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復(fù)合材料及其制備方法、薄膜、光電器件及其制備方法及顯示裝置與流程

文檔序號(hào):40393349發(fā)布日期:2024-12-20 12:16閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種復(fù)合材料,其特征在于,包括空穴功能材料和添加劑,所述添加劑包括具有式(1)所示結(jié)構(gòu)的化合物;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料,其特征在于,a包括環(huán)碳原子數(shù)為6~20的芳環(huán)和環(huán)原子數(shù)為6~20的雜芳環(huán)中的一種或者多種;和/或,

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合材料,其特征在于,a選自式(2)至(8)任一所示結(jié)構(gòu)的基團(tuán)中的一種或多種:

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述添加劑包括具有所述式(9)至所述(15)任一項(xiàng)所示結(jié)構(gòu)的化合物中的一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述的復(fù)合材料,其特征在于,x每次出現(xiàn)時(shí)各自獨(dú)立的選自所述鹵素基團(tuán)或所述羥基,且所述鹵素基團(tuán)選自-f;和/或,

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述添加劑包括具有所述式(10)至所述(14)任一項(xiàng)所示結(jié)構(gòu)的化合物中的一種或多種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料,其特征在于,所述空穴功能材料包括空穴傳輸材料或空穴注入材料,所述空穴傳輸材料選自聚[(9,9'-二辛基芴-2,7-二基)-共-(4,4'-(n-(4-仲丁基苯基)二苯胺))]、聚(4-丁基苯基-二苯基胺)、聚(三芳胺)、聚吡咯、聚[n,n′-雙(4-丁苯基)-n,n′-雙(苯基)-聯(lián)苯胺]、聚(對(duì))亞苯基亞乙烯基、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-亞苯基亞乙烯基]和聚[2-甲氧基-5-(3',7'-二甲基辛氧基)-1,4-亞苯基亞乙烯基]、pedot:pss及其衍生物、聚(n-乙烯基咔唑)及其衍生物、聚三己基噻吩及其衍生物、聚甲基丙烯酸酯及其衍生物、聚(9,9-辛基芴)及其衍生物、聚(螺芴)及其衍生物中的至少一種;所述空穴注入材料選自pedot、pedot:pss、酚菁銅中的至少一種。

8.一種復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述復(fù)合材料中,所述添加劑的質(zhì)量百分含量為5~25%;和/或,

10.一種薄膜,其特征在于,所述薄膜的材料包括權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的復(fù)合材料,或者,包括權(quán)利要求8或9所述的制備方法制得的復(fù)合材料。

11.一種光電器件,其特征在于,包括第一電極、空穴功能層和第二電極,所述空穴功能層包括空穴注入層和空穴傳輸層中的一層或兩層,且所述空穴功能層中的至少一層的材料包括如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的復(fù)合材料,或者,權(quán)利要求8或9所述的制備方法制得的復(fù)合材料;或者,所述空穴功能層中的至少一層包括權(quán)利要求10所述的薄膜。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光電器件,其特征在于,所述復(fù)合材料中的所述空穴功能材料選自pedot、pedot:pss、酚菁銅中的至少一種時(shí),所述復(fù)合材料為第一復(fù)合材料;所述復(fù)合材料中的所述空穴功能材料選自聚[(9,9'-二辛基芴-2,7-二基)-共-(4,4'-(n-(4-仲丁基苯基)二苯胺))]、聚(4-丁基苯基-二苯基胺)、聚(三芳胺)、聚吡咯、聚[n,n′-雙(4-丁苯基)-n,n′-雙(苯基)-聯(lián)苯胺]、聚(對(duì))亞苯基亞乙烯基、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-亞苯基亞乙烯基]和聚[2-甲氧基-5-(3',7'-二甲基辛氧基)-1,4-亞苯基亞乙烯基]、pedot:pss及其衍生物、聚(n-乙烯基咔唑)及其衍生物、聚三己基噻吩及其衍生物、聚甲基丙烯酸酯及其衍生物、聚(9,9-辛基芴)及其衍生物、聚(螺芴)及其衍生物中的至少一種時(shí),所述復(fù)合材料為第二復(fù)合材料;

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光電器件,其特征在于,所述第一電極和所述第二電極各自獨(dú)立的選自摻雜金屬氧化物顆粒電極、金屬與金屬氧化物的復(fù)合電極、石墨烯電極、碳納米管電極、金屬電極或合金電極,所述摻雜金屬氧化物顆粒電極的材料選自銦摻雜氧化錫、氟摻雜氧化錫、銻摻雜氧化錫、鋁摻雜氧化鋅、鎵摻雜氧化鋅、銦摻雜氧化鋅、鎂摻雜氧化鋅及鋁摻雜氧化鎂中的一種或多種,所述金屬與金屬氧化物的復(fù)合電極選自azo/ag/azo、azo/al/azo、ito/ag/ito、ito/al/ito、zno/ag/zno、zno/al/zno、tio2/ag/tio2、tio2/al/tio2、zns/ag/zns、zns/al/zns,所述金屬電極的材料選自ag、al、cu、mo、au、pt、si、ca、mg及ba中的一種或多種;和/或,

14.一種光電器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制備方法,其特征在于,將復(fù)合材料設(shè)置在所述第一電極的一側(cè),形成空穴功能層的步驟包括:

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制備方法,其特征在于,所述復(fù)合材料溶液中,所述空穴功能材料的濃度為2~15mg/ml。

17.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求11至13任一項(xiàng)所述的光電器件,或者,權(quán)利要求14至16任一項(xiàng)所述的制備方法制得的光電器件。


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開(kāi)了一種復(fù)合材料及其制備方法、薄膜、光電器件及其制備方法及顯示裝置,復(fù)合材料,包括空穴功能材料和添加劑,所述添加劑包括具有式(1)所示結(jié)構(gòu)的化合物,所述添加劑的X基團(tuán)與所述空穴功能材料之間通過(guò)非共價(jià)鍵連接;其中,A包括芳環(huán)和雜芳環(huán)中的一種或者多種;A上具有可取代位點(diǎn)的環(huán)碳原子的數(shù)量為p,n為大于等于1且小于等于p的整數(shù),m為大于等于0且小于等于p的整數(shù),且n和m之和小于等于p;X每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立的選自鹵素基團(tuán)、羥基和氨基中的一種或多種的組合;Y每次出現(xiàn)時(shí)獨(dú)立的選自C1~C6烷基以及C1~C6烷氧基中的一種或多種的組合。本申請(qǐng)旨在提升P型半導(dǎo)體傳輸性能的同時(shí)解決現(xiàn)有空穴功能材料穩(wěn)定性差的問(wèn)題。

技術(shù)研發(fā)人員:曹聰聰
受保護(hù)的技術(shù)使用者:TCL科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/19
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