軸方向延伸設(shè)置。通過沿著這兩個行走軌道51分別引導(dǎo)兩個升降機(jī)構(gòu)43的下端部，將噴出機(jī)構(gòu)4的移動方向規(guī)定為X軸方向。
兩個線性電動機(jī)52分別作為具有固定元件52a和移動元件52b的AC無芯線性電動機(jī)構(gòu)成。固定元件52a在載物臺3的Y軸方向的側(cè)面(左右側(cè)面)沿X軸方向設(shè)置。另一方面，移動元件52b固定設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)43的外側(cè)。線性電動機(jī)52通過這些固定元件52a和移動元件52b之間產(chǎn)生的磁力，移動噴出機(jī)構(gòu)4。
此外，兩個線性編碼器53分別具有刻度部53a和檢測部53b?？潭炔?3a在固定安裝在載物臺3上的線性電動機(jī)52的固定元件52a的下部沿X軸方向設(shè)置。另一方面，檢測部53b在固定設(shè)置在升降機(jī)構(gòu)43的線性電動機(jī)52的移動元件52b的更外側(cè)被固定設(shè)置，與刻度部53a相對置地配置。線性編碼器53，基于刻度部53a和檢測部53b的相對位置關(guān)系，檢測在X軸方向上的噴出機(jī)構(gòu)4的位置(更具體來說，狹縫噴嘴41的噴出口的位置)。
根據(jù)以上的結(jié)構(gòu)，狹縫噴嘴41，可以在保持著基板90的保持面30的上部空間，在與保持面30平行的X軸方向上，相對于保持面30移動。進(jìn)行涂敷處理的時候，狹縫噴嘴41在從噴出口噴出抗蝕液的狀態(tài)下，在X軸方向上以規(guī)定的速度移動，完成了通過狹縫噴嘴41對基板90的大致全表面的掃描(噴出掃描)。通過這樣的涂敷處理，在基板90的大致全表面均一地涂敷抗蝕液，在基板90的表面上形成了規(guī)定膜厚的抗蝕液層。本實(shí)施方式的狹縫式涂敷機(jī)1，在涂敷處理(噴出掃描)過程中狹縫噴嘴41的移動方向是+X方向。
此外，這樣的涂敷處理部2的各個部分與控制部8電性連接，通過控制部8統(tǒng)括地控制涂敷處理部2各個部分的工作?？刂撇?具備由CPU、RAM以及ROM等構(gòu)成的微型計算機(jī)，控制部8的控制機(jī)能是通過CPU按照規(guī)定的程序和數(shù)據(jù)，利用RAM進(jìn)行運(yùn)算處理實(shí)現(xiàn)的。此外，控制部8的正面?zhèn)?，設(shè)置了用于操作人員做輸入操作的操作部82和用于表示各種數(shù)據(jù)的表示部83，這些被作為用戶接口發(fā)揮功能。
2.異物檢測部此外，狹縫式涂敷機(jī)1具有在做涂敷處理時檢測可能與狹縫噴嘴41接觸的異物等的功能。
圖2以及圖3，是從-Y側(cè)看表示涂敷處理中狹縫噴嘴41與基板90之間關(guān)系的側(cè)視圖。涂敷處理中，狹縫噴嘴41以其下端部相對基板90間隔例如50μm～200μm的間隙的方式配置在基板90的上方，并維持該狀態(tài)的條件下向+X方向移動。
在涂敷處理中，在狹縫噴嘴41應(yīng)該移動的區(qū)域(下面稱為“移動對象區(qū)域”)內(nèi)，有時存在著如圖2所示的在基板90的上表面附著的異物Fm或如圖3所示的基板90的隆起部90a(因?yàn)樵诨?0和保持面30之間夾有異物Fm而產(chǎn)生的比其它部位高的部分)。在存在這樣的異物Fm或隆起部90a的狀態(tài)強(qiáng)行進(jìn)行涂敷處理的話，這些異物等Fm，90a與狹縫噴嘴41的下端部(前端部)接觸，可能會產(chǎn)生狹縫噴嘴41破損等問題。
為了避免出現(xiàn)這樣的現(xiàn)象，在狹縫式涂敷機(jī)1中，如圖1所示，相對狹縫噴嘴41固定設(shè)置了用于檢測在狹縫噴嘴41的+X側(cè)的異物等Fm，90a的異物檢測部6。另外，以下，將成為異物檢測部6的檢測對象的異物Fm以及隆起部90a總稱為“被檢測物體”NG。
圖4是表示異物檢測部6結(jié)構(gòu)的立體圖。圖5以及圖6是從-Y側(cè)看異物檢測部6的側(cè)視圖。如這些圖所示，異物檢測部6具有，在存在于狹縫噴嘴41的移動對象區(qū)域的被檢測物體NG與狹縫噴嘴41接觸之前的階段，用于與被檢測物體NG接觸的平板61。
