技術(shù)特征：

1.一種式Ⅰ所示替格瑞洛晶型，使用Cu-Kα輻射，其特征在于，所述晶型以2θ±0.2°衍射角表示的X-射線粉末衍射譜圖譜在5.17±0.2°、7.22±0.2°、10.28±0.2°、11.98±0.2°、15.35±0.2°、17.28±0.2°、18.21±0.2°、21.41±0.2°22.49±0.2°、24.99±0.2°、26.08±0.2°、27.82±0.2°、28.95±0.2°、29.99±0.2°、31±0.2°處有特征峰。

2.如權(quán)利要求1所述替格瑞洛晶型，其特征在于，替格瑞洛晶型具有如圖1所示的X-射線粉末衍射譜圖。

3.如權(quán)利要求1所述替格瑞洛晶型，其制備方法包括如下步驟：

將替格瑞洛粗品加入到乙酸乙酯和異丙醚的混合溶劑中，升溫至65℃，溶清后加入活性炭攪拌，熱抽濾除去活性炭，所得濾液采用分段降溫的方式攪拌析晶，溫度逐步降至10℃，攪拌析晶完全；過濾，得替格瑞洛晶型；

所述的分段降溫的方式攪拌析晶過程是：

1)45℃保溫攪拌20分鐘；

2)降溫至35℃保溫攪拌40分鐘；

3)降溫至25℃保溫攪拌30分鐘；

4)最后降溫至10℃繼續(xù)保溫攪拌2小時。

4.如權(quán)利要求3所述替格瑞洛晶型的制備方法，其特征在于，所述的替格瑞洛粗品與乙酸乙酯和異丙醚混合溶劑的質(zhì)量體積比為1:3～5g/ml，所述乙酸乙酯和異丙醚的體積比為5～2:1。