專利名稱：：抗蝕化合物和輻射敏感組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及適用作酸放大的非聚合物型抗蝕材料的具有特殊化學(xué)結(jié)構(gòu)的抗蝕化合物。本發(fā)明還涉及包含該化合物和產(chǎn)酸劑的輻射敏感組合物。本發(fā)明抗蝕化合物在生產(chǎn)對(duì)例如紫外線、遠(yuǎn)紫外線、極遠(yuǎn)紫外線(EUV)、電子束和X-射線等輻射敏感的電子元件如LSI和VLSI中用于形成掩模等的輻射敏感材料等。
背景技術(shù)：
：傳統(tǒng)已知的抗蝕材料通常是能形成無(wú)定形薄膜的聚合物材料。例如，在基材上涂布聚羥基苯乙烯衍生物在溶劑中的溶液形成抗蝕薄膜，然后用紫外線、遠(yuǎn)紫外線、電子束、X-射線等輻照形成線寬約0.08μm的線狀圖案。已知的聚合物型抗蝕材料有高達(dá)約10000至100000的分子量和寬分子量分布，并且聚合物鏈相互纏結(jié)。因而，使用聚合物型抗蝕材料的精細(xì)平版印刷工藝中，圖案表面凹凸不平導(dǎo)致難以控制圖案尺寸，從而使成品收率下降而且晶體管特性變差。因此，使用已知聚合物型抗蝕材料的傳統(tǒng)平版印刷技術(shù)不能用于生產(chǎn)0.06μm或更小線寬的精細(xì)圖案。為產(chǎn)生更精細(xì)的圖案，已提出各種各樣具有低分子量和窄分子量分布的抗蝕材料。已知的非聚合物型抗蝕材料包括例如(1)由富勒烯衍生的正性或負(fù)性抗蝕劑，(2)由杯芳烴衍生的正性和負(fù)性抗蝕劑，(3)由星狀化合物衍生的正性抗蝕劑，(4)由樹枝狀聚合物衍生的正性抗蝕劑，(5)由樹枝狀聚合物/杯芳烴衍生的正性抗蝕劑，(6)由高度支化的星狀化合物衍生的正性抗蝕劑，和(7)由主要以均苯三酸結(jié)構(gòu)構(gòu)成的含酯鍵的星狀化合物衍生的正性抗蝕劑?？刮g材料(1)雖然抗蝕性良好，但涂布性和敏感度未達(dá)到實(shí)用水平(JP7-134413A、JP9-211862A、JP10-282649A、JP11-143074A和JP11-258796A)。抗蝕材料(2)的抗蝕性極好，但因在顯影液中的溶解性差而不能形成滿意的圖案(JP11-72916A、JP11-322656A和JP9-236919A)?？刮g材料(3)的耐熱性差，因而在曝光后的熱處理過程中趨于導(dǎo)致圖像失真(JP2000-305270A、JP2002-99088A和JP2002-99089A)。抗蝕材料(4)需要復(fù)雜的生產(chǎn)工藝而且因耐熱性差在曝光后的熱處理過程中發(fā)生圖像失真，因而不實(shí)用(“ProceedingsofSPIE”，vol.3999(2000)，pp.1202-1206)?？刮g材料(5)需要復(fù)雜的生產(chǎn)工藝而且原料價(jià)格高，因而不實(shí)用(JP2002-49152A和JP2003-183227A)?？刮g材料(6)需要復(fù)雜的生產(chǎn)工藝，原料價(jià)格高，而且使用不利于半導(dǎo)體生產(chǎn)的金屬催化劑，因而不實(shí)用?？刮g材料(7)的耐熱性差，在曝光后的熱處理過程中可能發(fā)生圖像失真，而且與基材的粘附性差，因而不實(shí)用(JP2002-328466A)。還公開了用低分子化合物作為光敏樹脂組合物的添加劑。已提出的組合物包括光敏樹脂組合物，包含有選自烴基和雜環(huán)基的疏水基團(tuán)或鍵合基團(tuán)、還有被光照時(shí)解離的保護(hù)基保護(hù)的親水基團(tuán)的光敏化合物(JP2002-363123A)；抗蝕劑組合物，包含除在酸作用下解離的基團(tuán)以外的部分有兩或多個(gè)三苯基甲烷結(jié)構(gòu)的低分子溶解抑制劑(JP2001-312055A)；包含有芴結(jié)構(gòu)的光敏化合物的抗蝕樹脂組合物(JP2004-137262A)。但包含后面描述的本發(fā)明化合物作為主要組分的組合物從未公開過。由于已知的抗蝕劑組合物含有樹脂，由其形成的抗蝕圖案線邊不平度大使該組合物不足以用于實(shí)際應(yīng)用。此外，包含已知抗蝕化合物作為主要組分的組合物存在以下問題至少之一因結(jié)晶度高導(dǎo)致成膜性差；耐熱性低不能經(jīng)受半導(dǎo)體工藝；該組合物難溶于半導(dǎo)體廠可接受的安全溶劑如丙二醇單乙醚乙酸酯和乳酸乙酯；和與基材的粘附性不足。