平板61是比基板90的Y軸方向的尺寸更長的長尺狀的有可撓性的非透明部件。例如，由厚度為0.05～0.3mm左右的金屬制薄片或樹脂薄膜構(gòu)成。平板61以相對于以Y軸方向?yàn)殚L度方向的方棒狀平板支撐構(gòu)件62向下垂直的方式進(jìn)行固定，此平板支撐構(gòu)件62固定設(shè)置在狹縫噴嘴41的+X側(cè)。因此，平板61，按相隔規(guī)定的間隔相對地固定在狹縫噴嘴41的+X側(cè)(涂敷處理中狹縫噴嘴41的行進(jìn)前方側(cè))。
平板61，無論在狹縫噴嘴41的噴出口延伸的Y軸方向的哪個位置，都必須遮斷從狹縫噴嘴41的下端部向+X方向延伸的假想線的方式被配置。更具體的說，平板61的長度方向沿著Y軸方向，并且平板61的下端部位于比狹縫噴嘴41的噴出口的下端部低，例如10μm左右的方式配置平板61。
此外，如圖4所示，平板61在平板支撐部件62的Y軸方向的多個部分61f每隔規(guī)定間隔地被固定。因?yàn)槠桨?1有可撓性，所以可以通過自重部分向下彎曲，但是通過采用這樣的固定方法可以防止因自重而產(chǎn)生的部分彎曲，可以將平板61的下端部的全體與Y軸方向大致平行地配置。
在這里，如圖5所示，假定在狹縫噴嘴41的移動對象區(qū)域中存在被檢測物體NG。狹縫噴嘴41從圖5的狀態(tài)開始進(jìn)一步向+X側(cè)移動時，因?yàn)樵诒泉M縫噴嘴41更靠近+X側(cè)的地方配置著平板61，如圖6所示，被檢測物體NG在與狹縫噴嘴41接觸之前與平板61相接觸。并且，像這樣平板61一旦與被檢測物體NG接觸，由于平板61有可撓性，所以就使平板61的接觸部分彎曲，使其從原來位置相對-X側(cè)(涂敷處理中狹縫噴嘴41行進(jìn)的后方側(cè))移動。向這樣的平板61向后方側(cè)的移動，始終是對狹縫噴嘴41的相對移動。異物檢測部6，根據(jù)檢測此平板61向后方側(cè)的相對移動，檢測被檢測物體NG。
本實(shí)施方式的異物檢測部6，基于激光的照射狀態(tài)檢測這樣的平板61的相對移動。因此，如圖4所示，異物檢測部6還具有照射激光的投光部63和接受激光的受光部64。
投光部63是發(fā)射大致圓形的激光的光點(diǎn)型半導(dǎo)體激光器。投光部63經(jīng)由大致呈L字形的輔助支撐部件63a固定設(shè)置在平板支撐部件62，配置在比平板61的-Y側(cè)端部更靠近-Y側(cè)的位置。另一方面，受光部64由多個光敏二極管等構(gòu)成，是具有大致圓形的感光度的光點(diǎn)型受光傳感器。受光部64也經(jīng)由大致呈L字形的輔助支撐部件64a固定設(shè)置在平板支撐部件62，配置在比平板61的+Y側(cè)端部更靠近+Y側(cè)的位置。由此，投光部63以及受光部64雙方都相對狹縫噴嘴41被相對固定。
投光部63以及受光部64隔著基板90的上部空間，對向配置在Y軸方向上。即，向著+Y側(cè)配置投光部63，以便使其可以沿Y軸方向照射激光，另一方面，受光部64向著-Y側(cè)被配置，以便使其可以接受來自投光部63的激光的直接光。
此外，如圖5所示那樣，投光部63對于平板61的-X側(cè)(涂敷處理中狹縫噴嘴41的行進(jìn)的后方側(cè))沿Y軸方向投射激光。即激光通過與被檢測物體NG接觸時成為平板61相對移動時的移動路線的平板61的后方側(cè)(-X側(cè))。
因此，在平板61與被檢測物體NG的未接觸狀態(tài)(圖5的狀態(tài))，因來自投光部63的激光沒有完全被平板61遮蔽，受光部64接受光。并且另一方面，在平板61與被檢測物體NG的接觸狀態(tài)(圖6的狀態(tài))，來自投光部63的激光的一部分被平板61遮蔽。因此，如果比較圖5和圖6的狀態(tài)，在平板61與被檢測物體NG接觸的圖6的狀態(tài)時，受光部64的激光的受光量減少。為此，如果受光部64的激光受光量減少，則應(yīng)該可以判定存在被檢測物體NG。
