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一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜的制作方法

文檔序號:12882516閱讀:187來源:國知局

本發(fā)明涉及模內(nèi)裝飾技術(shù),特別涉及一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜。



背景技術(shù):

模內(nèi)裝飾是目前國際風行的表面裝飾技術(shù),其一般是預先形成具有裝飾圖案的薄膜,然后對該形成有裝飾圖案的薄膜進行熱壓成型以形成預定的形狀,將該薄膜進行裁切后再置于射出成型模具的模穴內(nèi),最后將熔融材料注入模穴內(nèi),薄膜與熔融材料相結(jié)合并形成具有裝飾圖案的產(chǎn)品。采用模內(nèi)裝飾所制得的產(chǎn)品,其外觀較射出成型后再采用涂裝而形成圖案的產(chǎn)品具有更強的實體感,并且,圖案不存在褪色、脫落等不良現(xiàn)象,其廣泛用于制造各類產(chǎn)品的外殼。

例如目前申請?zhí)枮?00510133834.0的中國專利公開了一種防眩性硬涂薄膜及其制造方法,該膜是在透明薄膜基材的至少一個面具有含有微粒的硬涂層的防眩性硬涂薄膜,具有高硬度、耐擦傷性和防眩性,它適用于平板顯示領(lǐng)域,但其涂層柔韌性不好,不能滿足于模內(nèi)裝飾技術(shù)拉伸成型性能要求。

以下提出一種技術(shù)方案解決上述問題。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜,在具有一定的硬度的基礎(chǔ)上,降低了收縮率,提高了柔韌性。

為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案:一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜,主要在基底薄膜上涂覆防眩硬涂層,所述防眩硬涂層包括以下組分及其重量份數(shù):高官能度樹脂20~30份;低官能度樹脂15~20份;光引發(fā)劑3~5份;流平劑0.5~2份;低官能度活性稀釋劑4~15份;溶劑15~40份。

通過上述技術(shù)方案,模內(nèi)裝飾用硬化膜的關(guān)鍵技術(shù)是如何平衡硬度與成型拉伸性之間的矛盾,本發(fā)明通過具有高官能度的預聚物能提供較高的硬度,而具有低官能度的預聚物適當降低交聯(lián)密度,以滿足成型拉伸性,降低收縮率和提高柔韌性;而加入低官能度活性稀釋劑并控制其含量在4-15份內(nèi),活性稀釋劑是一種功能性的單體,其主要作用是調(diào)節(jié)高、低官能度預聚物在通過紫外線固化時的粘度,達到更佳的固化效果,而且活性稀釋劑還參與了紫外光固化,成為涂層的成膜組成,改善涂層的相關(guān)性能,例如使用低官能度活性稀釋劑后薄膜的收縮變形明顯減少;而加入的低官能度活性稀釋劑后雖然會造成薄膜的硬度有所降低,但是在高官能度樹脂相對添加量在20~30份范圍內(nèi)時,依舊能夠保證薄膜具有較高的硬度;此外在固化過程中,部分低官能度活性稀釋劑分別會與高、低官能度的預聚物發(fā)生交聯(lián)反應,高官能度預聚物與低官能度活性稀釋劑交聯(lián)后反應具有一定的柔韌性,而低官能度預聚物與低官能度活性稀釋劑交聯(lián)后反應后使得柔韌性進一步提高,達到提升成型拉伸性的效果。

本發(fā)明進一步的,以重量份數(shù)比計,所述高官能度樹脂:低官能度活性稀釋劑為5:1。

通過上述技術(shù)方案,在該比例下,高官能度樹脂:低官能度活性稀釋劑的接枝反應后,薄膜在具有一定的硬度性能下,其柔韌性達到最佳。

本發(fā)明進一步的,所述防眩硬涂層包括以下組分及其重量份數(shù):高官能度樹脂25份;低官能度樹脂30份;光引發(fā)劑4份;流平劑1.5份;低官能度活性稀釋劑5份;溶劑25份。

通過上述技術(shù)方案,采用高官能度樹脂25份和低官能度活性稀釋劑5份的配比,其比例符合5:1,因而實驗得到的薄膜具有一定的硬度且其柔韌性較佳。

本發(fā)明進一步的,所述防眩硬涂層還包括以下組分及其重量份數(shù):防靜電pps粒子0.2~0.5份。

通過上述技術(shù)方案,在薄膜中添加防靜電的pps粒子,其能夠作為防靜電保護層,防止靜電帶來的影響。

本發(fā)明進一步的,所述防眩硬涂層的厚度為2~8μm。

通過上述技術(shù)方案,過小防眩硬涂層的厚度難以提高涂層硬度和耐磨性能,容易出現(xiàn)涂層開裂、涂層脫落等現(xiàn)象,本發(fā)明的防眩硬化層厚度控制在5~8μm范圍內(nèi),容易形成2h以上高硬度涂膜,而防眩硬涂層過厚例如超過8μm以上,防眩硬涂層的柔韌性不佳,成型加工時容易出現(xiàn)脆裂問題。

本發(fā)明進一步的,所述流平劑為有機硅氧烷或有機硅改性的丙烯酸流平劑。

通過上述技術(shù)方案,流平劑能夠使得高官能度預聚物獲得充分的流動性,便于向四周快速擴散,如此,有利于其與活性稀釋劑接觸,繼而達到充分反應以及提高了反應速度。