因而，已知的抗蝕化合物不適合單獨(dú)使用。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的之一是提供對(duì)例如來(lái)自KrF的準(zhǔn)分子激光、極遠(yuǎn)紫外線(EUV)、電子束和X-射線等輻射敏感的化合物，和提供包含此化合物的輻射敏感組合物。本發(fā)明的另一目的是提供一種生產(chǎn)具有高敏感度、高分辨率、高耐熱性、高抗蝕性和良好的溶劑可溶性的非聚合物型輻射敏感組合物的簡(jiǎn)單方法。經(jīng)過廣泛的研究，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)具有特殊化學(xué)結(jié)構(gòu)的化合物和包含此化合物的組合物可實(shí)現(xiàn)上述目的。因此，本發(fā)明提供一種輻射敏感組合物，包含1-80重量％的固體組分和20-99重量％的溶劑，該組合物含有滿足以下要求a和b的化合物B(a)具有通過在由各自有5至45個(gè)碳原子的芳族酮或芳族醛與有6至15個(gè)碳原子和1至3個(gè)酚式羥基的化合物縮合反應(yīng)產(chǎn)生的多酚化合物A的至少一個(gè)酚式羥基中引入酸解離官能團(tuán)形成的結(jié)構(gòu)，和(b)具有300至3000的分子量；而且化合物B和增溶劑(solubilityimprover)的總量占固體組分總重的50-99.999重量％。本發(fā)明還涉及下式1所示化合物其中每個(gè)R1基獨(dú)立地為選自取代甲基、1-取代乙基、1-取代正丙基、1-支化烷基、甲硅烷基、?；?-取代烷氧基甲基、環(huán)醚基、和烷氧羰基的酸解離官能團(tuán)；每個(gè)R2基獨(dú)立地為選自鹵原子、烷基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、鏈烯基(alkyenyl)、?；⑼檠豸驶?、烷酰氧基、芳酰氧基、氰基、和硝基的基團(tuán)；R4為氫原子、C1-6烷基或芳基，R5為具有聯(lián)苯結(jié)構(gòu)或萘結(jié)構(gòu)的一價(jià)C10-18基團(tuán)，或者R4與R5彼此鍵合時(shí)-CR4R5-可為具有芴結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)或二苯酮結(jié)構(gòu)的二價(jià)C10-18基團(tuán)；m0和n0各自為0至3的整數(shù)，m1和n1各自為0至3的整數(shù)，m2和n2各自為0至4的整數(shù)，均滿足下式1≤m0+m1+m2≤5，1≤n0+n1+n2≤5，1≤m1+n1≤6，1≤m0+m1≤3，和1≤n0+n1≤3；和兩個(gè)苯環(huán)的位于-CR4R5-的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式2所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4和R5與前面相同；p0和q0各自為0至2的整數(shù)，p1和q1各自為0至2的整數(shù)，p2和q2各自為0至3的整數(shù)，均滿足1≤p0+p1+p2≤4，1≤q0+q1+q2≤4，1≤p1+q1≤4，1≤p0+p1≤2，和1≤q0+q1≤2；和X為氧原子或硫原子。最佳實(shí)施方式下面詳細(xì)描述本發(fā)明。本發(fā)明的輻射敏感組合物包含1-80重量％的固體組分和20-99重量％的溶劑。該輻射敏感組合物含有滿足以下要求a和b的化合物B(a)具有通過在由各自有5至45個(gè)碳原子的芳族酮或芳族醛與有6至15個(gè)碳原子和1至3個(gè)酚式羥基的化合物縮合反應(yīng)產(chǎn)生的多酚化合物A的至少一個(gè)酚式羥基中引入酸解離官能團(tuán)形成的結(jié)構(gòu)，和(b)具有300至3000的分子量?；衔顱和增溶劑的總量占固體組分總重的50-99.999重量％。化合物B(抗蝕化合物)優(yōu)選有共軛結(jié)構(gòu)，包含至少兩個(gè)苯環(huán)和/或雜原子的非鍵合電子對(duì)。有此共軛結(jié)構(gòu)，化合物B可改善成膜性、提高抗蝕性、減少受到輻射期間的出氣量、和通過其增感作用提高敏感度。增感作用可歸因于例如電子束等輻射的能量部分被共軛結(jié)構(gòu)吸收而且被吸收的能量有效地轉(zhuǎn)移給產(chǎn)酸劑。