本實(shí)施方式的狹縫式涂敷機(jī)1中，基于這樣的原理通過控制部8檢測被檢測物體NG。如圖4所示那樣，投光部63和受光部64電性連接到控制部8上，通過控制部8進(jìn)行控制。此外，由受光部64接收到的受光信號輸入到控制部8，控制部8基于此受光信號導(dǎo)出受光部64的受光量。在涂敷處理中控制部8經(jīng)常監(jiān)控這樣的受光部64的受光量，當(dāng)受光量減少到比規(guī)定值小的時候，基于上述原理就可以判定為檢測出存在被檢測物體NG。
3.涂敷處理接下來，詳細(xì)地說明伴隨著檢測這樣的被檢測物體NG的涂敷處理。圖7是表示對基板90涂敷抗蝕液的狹縫式涂敷機(jī)1的動作流程圖。此動作是對每個成為涂敷對象的基板90實(shí)施的。以下，參照此圖說明狹縫式涂敷機(jī)1的動作。另外，在此說明的各個部分的動作控制，特別是沒有提到的部分是通過控制部8進(jìn)行的。
首先，通過涂敷處理部2外部的搬送機(jī)構(gòu)，將基板90搬入涂敷處理部2，交接給升降銷LP。接收到此基板90后，作為對此的應(yīng)答，升降銷LP下降并埋沒于載物臺3內(nèi)。由此，搬入的基板90載置到載物臺3的保持面30的規(guī)定位置，進(jìn)而通過真空吸附口吸附并保持著。在搬入這樣的基板90時，狹縫噴嘴41在如圖1所示的待避位置上待命(步驟S 1)。
接下來，在通過升降機(jī)構(gòu)43調(diào)整狹縫噴嘴41的噴出口高度的同時，狹縫噴嘴41通過移動機(jī)構(gòu)5移動到應(yīng)該開始噴出抗蝕液的規(guī)定的開始位置(更具體的說，基板90的-X側(cè)的端部的正上面)(步驟S2)。
接下來，從狹縫噴嘴41的噴出口開始向基板90噴出抗蝕液(步驟S3)。與此同時，通過移動機(jī)構(gòu)5開始向+X側(cè)以規(guī)定速度移動狹縫噴嘴41(步驟S4)。即，狹縫噴嘴41在基板90上移動的同時開始進(jìn)行向基板90噴出抗蝕液的涂敷處理(噴出掃描)。
這樣的涂敷處理一直持續(xù)到狹縫噴嘴41移動到規(guī)定的結(jié)束位置(更具體的說，基板90的+X側(cè)的端部的正上面)為止(步驟S6)。并且，在這樣的涂敷處理的持續(xù)過程中，監(jiān)視著在狹縫噴嘴41的移動對象區(qū)域中是否存在被檢測物體NG。即，通過控制部8，監(jiān)視著受光部64的受光量是否少于規(guī)定值(步驟S5)。
通過這種監(jiān)視檢測出被檢測物體NG時(步驟S5為“是”)，強(qiáng)制停止涂敷處理。即，停止從狹縫噴嘴41噴出抗蝕液以及狹縫噴嘴41的移動。進(jìn)而，作為警報，在控制部8的表示部83顯示表示檢測到了被檢測物體NG的警告畫面(步驟S7)。
與被檢測物體NG接觸的平板61，因?yàn)榘匆?guī)定的間隔配置在狹縫噴嘴41的行進(jìn)前方，所以當(dāng)檢測到被檢測物體NG時，通過立即停止狹縫噴嘴41的移動，可以提前防止狹縫噴嘴41與被檢測物體NG接觸。由此，可以有效地防止通過與被檢測物體NG接觸引起的狹縫噴嘴41的破損。
此外，通過輸出警報，可以通知操作人員發(fā)生了異常，因而可以有效率地進(jìn)行恢復(fù)工作。另外，只要是可以通知操作人員發(fā)生了異常，警報也可以用其他的方法，例如通過揚(yáng)聲器輸出警報音，亮警報燈等來發(fā)警報。
這樣實(shí)施步驟S7后，通過移動機(jī)構(gòu)5將狹縫噴嘴41移動到待避位置(步驟S9)。接下來，通過升降銷LP的上升，將基板90從保持面30推上去，在此狀態(tài)通過外部的搬送機(jī)構(gòu)，將基板90從涂敷處理部2搬出(步驟S10)。因?yàn)榇嘶?0的涂敷處理沒有完成，所以跟完成了涂敷處理的其他的基板90相區(qū)別。此外，這種情況下，如圖3所示，因?yàn)榭紤]到在載物臺3上附著了異物Fm，所以最好進(jìn)行載物臺3的清掃等的恢復(fù)工作。
此外，另一方面，在涂敷處理中沒有檢測到被檢測物體NG，而狹縫噴嘴41移動到了規(guī)定的結(jié)束位置時(步驟S6為“是”)，涂敷處理正常結(jié)束，就是止常時的終了處理。即，停止從狹縫噴嘴41噴出抗蝕液(步驟S8)，通過移動機(jī)構(gòu)5將狹縫噴嘴41移動到待避位置(步驟S9)。并且，將完成了涂敷處理的基板90從涂敷處理部2搬出(步驟S10)。
