技術編號：3620940
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物、聚合物及化合物。背景技術化學增幅型的放射線敏感性樹脂組合物通過以KrF準分子激光、ArF準分子激光為代表的遠紫外線、電子束的照射在曝光部生成酸，通過將該酸作為催化劑的化學反應而使曝光部和未曝光部對于顯影液的溶解速度產(chǎn)生差異，在基板上形成抗蝕劑圖案。作為將能夠以更短波長進行微細加工的ArF準分子激光作為光源的光刻材料，例如可以使用含有在骨架中具有在193nm區(qū)域沒有大吸收的脂環(huán)式烴的聚合物的組合物。作為上述聚合物，提出了含有...
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