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一種耐低溫鐳射鍍鋁膜的制作方法

文檔序號(hào):12104422閱讀:838來源:國知局

本發(fā)明涉及鐳射鍍鋁膜領(lǐng)域,特別是涉及一種耐低溫鐳射鍍鋁膜。



背景技術(shù):

鐳射鍍鋁膜用于高檔印刷品的紙塑復(fù)合,再加以印刷可成為高檔一體化鐳射彩印紙盒包裝(煙盒、日化、食品、禮品盒等),在光線照射下可見強(qiáng)烈的高亮七彩光圖案效果,提升印刷品檔次。鍍鋁鐳射膜按用途可分為包裝膜、轉(zhuǎn)移膜、燙印膜、彩色膜、鏤空膜等。

然而,目前使用的鐳射鍍鋁膜的耐低溫性能差,不能夠長期在低溫環(huán)境中使用。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問題是提供一種耐低溫鐳射鍍鋁膜,耐低溫性能佳,能夠長期在低溫環(huán)境中使用。

為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的一個(gè)技術(shù)方案是:提供一種耐低溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:5-取代丙二酸亞異丙酯、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯、聚碳酸1,2-丙二酯、甲基丙烯酸十二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料,其各組分的重量含量為:5-取代丙二酸亞異丙酯28~45份、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯16~33份、聚碳酸1,2-丙二酯12~24份、甲基丙烯酸十二醇酯30~49份、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯25~40份和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料46~60份。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述的5-取代丙二酸亞異丙酯的重量含量為30~44份。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述的2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯的重量含量為18~32份。

在本發(fā)明一個(gè)較佳實(shí)施例中,所述的甲基丙烯酸十二醇酯的重量含量為33~47份。

本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明耐低溫性能佳,能夠長期在低溫環(huán)境中使用。

具體實(shí)施方式

下面將對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅是本發(fā)明的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

實(shí)施例1

一種耐低溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:5-取代丙二酸亞異丙酯、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯、聚碳酸1,2-丙二酯、甲基丙烯酸十二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料,其各組分的重量含量為:5-取代丙二酸亞異丙酯30~44份、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯25份、聚碳酸1,2-丙二酯18份、甲基丙烯酸十二醇酯40份、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯33份和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料53份。

實(shí)施例2

一種耐低溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:5-取代丙二酸亞異丙酯、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯、聚碳酸1,2-丙二酯、甲基丙烯酸十二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料,其各組分的重量含量為:5-取代丙二酸亞異丙酯44份、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯32份、聚碳酸1,2-丙二酯24份、甲基丙烯酸十二醇酯47份、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯40份和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料60份。

實(shí)施例3

一種耐低溫鐳射鍍鋁膜,包括:膜基體層和鍍鋁層,所述的膜基體層由以下組分制成:5-取代丙二酸亞異丙酯、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯、聚碳酸1,2-丙二酯、甲基丙烯酸十二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料,其各組分的重量含量為:5-取代丙二酸亞異丙酯30份、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸2-乙基己酯18份、聚碳酸1,2-丙二酯12份、甲基丙烯酸十二醇酯33份、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯25份和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯-苯乙烯塑料46份。

本發(fā)明耐低溫鐳射鍍鋁膜的有益效果是:本發(fā)明耐低溫性能佳,能夠長期在低溫環(huán)境中使用。

以上所述僅為本發(fā)明的實(shí)施例,并非因此限制本發(fā)明的專利范圍,凡是利用本發(fā)明說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。

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