通過以上的說明，在狹縫式涂敷機(jī)1中，在狹縫噴嘴41的+X側(cè)(噴出掃描時狹縫噴嘴41的行進(jìn)的前方)固定了長尺狀的平板61，檢測通過此平板61與被檢測物體NG接觸產(chǎn)生的平板61向-X側(cè)(噴出掃描中的狹縫噴嘴41的行進(jìn)的后方)的相對移動。即，因?yàn)椴皇菣z測平板61的振動，而是檢測平板61向后方的相對移動，所以可以不受干擾振動的影響檢測被檢測物體NG，能夠提高被檢測物體NG的檢測精度。
此外，向通過平板61與被檢測物體NG接觸產(chǎn)生的平板61的移動路線投射激光，基于此激光的受光量檢測平板61的相對移動，因此，可以容易的檢測與被檢測物體NG接觸相關(guān)的平板61的相對移動。
此外，平板61是非透明物體，因此可以可靠地遮蔽與被檢測物體NG接觸相關(guān)的平板61的相對移動中的激光，可以提高與被檢測物體NG接觸相關(guān)的平板61的相對移動的檢測精度。此外，根據(jù)激光直接檢測被檢測物體NG的情況下，雖然不能檢測透明的被檢測物體NG，但是本實(shí)施方法中，因?yàn)闄z測出與被檢測物體NG接觸的平板61，所以即使是透明的被檢測物體NG也可以可靠地被檢測出。
此外，因?yàn)槠桨?1有可撓性，所以即使平板61與被檢測物體接觸，也只是接觸的部分發(fā)生撓性變形。因此，由于通過平板61與被檢測物體的接觸不會損傷平板61，不需要每次檢測被檢測物體時都更換平板61，所以恢復(fù)工作很容易，此外，還可以降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本。
此外，平板61一旦與被檢測物體NG接觸，平板61的接觸部分發(fā)生彎曲的同時其周邊部分也移動，在經(jīng)過平板61的移動路線的全體將激光遮蔽起來。因此，例如與采用沒有可撓性的平板相比，可以擴(kuò)大遮蔽激光的部分，可以明確通過平板61的移動產(chǎn)生的激光的受光量的減少。
4.其他實(shí)施方式狹縫式涂敷機(jī)1，并不限定于上述的實(shí)施方式(下面稱之為“第一實(shí)施方式”)。下面，說明其他的實(shí)施方式。
4.1第二實(shí)施方式線型在第一實(shí)施方式中雖然采用了光點(diǎn)型受光傳感器作為受光部，但是也可以采用線型受光傳感器。圖8以及圖9是從-Y側(cè)看采用線型受光傳感器作為受光部的第二實(shí)施方式中的異物檢測部6的側(cè)視圖。
如圖所示的第二實(shí)施方式中，作為發(fā)射直線狀激光(狹縫光)的線型激光器的投光部63L，以及作為具有直線狀的感光度的線型受光傳感器的受光部64L，隔著基板90的上部空間，在Y軸方向上對向配置。以在大致沿著與被檢測物體NG接觸時的平板61的移動路線的方式，受光部64L的長度方向沿著X軸方向被配置。此外，激光也是其長度方向沿著X軸方向從投光部63L投射光線。
這樣采用線型受光傳感器作為受光部64L時，如圖9所示那樣，能夠檢測在與被檢測物體NG接觸時的平板61的整個移動路線的激光的遮蔽，可以可靠地檢測在平板61相對移動時的激光的受光量的變化。因此，可以進(jìn)一步提高被檢測物體的檢測精度。
另外，另一方面，線型受光傳感器與光點(diǎn)型受光傳感器相比，需要很多配置空間，因此在謀求異物檢測部6的小型化時，采用第一實(shí)施方式那樣的光點(diǎn)型受光傳感器比較好。
4.2第三實(shí)施方式反射光的受光在第一實(shí)施方式中，投光部63和受光部64對向配置，受光部64可以接受激光的直接光，但是將受光部64配置在可以接受激光的反射光的位置也是可以的。圖10以及圖11是從-Y側(cè)看在將受光部64配置成為可以接受激光的反射光的第三實(shí)施方式的異物檢測部6的側(cè)視圖。
如圖所示的第三實(shí)施方式中，投光部63是與第一實(shí)施方式相同地配置，同時，受光部64從接受通過投光部63照射的激光的直接光的位置更向-X側(cè)偏移地被配置。此時的受光部64也相對于狹縫噴嘴41相對同定。