本發(fā)明進一步的,所述低官能度活性稀釋劑為苯氧基乙基丙烯酸酯、異冰片基丙烯酸酯中的一種或兩種。

通過上述技術(shù)方案,苯氧基乙基丙烯酸酯的稀釋性強,反應性高,收縮率低,柔韌性好,而異冰片基丙烯酸酯毒性低,不容易燃燒,同時固化時收縮率低、粘附力好以及良好的柔韌性和耐水性。

綜上所述,本發(fā)明主要通過高官能度預聚物和低官能度預聚物的結(jié)合實現(xiàn)了在具有一定的硬度條件下,仍具有較高的柔韌性,此外通過加入的低官能度活性稀釋劑進行接枝,高官能度預聚物與低官能度活性稀釋劑交聯(lián)后反應具有一定的柔韌性,而低官能度預聚物與低官能度活性稀釋劑交聯(lián)后反應后使得柔韌性進一步提高。

具體實施方式

下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明進行具體說明,但本發(fā)明并不限于此。

對比例,采用申請?zhí)枮?00510133834.0的中國專利公開了一種防眩性硬涂薄膜及其制造方法進行實施。

實施例1-4,一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜,主要在基底薄膜上涂覆防眩硬涂層,防眩硬涂層包括有以下組分及其重量份數(shù),高官能度樹脂20~30份;高官能度樹脂采用dh-608(采購自深圳鼎好光化科技有限公司)和ux-5000(采購自化藥化工無錫有限公司制造),低官能度樹脂15~20份;低官能度樹脂采用mpdda(采購自杭州單維科技有公司)和peg(400)da(采購自杭州單維科技有公司),低官能度活性稀釋劑4~15份,采用苯氧基乙基丙烯酸酯或者異冰片基丙烯酸酯;光引發(fā)劑3~5份,采用184(采購自天津天驕化工有限公司制造);流平劑0.5~2份,包括有機硅氧烷改性丙烯酸和有機硅改性丙烯酸;溶劑15~40份,采用丁酮、乙基溶纖劑或者異丙醇,防靜電pps粒子0.2~0.5份(采購自東莞市祿鑫塑膠原料有限公司),實施例1-4具體見表1,將制得的涂布物料施加至作為底材薄膜,厚度為125微米光學級的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一個面上,在70℃對形成的涂層干燥2min之后,以250mj/cm2的光量,通過紫外線照射對干燥的涂層進行固化形成防眩硬涂層,防眩硬涂層的厚度為4.0微米。所獲得的防眩光膜的評估列于表2中。

表格1防眩硬涂層的組成組分及其重量份數(shù)

實施例5,與實施例4的不同之處在于,將制得的涂布物料施加至作為底材薄膜,厚度為125微米光學級的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一個面上,在70℃對形成的涂層干燥2min之后,以250mj/cm2的光量,通過紫外線照射對干燥的涂層進行固化形成防眩硬涂層,防眩硬涂層的厚度為2.0微米。

實施例6,與實施例4的不同之處在于,將制得的涂布物料施加至作為底材薄膜,厚度為125微米光學級的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一個面上,在70℃對形成的涂層干燥2min之后,以250mj/cm2的光量,通過紫外線照射對干燥的涂層進行固化形成防眩硬涂層,防眩硬涂層的厚度為8.0微米。

實施例7,與實施例4的不同之處在于,將制得的涂布物料施加至作為底材薄膜,厚度為125微米光學級的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一個面上,在70℃對形成的涂層干燥2min之后,以250mj/cm2的光量,通過紫外線照射對干燥的涂層進行固化形成防眩硬涂層,防眩硬涂層的厚度為1.0微米。

實施例8,與實施例4的不同之處在于,將制得的涂布物料施加至作為底材薄膜,厚度為125微米光學級的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜的一個面上,在70℃對形成的涂層干燥2min之后,以250mj/cm2的光量,通過紫外線照射對干燥的涂層進行固化形成防眩硬涂層,防眩硬涂層的厚度為12.0微米。

表2:性能數(shù)據(jù)表,表中(1)鉛筆硬度測試,根據(jù)標準gb/t6739-1996的方法,利用通過鉛筆刮擦的涂膜硬度測試儀測量鉛筆硬度,(2)防靜電性能測試,對塑料薄膜表面電阻率的測試,要依據(jù)gb/1410-89《固體絕緣材料體積電阻率和表面電阻率試驗方法》,在規(guī)定的環(huán)境溫度、相對濕度條件下進行。(3)耐卷曲性測試方法,將樣片裁成:長10cm×寬2cm形狀的長條,以防眩光膜向外,于直徑分別為2.0mm的鋼棒上纏繞,后依次展開,觀察硬化表面的細裂紋情況。(4)拉伸成形性測試方法,將不同防眩光膜樣片按照7-8mm高度和90°角進行成型拉伸,觀察拉伸后不同彎曲面下硬化面是否有裂紋、開裂及涂層脫落弊病。

表格2一種模內(nèi)裝飾用防眩硬化膜的性能表征

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,本發(fā)明的保護范圍并不僅局限于上述實施例,凡屬于本發(fā)明思路下的技術(shù)方案均屬于本發(fā)明的保護范圍。應當指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本發(fā)明原理前提下的若干改進和潤飾,這些改進和潤飾也應視為本發(fā)明的保護范圍。

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