專利名稱：放射線敏感性樹脂組合物、聚合物及化合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物、聚合物及化合物。
背景技術：
化學增幅型的放射線敏感性樹脂組合物通過以KrF準分子激光、ArF準分子激光為代表的遠紫外線、電子束的照射在曝光部生成酸，通過將該酸作為催化劑的化學反應而使曝光部和未曝光部對于顯影液的溶解速度產生差異，在基板上形成抗蝕劑圖案。
作為將能夠以更短波長進行微細加工的ArF準分子激光作為光源的光刻材料，例如可以使用含有在骨架中具有在193nm區(qū)域沒有大吸收的脂環(huán)式烴的聚合物的組合物。作為上述聚合物，提出了含有來自具有螺內酯結構的單體的結構單元的聚合物(參照日本特開2002-82441號公報、日本特開2002-308937號公報)。放射線敏感性樹脂組合物通過含有這種利用具有螺內酯結構的單體而得到的聚合物，能夠提高顯影對比度。
其中，抗蝕劑圖案的進一步微細化不斷發(fā)展的現(xiàn)今，對抗蝕劑被膜所要求的性能水平進一步提高，要求更優(yōu)異的分辨性能(例如，靈敏度高、能夠得到良好的圖案形狀)，以往的放射線敏感性樹脂組合物有改善的余地。
專利文獻1:日本特開2002-82441號公報
專利文獻2:日本特開2002-308937號公報發(fā)明內容
本發(fā)明是基于上述情況而進行的，目的在于提供分辨性能優(yōu)異的放射線敏感性樹脂組合物、適合作為該放射線敏感性樹脂組合物的樹脂成分的聚合物以及能夠形成該聚合物的化合物。
為了解決上述課題而進行的發(fā)明是一種放射線敏感性樹脂組合物，其中，含有:
[A]具有來自下述式(1)表示的化合物的結構單元(I)和來自下述式(2)表示的化合物的結構單元(II)的聚合物(以下也稱為“[A]聚合物”)，
[B]產酸劑，和
[C]有機溶劑。
權利要求
1.一種放射線敏感性樹脂組合物，其特征在于，含有:[A]具有結構單元I和結構單元II的聚合物,所述結構單元I來自下述式(I)表示的化合物，所述結構單元II來自下述式(2)表示的化合物，[B]產酸劑，和[C]有機溶劑，
2.根據(jù)權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，所述式(I)中的R1和R2中的至少I個基團具有氧原子。
3.根據(jù)權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，所述式(I)中的R1為在骨架鏈中含有選自-CO-、-coo-, -0C0-, -O-、-NR-, -S-、-SO-和-SO2-中的至少 I 種的(a+2) 價的鏈狀烴基，其中，R為氫原子或碳原子數(shù)I 20的有機基團。
4.根據(jù)權利要求1所述的放射線敏感性樹脂組合物，其中，所述式(I)中的a為O或I。
5.根據(jù)權利要求1所述的 放射線敏感性樹脂組合物,其中,所述式(2)表示的化合物由下述式(2a)或式(2b)表示，
6.一種聚合物，其特征在于，具有結構單元I和結構單元II，所述結構單元I來自下述式(I)表示的化合物，所述結構單元II來自下述式(2)表示的化合物；
7.根據(jù)權利要求6所述的聚合物，其中，所述式(I)中的R1為在骨架鏈中含有選自-C O-、-coo-、-0C0-、-O-、-NR-、-S-、-so-和-SO2-中的至少 I 種的(a+2 )價的鏈狀烴基，其中，R 為氫原子或碳原子數(shù)I 20的有機基團。
8.一種化合物，其特征在于，由下述式(I)表示，
9.根據(jù)權利要求7所述的化合物，其中，所述式(I)中的R1為在骨架鏈中含有選自-C O-、-COO-、-0C0-、-O-、-NR-、-S-、-SO-和-SO2-中 的 至少 I 種的(a+2 )價的鏈狀烴基，其中，R 為氫原子或碳原子數(shù)I 20的有機基團。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種放射線敏感性樹脂組合物，其含有［A］具有來自下述式(1)表示的化合物的結構單元(I)和來自下述式(2)表示的化合物的結構單元(II)的聚合物、［B］產酸體和［C］有機溶劑。式(1)中，R1與構成內酯環(huán)的碳原子一起形成碳原子數(shù)3～8的環(huán)結構。R2為氟原子、羥基或碳原子數(shù)1～20的有機基團。a為0～6的整數(shù)。a為2以上時，多個R2可以相同或不同，也可以互相結合而形成環(huán)結構。其中，R1和R2中的至少1個基團具有雜原子或鹵素原子。
文檔編號C08L33/04GK103140551SQ20118004738
公開日2013年6月5日 申請日期2011年9月28日 優(yōu)先權日2010年9月30日
發(fā)明者池田憲彥, 中村真一 申請人:Jsr株式會社