通過采用這樣的配置，在平板61與被檢測物體NG的非接觸狀態(tài)，如圖10所示，從投光部63來的激光(直接光)不能照射到受光部64。相反地，在平板61與被檢測物體NG的接觸狀態(tài)，如圖11所示，從投光部63來的激光，在平板61的相對移動的部分漫反射，通過漫反射產(chǎn)生的反射光的一部分照射到受光部64。
因此，比較圖10以及圖11的狀態(tài)可知，在平板61與被檢測物體NG接觸的圖11的狀態(tài)，受光部64受到激光照射的受光量上升。因此在第三實(shí)施方式中，如果受光部64的受光量上升，就應(yīng)該判定存在被檢測物體NG。
如果采用這樣的受光部64的配置，只要讓受光部64只接受反射光的一部分就可以，所以不需要高精度地配置受光部64，如不需要使投光部63和受光部64嚴(yán)格地對向配置等。因此，受光部64的配置操作變得容易，此外，因?yàn)槭褂脮?dǎo)致受光部64的配置有些不準(zhǔn)確，但是因?yàn)槿菰S一定程度的偏差，所以不會使被檢測物體NG的檢測精度下降。
另外，因?yàn)樵诖说谌龑?shí)施方式中，與第一實(shí)施方式相比，受光部64的配置需要更多的空間，所以在謀求異物檢測部6的小型化時，可以采用像第一實(shí)施方式那樣投光部63和受光部64對向配置的做法。
4.3第四實(shí)施方式非撓性部件在第一實(shí)施方式中雖然采用了可撓性構(gòu)件作為平板，但也可以采用非撓性構(gòu)件。圖12以及圖13是從-Y側(cè)看采用非撓性部件作為平板的第四實(shí)施方式的異物檢測部6的側(cè)視圖。
如圖所示的第四實(shí)施方式中，配置了平板65來代替第一實(shí)施方式的平板61。此平板65除了是非撓性以外，與平板61是相同的。具體來說，平板65是由即使與被檢測物體NG接觸也不會破損的比較堅(jiān)硬的材料構(gòu)成的，如金屬，陶瓷等，是比基板90的Y軸方向尺寸長的長尺狀非透明構(gòu)件。
此平板65與第一實(shí)施方式相同地被配置，以必須遮斷從狹縫噴嘴41下端向+X側(cè)延伸的假想線。但是平板65可以在XZ平面內(nèi)以沿Y軸方向的支撐軸67為中心旋轉(zhuǎn)，經(jīng)由該支撐軸67被平板支撐構(gòu)件66支撐著。與此同時，在平板65中比支撐軸67高的上部通過彈簧68向-X側(cè)彈性變形，在平板65中比支撐軸67低下部通過制動器69控制向+X側(cè)的旋轉(zhuǎn)。由此，在平板65中比支撐軸67低的下部只能向-X側(cè)(噴出掃描過程中狹縫噴嘴41的行進(jìn)后方)旋轉(zhuǎn)。
如圖12所示那樣，在平板65與被檢測物體NG的非接觸狀態(tài)，平板65通過彈簧68的彈性力保持著在鉛垂方向的狀態(tài)。相反地，如圖13所示那樣，平板65與被檢測物體NG接觸時，平板65的下部，向與彈簧68的彈力相反的-X側(cè)相對狹縫噴嘴41做旋轉(zhuǎn)移動。投光部63以對這樣的平板65的相對旋轉(zhuǎn)移動的移動路線照射激光的方式配置。因此，即使是第四實(shí)施方式，只要受光部64的受光量減少，就可以檢測平板65的相對移動，可以判定存在被檢測物體NG。
另外，在采用此第四實(shí)施方式那樣的非撓性構(gòu)件作為平板，進(jìn)而采用第二實(shí)施方式那樣的線型受光傳感器作為受光部的時候，通過平板65的相對移動，沒有激光入射的受光傳感器上的位置發(fā)生變化。因此，在這種情況下，基于沒有激光入射的受光傳感器上的位置變化，也可以檢測平板65的相對移動。
4.4第五實(shí)施方式位移計在第四實(shí)施方式中，雖然是通過激光檢測平板65向-X側(cè)的相對移動，但是也可以通過位移計檢測平板65的相對移動量。圖14以及圖15是從-Y側(cè)看通過位移計檢測平板65的相對移動的第五實(shí)施方式的異物檢測部6的側(cè)視圖。
如圖所示那樣，在第五實(shí)施方式中，沒有配置投光部63以及受光部64，而設(shè)置了作為位移計的測量器(ピツクテスタ)(測量規(guī))7。其他的結(jié)構(gòu)與第四實(shí)施方式相同。