共軛結(jié)構(gòu)的例子包括聯(lián)苯結(jié)構(gòu)、萘結(jié)構(gòu)、芴結(jié)構(gòu)、蒽結(jié)構(gòu)、菲結(jié)構(gòu)、芘構(gòu)、苯并芘結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)、二苯酮結(jié)構(gòu)、呫噸結(jié)構(gòu)、噻噸結(jié)構(gòu)、黃酮結(jié)構(gòu)、異黃酮結(jié)構(gòu)、二氫化茚結(jié)構(gòu)、茚結(jié)構(gòu)、indacene結(jié)構(gòu)、phenalene結(jié)構(gòu)、亞聯(lián)苯基結(jié)構(gòu)、暈苯結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)、聯(lián)三萘結(jié)構(gòu)、己芬結(jié)構(gòu)、并六苯結(jié)構(gòu)、玉紅省結(jié)構(gòu)、熒蒽結(jié)構(gòu)、acephenanthrylene結(jié)構(gòu)、苝結(jié)構(gòu)、苉結(jié)構(gòu)、戊芬結(jié)構(gòu)、庚芬結(jié)構(gòu)、并七苯結(jié)構(gòu)、皮蒽結(jié)構(gòu)、phenacene結(jié)構(gòu)、并四苯結(jié)構(gòu)、并五苯結(jié)構(gòu)、醋蒽結(jié)構(gòu)、菲結(jié)構(gòu)、acephenanthrene結(jié)構(gòu)、薁結(jié)構(gòu)、苯并菲結(jié)構(gòu)、p-三聯(lián)苯結(jié)構(gòu)、m-三聯(lián)苯結(jié)構(gòu)、1，3，5-三苯基苯結(jié)構(gòu)、1，2，3-三苯基苯結(jié)構(gòu)、1，2，4-三苯基苯結(jié)構(gòu)、苯基萘結(jié)構(gòu)、苯基萘結(jié)構(gòu)、聯(lián)二萘結(jié)構(gòu)、和卵苯結(jié)構(gòu)，選自聯(lián)苯結(jié)構(gòu)、萘結(jié)構(gòu)、芴結(jié)構(gòu)、蒽結(jié)構(gòu)、芘結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)、二苯酮結(jié)構(gòu)、呫噸結(jié)構(gòu)、和噻噸結(jié)構(gòu)的至少一種結(jié)構(gòu)是特別優(yōu)選的，因?yàn)樗鼈兛捎贸杀据^低的起始化合物引入化合物B中。化合物B(抗蝕化合物)優(yōu)選為選自下式1所示化合物的至少一種化合物式1中，每個(gè)R1基獨(dú)立地為選自取代甲基、1-取代乙基、1-取代正丙基、1-支化烷基、甲硅烷基、?；?、1-取代烷氧基甲基、環(huán)醚基、和烷氧羰基的酸解離官能團(tuán)。取代甲基的例子包括甲氧基甲基、甲硫基甲基、乙氧基甲基、乙硫基甲基、甲氧基乙氧基甲基、芐氧基甲基、芐硫基甲基、苯甲酰甲基、4-溴苯甲酰甲基、4-甲氧基苯甲酰甲基、胡椒基、甲氧羰基甲基、乙氧羰基甲基、正丙氧羰基甲基、異丙氧羰基甲基、正丁氧羰基甲基、和叔丁氧羰基甲基。1-取代乙基的例子包括1-甲氧基乙基、1-甲硫基乙基、1，1-二甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-乙硫基乙基、1，1-二乙氧基乙基、1-苯氧基乙基、1-苯硫基乙基、1，1-二苯氧基乙基、1-環(huán)戊氧基乙基、1-環(huán)己氧基乙基、1-苯基乙基、和1，1-二苯基乙基。1-取代正丙基的例子包括1-甲氧基正丙基和1-乙氧基正丙基。1-支化烷基的例子包括異丙基、仲丁基、叔丁基、1，1-二甲基丙基、1-甲基丁基、和1，1-二甲基丁基。甲硅烷基的例子包括三甲基甲硅烷基、乙基二甲基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、叔丁基二乙基甲硅烷基、叔丁基二苯基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、和三苯基甲硅烷基。?；睦影ㄒ阴；?、苯氧基乙酰基、丙?；?、丁?；?、庚?；?、己?；?、戊?；?、新戊?；?、異戊?；⒃鹿瘐；?、金剛烷基(adamantyl)、苯甲?；?、和萘甲酰基。