技術總結(jié)
本發(fā)明公開了一種耐低溫鐳射鍍鋁膜，包括：膜基體層和鍍鋁層，所述的膜基體層由以下組分制成：5?取代丙二酸亞異丙酯、2?氰基?3,3?二苯基丙烯酸2?乙基己酯、聚碳酸1,2?丙二酯、甲基丙烯酸十二醇酯、聚對苯二甲酸乙二酯和甲基丙烯酸甲酯?丁二烯?苯乙烯塑料，其各組分的重量含量為：5?取代丙二酸亞異丙酯28~45份、2?氰基?3,3?二苯基丙烯酸2?乙基己酯16~33份、聚碳酸1,2?丙二酯12~24份、甲基丙烯酸十二醇酯30~49份、聚對苯二甲酸乙二酯25~40份和甲基丙烯酸甲酯?丁二烯?苯乙烯塑料46~60份。通過上述方式，本發(fā)明耐低溫性能佳，能夠長期在低溫環(huán)境中使用。

技術研發(fā)人員：李建萍
受保護的技術使用者：無錫三帝特種高分子材料有限公司
文檔號碼：201610895338
技術研發(fā)日：2016.10.14
技術公布日：2017.03.15