測量器7由主體部71和可以相對主體部71旋轉(zhuǎn)的棒狀檢測元件72構(gòu)成，基于檢測元件72的旋轉(zhuǎn)，檢測檢測元件72前端的變位量。測量器7的主體部71相對平板支撐構(gòu)件66固定，另一方面，檢測元件72的前端，與平板65中比支撐軸67低的下部-X側(cè)(噴出掃描過程中狹縫噴嘴41的行進(jìn)后方)鄰接。通過這樣的配置，測量器7可以檢測相對于平板65的狹縫噴嘴41的相對移動量。測量器7與控制部8電性連接，表示檢測元件72的前端的位移量，即平板65的相對移動量的信號，輸入至控制部8。
如圖14所示，在平板65與被檢測物體NG的非接觸狀態(tài)，平板65通過彈簧68的彈性力保持著在鉛垂方向的狀態(tài)，測量器7未檢測平板65的相對移動量。相反地，如圖15所示，平板65與被檢測物體NG接觸時，因?yàn)槠桨?5相對向-X側(cè)旋轉(zhuǎn)移動，在測量器7檢測出平板65的相對移動量?？刂撇?基于從測量器7輸入的平板65的相對移動量，可以檢測平板65的相對移動，由此能夠判定存在被檢測物體NG。
在第五實(shí)施方式中，因?yàn)椴挥眉す?，所以不需要?yán)格安裝投光部63和受光部64等的操作，因此很容易檢測出平板65的相對移動。另外，在第五實(shí)施方式中，因?yàn)椴挥眉す?，所以平?5也可以是透明構(gòu)件。
4.5第六實(shí)施方式多個位移計第五實(shí)施方式的測量器7，可以配置在Y軸方向的多個位置。圖16是表示配置了多個測量器7的第六實(shí)施方式的異物檢測部6的結(jié)構(gòu)的立體圖。另外，圖16用于明示平板65以及測量器7的配置關(guān)系，為了表示方便，省略了一部分異物檢測部6的結(jié)構(gòu)，但省略的結(jié)構(gòu)與第五實(shí)施方式相同。
如圖所示，在第六實(shí)施方式中，在Y軸方向上以規(guī)定的間隔配置了多個測量器7(圖中是4個)。用這些測量器7檢測的平板65的相對移動量分別輸入到控制部8?？刂撇?基于至少一個從測量器7來的信號，在檢測到平板65的相對移動時，判定存在被檢測物體NG。這樣就可以通過沿Y軸方向配置多個測量器7提高檢測被檢測物體NG的精度。
此外，圖中例示的平板65，由4個部分構(gòu)件65a構(gòu)成。這些4個部分構(gòu)件65a沿Y軸方向排列，可以相對獨(dú)立地向-X側(cè)相對狹縫噴嘴41做相對旋轉(zhuǎn)移動。并且，相對于這4個部分構(gòu)件65a，分別配置測量器7，通過測量器7就能夠檢測部分構(gòu)件65a各自的相對移動量。
如果平板65由多個部分構(gòu)件65a構(gòu)成的話，與由一個構(gòu)件構(gòu)成平板65相比，因?yàn)閷τ谂c被檢測物體NG接觸，移動變得更加敏感，可以檢測微小的被檢測物體NG，進(jìn)一步提高檢測被檢測物體NG的精度。
4.6第七實(shí)施方式電路在第一實(shí)施方式中，雖然通過激光檢測平板65向-X側(cè)的相對移動，但是也可以通過電性檢測。圖17是表示電性檢測平板65的相對移動的第七實(shí)施方式的異物檢測部6的結(jié)構(gòu)的立體圖。此外，圖18以及圖19是從-Y側(cè)來看第七實(shí)施方式的異物檢測部6的側(cè)視圖。
如這些圖所示，第七實(shí)施方式中用第1平板73代替第一實(shí)施方式的平板61。此第1平板73，除了是導(dǎo)體以外與第一實(shí)施方式的平板61相同且有可撓性。但是第1平板73不需要是非透明構(gòu)件，可以是透明構(gòu)件。
此外，第1平板73，與第一實(shí)施方式的平板61相同，相對平板支撐構(gòu)件75垂下那樣的被固定著，以便遮斷從狹縫噴嘴41的下端沿+X方向延伸的假想線。此平板支撐構(gòu)件75是以Y軸方向?yàn)殚L度方向的方棒狀絕緣構(gòu)件，固定設(shè)置在狹縫噴嘴41的+X側(cè)。
