技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種含氧金屬陰離子印跡聚合物的制備方法：將氮雜環(huán)類功能單體和含氧金屬陰離子溶解，得到單體?印跡離子混合溶液；將交聯(lián)劑和引發(fā)劑溶解，得到添加劑混合溶液；在惰性氣氛下，將所述單體?印跡離子混合溶液和添加劑混合溶液進(jìn)行沉淀反應(yīng)，得到包含含氧金屬陰離子的印跡聚合物；脫去所述包含含氧金屬陰離子的印跡聚合物中的含氧金屬陰離子，得到含氧金屬陰離子印跡聚合物。本發(fā)明提供的含氧金屬陰離子印跡聚合物具有多孔的骨架結(jié)構(gòu)、比表面積為434.04m2/g；此外，選擇性和循環(huán)穩(wěn)定性能均有所提升，進(jìn)一步的提高了含氧金屬陰離子印跡聚合物的吸附性能，最高吸附量可達(dá)55mg/g。

技術(shù)研發(fā)人員：羅旭彪;鐘衛(wèi)萍;方俐俐;康仁飛;羅勝聯(lián);肖瀟;代威力;涂新滿
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南昌航空大學(xué)
文檔號碼：201610648720
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.10
技術(shù)公布日：2017.01.04