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在平面制品上標(biāo)記參照物的方法及相關(guān)系統(tǒng)與流程

文檔序號(hào):12480951閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種在平面制品(3)上標(biāo)記參照物(5)的方法,包括步驟:

a)在測(cè)定平面(1)上預(yù)設(shè)帶至少一個(gè)通孔(20)的模型(2),所述模型(2)與待標(biāo)記的平面制品(3)具有相同的外圍輪廓;

其特征在于,進(jìn)一步包括步驟:

b)測(cè)定相對(duì)于參照物系統(tǒng)的所述模型(2)的外圍輪廓(P)并將所述外圍輪廓(P)存入加工設(shè)備的存儲(chǔ)器;

c)測(cè)定所述通孔(20)的輪廓(A)和相對(duì)于參照物系統(tǒng)的相對(duì)定位;

d)預(yù)處理標(biāo)記平面(4)上的平面制品(3);

e)測(cè)定待標(biāo)記的平面制品(3)的外圍輪廓(B);

f)復(fù)制測(cè)定的模型(2)外圍輪廓(P)至所述標(biāo)記平面(4)上,通過(guò)這種方法將其疊加在所述待標(biāo)記的平面制品(3)的外圍輪廓(B)上;

g)考慮相對(duì)于標(biāo)稱(chēng)參照物系統(tǒng)的相對(duì)定位和相對(duì)于所述平面制品(3)外圍輪廓(B)的所述模型(2)外圍輪廓(P)的定位,同樣復(fù)制所述模型(2)的通孔(20)輪廓(A)至所述標(biāo)記平面(4);

h)在已復(fù)制的所述通孔(20)輪廓(A)處的平面制品(3)上無(wú)接觸地標(biāo)記至少一個(gè)參照物(5)。

2.根據(jù)上述權(quán)利要求所述的方法,其特征在于:

步驟b)包括子步驟:測(cè)定定義所述第一笛卡爾平面上所述模型(2)外圍輪廓(P)的點(diǎn)的笛卡爾坐標(biāo);

步驟c)包括子步驟:測(cè)定定義所述第一笛卡爾平面上所述通孔(20)輪廓(A)的點(diǎn)的笛卡爾坐標(biāo);

步驟e)包括子步驟:測(cè)定定義所述第二笛卡爾平面上所述平面制品(3)外圍輪廓(B)的點(diǎn)的笛卡爾坐標(biāo);

步驟f)包括子步驟:將第一笛卡爾平面上測(cè)定的所述模型(2)的外圍輪廓(P)平移并旋轉(zhuǎn)入第二笛卡爾平面上,通過(guò)這種方法將其疊加在平面制品(3)的外圍輪廓(B)上;

-步驟g)包括子步驟:平移并旋轉(zhuǎn)所述平面制品(3)第一外圍輪廓(B)處測(cè)定的開(kāi)口輪廓。

3.根據(jù)上述權(quán)利要求任一項(xiàng)所述的方法,進(jìn)一步包括步驟:測(cè)定所述標(biāo)記平面(4)上所述模型(2)和待標(biāo)記的平面制品(3)的重心位置。

4.一種在平面制品(3)上標(biāo)記參照物(5)的標(biāo)記方法,其特征在于,包括步驟:

i)將設(shè)有通孔(20)的模型(2)的外圍輪廓(P)和所述通孔(20)的輪廓(A)存入電腦存儲(chǔ)器;所述模型(2)具有與待標(biāo)記的平面制品(3)一樣的外圍輪廓(P);

j)預(yù)處理標(biāo)記平面(4)上的平面制品(3);

k)測(cè)定待標(biāo)記的平面制品(3)的外圍輪廓(B);

l)復(fù)制測(cè)定的模型(2)外圍輪廓(P)至所述標(biāo)記平面(4)上,通過(guò)這種方法將所述外圍輪廓(P)疊加在所述待標(biāo)記的平面制品(3)的外圍輪廓(B)上;

m)考慮相對(duì)于標(biāo)稱(chēng)參照物系統(tǒng)的相對(duì)定位和相對(duì)于所述平面制品(3)外圍輪廓(B)的所述模型(2)外圍輪廓(P)的定位,同樣復(fù)制已存入存儲(chǔ)器的所述模型(2)的通孔(20)輪廓(A)至所述標(biāo)記平面(4);

n)在已復(fù)制的所述通孔(20)輪廓(A)處的平面制品(3)上無(wú)接觸地標(biāo)記至少一個(gè)參照物(5)。

5.一種根據(jù)上述權(quán)利要求任意一項(xiàng)實(shí)施所述方法的系統(tǒng)(6),包括:

用于靜止?fàn)顟B(tài)下接收設(shè)有至少一個(gè)通孔(20)的模型(2)的測(cè)定平面(1);

其特征在于,包括:

用于測(cè)定所述通孔(20)輪廓(A)的所述模型(2)外圍輪廓(P)的第一數(shù)碼圖像上載系統(tǒng);

用于靜止?fàn)顟B(tài)下接收至少一個(gè)待標(biāo)記的平面制品(3)的標(biāo)記平面(4);

用于測(cè)定待標(biāo)記的平面制品(3)外圍輪廓(B)的第二數(shù)碼圖像上載系統(tǒng);

包括存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)所述模型(2)外圍輪廓(P)和所述測(cè)定平面上測(cè)定的通孔(20)輪廓(A)、用于復(fù)制所述模型(2)外圍輪廓(P)和所述相對(duì)通孔(20)輪廓至標(biāo)記平面(4),以這種方式將所述模型(2)外圍輪廓(P)疊加到所述平面制品(3)外圍輪廓(B)、并用于管理整個(gè)標(biāo)記操作的加工設(shè)備(10);在所述模型(2)開(kāi)口輪廓處的所述平面制品(3)上標(biāo)記至少一個(gè)參照物(5)的無(wú)接觸標(biāo)記工具。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述無(wú)接觸標(biāo)記工具包括噴墨打印系統(tǒng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述無(wú)接觸標(biāo)記工具包括激光打印系統(tǒng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng),其特征在于,所述無(wú)接觸標(biāo)記工具包括控制噴射標(biāo)記系統(tǒng)。

9.根據(jù)上述權(quán)利要求5-8中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng),進(jìn)一步包括經(jīng)預(yù)處理、用于照亮所述測(cè)定平面的第一照明工具和經(jīng)預(yù)處理、用于照亮所述標(biāo)記平面(4)的第二照明工具,從而便于所述平面制品(3)的彩色識(shí)別。

10.根據(jù)上述權(quán)利要求5-9中任一項(xiàng)所述的系統(tǒng),其特征在于,所述測(cè)定平面(1)和所述標(biāo)記平面(4)設(shè)于兩種彼此遠(yuǎn)離的不同環(huán)境中。

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