此外，在第七實(shí)施方式中，與第1平板73相區(qū)別，由與第1平板73相同尺寸的導(dǎo)體構(gòu)成的第2平板74配置在第1平板73的-X側(cè)(涂敷處理過程中狹縫噴嘴41的行進(jìn)后方側(cè))。第2平板74的長度方向沿Y軸方向并且為使其下端的高度與第1平板73下端大致相同，第2平板74相對半板支撐構(gòu)件62垂下那樣的被固定。由此，第1平板73和第2平板74隔著絕緣構(gòu)件，互相平行地沿Y軸方向配置著。
如圖17所示，第1平板73和第2平板74成為電路76的一部分，在第1平板73和第2平板74之間外加了直流電壓(電位差)。此外，電路76中設(shè)有繼電器電路77，該繼電器電路77在第1平板73和第2平板74的非接觸狀態(tài)為關(guān)閉，在第1平板73和第2平板74的接觸狀態(tài)為開啟。就是說，第1平板73和第2平板74具有切換繼電器電路77的開/關(guān)的開關(guān)構(gòu)件作用。
繼電器電路77的開/關(guān)作為信號被輸入到控制部8。由此，控制部8可以電性檢測出第1平板73和第2平板74的接觸/非接觸狀態(tài)。
圖18所示，在第1平板73和被檢測物體NG的非接觸狀態(tài)，第1平板73和第2平板74不能接觸，處于被平行地配置的狀態(tài)，繼電器電路77呈關(guān)閉狀態(tài)。相反地，如圖19所示，第1平板73與被檢測物體NG接觸時，第1平板73相對狹縫噴嘴41向-X側(cè)相對移動，與第2平板74接觸。并且，通過這種接觸，繼電器電路77變?yōu)殚_啟狀態(tài)，其作為信號被輸入到控制部8。由此，控制部8可以檢測平板65的相對移動，可以判定存在被檢測物體NG。
第七實(shí)施方式中，因?yàn)闆]有用激光，所以不需要嚴(yán)格配置投光部63和受光部64等的操作，所以用相對簡單的結(jié)構(gòu)就可以容易地檢測平板65的相對移動。
此外，第七實(shí)施方式中，也可以采用與第四實(shí)施方式相同的非撓性構(gòu)件作為第1平板73。但是，為了降低與被檢測物體NG接觸時發(fā)生破損的可能性，第1平板73最好是具有可撓性。此外，第2平板74可以是可撓性/非撓性中的任意一種，但基于同樣的理由最好具有可撓性。
5.其他變形例上述的實(shí)施方式中，雖然使用了長尺狀的平板61、65、73作為用于與被檢測物體NG接觸的構(gòu)件，但是也可以使用例如可以給予沿Y軸方向延伸的張力的琴線等構(gòu)件。
此外，在上述的第一、第二以及第四實(shí)施方式中，雖然激光向平板61、65的后方照射，但是也可以向如平板61、65相對移動前的原來的位置照射激光，基于激光受光量的升高檢測平板61、65的相對移動。就是說，因?yàn)橹灰梢酝ㄟ^平板61、65的相對移動，變化激光的遮斷狀態(tài)(激光受光量)即可，所以只要是平板61、65的相對移動時的平板61、65的移動路線，就可以向任何位置照射激光。
此外，在上述的第一～第四以及第七實(shí)施方式中，與第六實(shí)施方式相同，平板可以由相互獨(dú)立且可向-X側(cè)相對移動的多個部分構(gòu)件構(gòu)成。
此外，上述異物檢測部6也可以與通過激光檢測被檢測物體NG等的其他的異物檢測機(jī)構(gòu)一并使用。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，將處理液涂敷在被保持于保持面的基板上，其特征在于，具有噴嘴能夠從沿著與上述保持面大致平行的第1方向延伸的狹縫狀噴出口向上述基板噴出處理液；移動機(jī)構(gòu)通過使上述噴嘴相對于上述基板在第2方向移動，上述噴嘴相對于上述基板進(jìn)行噴出掃描，上述第2方向與上述保持面大致平行且垂直于上述第1方向；檢測用構(gòu)件相對于上述噴嘴，相對固定在上述噴出掃描的上述噴嘴行進(jìn)的前方側(cè)，且其沿著上述第1方向延伸；檢測機(jī)構(gòu)檢測上述檢測用構(gòu)件的相對移動，上述檢測用構(gòu)件的相對移動是在上述排液掃描過程中由被檢測物體與上述檢測用構(gòu)件相接觸所產(chǎn)生的，且是相對于上述噴嘴向與上述前方側(cè)相反的后方側(cè)的相對移動。
2.如權(quán)利要求1記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測機(jī)構(gòu)具有投光部相對于上述噴嘴被相對固定，對上述相對移動時的上述檢測用構(gòu)件的移動路線的至少一部分投射激光；受光部接受上述激光。
3.如權(quán)利要求2記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件為非透明構(gòu)件。
4.如權(quán)利要求2或3記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件具有可撓性。
5.如權(quán)利要求2或3記載的基板處理裝置，其特征在于，上述受光部是光點(diǎn)型受光傳感器。
6.如權(quán)利要求2或3記載的基板處理裝置，其特征在于，上述受光部是沿著上述第2方向延伸的線型受光傳感器。
7.如權(quán)利要求2或3記載的基板處理裝置，其特征在于，上述受光部配置在能夠接受來自上述投光部的上述激光的直接光的位置。
8.如權(quán)利要求4記載的基板處理裝置，其特征在于，上述受光部配置在不能接受來自上述投光部的上述激光的直接光，而能夠接受在上述相對移動的上述檢測用構(gòu)件的部分反射的上述激光的反射光的位置。
9.如權(quán)利要求4記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件相對于上述噴嘴被相對同定在上述第1方向中的多個位置。
10.如權(quán)利要求1記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測機(jī)構(gòu)具有檢測相對于上述噴嘴的上述檢測用構(gòu)件的相對移動量的位移計。
11.如權(quán)利要求10記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測機(jī)構(gòu)具備多個上述位移計，多個上述位移計分別配置在上述檢測用構(gòu)件在上述第1方向中的多個位置上。
12.如權(quán)利要求11記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件沿著上述第1方向排列，并且，由相互獨(dú)立且相對于上述噴嘴能夠向上述后方側(cè)相對移動的多個部分構(gòu)件構(gòu)成，多個上述位移計分別配置在上述多個部分構(gòu)件上。
13.如權(quán)利要求1記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件由導(dǎo)體構(gòu)成；上述檢測機(jī)構(gòu)具有在上述檢測用構(gòu)件之間隔著絕緣構(gòu)件被配置在上述檢測用構(gòu)件的上述后方側(cè)、由導(dǎo)體構(gòu)成、且沿著上述第1方向延伸的開關(guān)構(gòu)件；以及電性檢測上述檢測用構(gòu)件和上述開關(guān)構(gòu)件之間的接觸的機(jī)構(gòu)。
14.如權(quán)利要求13記載的基板處理裝置，其特征在于，上述檢測用構(gòu)件具有可撓性。
全文摘要
本發(fā)明提供可高精度地檢測可能與狹縫噴嘴接觸的異物等的狹縫式涂敷機(jī)?？蓳闲云桨?61)配置在狹縫噴嘴(1)的行進(jìn)前方側(cè)(+X側(cè))，激光向平板(61)的后方側(cè)(－X側(cè))照射。在涂敷處理中在狹縫噴嘴(1)應(yīng)該行進(jìn)的基板90上，存在異物等被檢測物體(NG)的情況下，在被檢測物體(NG)與狹縫噴嘴(1)接觸之前，被檢測物體(NG)與平板(61)接觸。平板(61)一旦與被檢測物體(NG)接觸，其一部分會發(fā)生撓性變形向－X側(cè)相對移動，遮斷激光?；诖思す馐芄饬康臏p少，可以檢測出被檢測物體(NG)。
文檔編號B05C11/02GK1757440SQ20051010683
公開日2006年4月12日 申請日期2005年9月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月4日
發(fā)明者高木善則 申請人:大日本網(wǎng)目版制造株式會社