1-取代烷氧基甲基的例子包括1-環(huán)戊基甲氧基甲基、1-環(huán)戊基乙氧基甲基、1-環(huán)己基甲氧基甲基、1-環(huán)己基乙氧基甲基、1-環(huán)辛基甲氧基甲基、和1-金剛烷基甲氧基甲基。環(huán)醚基的例子包括四氫吡喃基、四氫呋喃基、四氫噻喃基、四氫噻吩基、4-甲氧基四氫吡喃基、和4-甲氧基四氫噻喃基。烷氧羰基的例子包括甲氧羰基、乙氧羰基、正丙氧羰基、異丙氧羰基、正丁氧羰基、和叔丁氧羰基。這些酸解離官能團(tuán)中，優(yōu)選的是叔丁氧羰基、叔丁氧羰基甲基、1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-環(huán)己氧基乙基、1-苯基乙基、叔丁基、三甲基甲硅烷基、四氫吡喃基、和1-環(huán)己基甲氧基甲基。每個(gè)R2基獨(dú)立地為選自鹵原子、烷基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、鏈烯基(alkyenyl)、?；⑼檠豸驶?、烷酰氧基、芳酰氧基、氰基、和硝基的基團(tuán)。鹵原子的例子包括氯原子、溴原子和碘原子；烷基的例子包括C1-4烷基如甲基、乙基、丙基、正丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、和叔丁基；環(huán)烷基的例子包括環(huán)己基、降冰片基、和金剛烷基；芳基的例子包括苯基、甲苯基、二甲苯基、和萘基；芳烷基的例子包括芐基；烷氧基的例子包括C1-4烷氧基如甲氧基、乙氧基、羥乙氧基、丙氧基、羥丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、和叔丁氧基；芳氧基的例子包括苯氧基；鏈烯基的例子包括C2-4鏈烯基如乙烯基、丙烯基、烯丙基、和丁烯基；酰基的例子包括C1-5脂族?；缂柞；?、乙?；⒈；?、丁酰基、戊酰基、異戊酰基、和新戊?；头甲艴；绫郊柞；图妆郊柞；?；烷氧羰氧基的例子包括C2-5烷氧羰氧基如甲氧羰氧基、乙氧羰氧基、丙氧羰氧基、異丙氧羰氧基、正丁氧羰氧基、異丁氧羰氧基、仲丁氧羰氧基、和叔丁氧羰氧基；烷酰氧基的例子包括乙酰氧基、丙酰氧基、丁酰氧基、異丁酰氧基、戊酰氧基、異戊酰氧基、和新戊酰氧基；和芳酰氧基的例子包括苯甲酰氧基。位于酚式羥基的鄰位的R2是優(yōu)選的，因?yàn)樗刂苹衔顱的結(jié)晶度改善成膜性。位于酚式羥基的鄰位的R2還控制化合物B在堿性顯影液中的溶解度并降低酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度，從而改善在溶劑中的可溶性、與基材的粘附性和抗蝕劑敏感度。為獲得這些效果，R2優(yōu)選為龐大的和/或給電子基團(tuán)，例如烷基如甲基、乙基、異丙基、叔丁基、苯基、芐基、環(huán)己基、降冰片基、和金剛烷基；和烷氧基如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、和苯氧基。某些情況下，吸電子基團(tuán)如鹵素提高化合物B在堿性顯影液中的溶解度。R4為氫原子、C1-6烷基或芳基，R5為有聯(lián)苯結(jié)構(gòu)或萘結(jié)構(gòu)的一價(jià)C10-18基團(tuán)。用于R4的C1-6烷基的例子包括直鏈、支鏈或環(huán)烷基如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、和環(huán)己基。用于R4的芳基可以是苯基。R5優(yōu)選為下式所示有聯(lián)苯結(jié)構(gòu)或萘結(jié)構(gòu)的一價(jià)基團(tuán)或其中R3為氫原子或C1-6烷基；p3為0至4的整數(shù)；q3為0至3的整數(shù)；而且p3和q3滿足0≤p3+q3≤7。C1-6烷基選自針對(duì)R4所述的烷基。-CR4R5-的R4和R5可彼此鍵合形成有芴結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)或二苯酮結(jié)構(gòu)的二價(jià)C10-18基團(tuán)，優(yōu)選下式所示二價(jià)基團(tuán)或其中R3、p3和q3與前面所定義的相同，Y為單鍵或羰基，Z為亞甲基或羰基。m0和n0各自為0至3的整數(shù)，m1和n1各自為0至3的整數(shù)，m2和n2各自為0至4的整數(shù)，滿足1≤m0+m1+m2≤5，1≤n0+n1+n2≤5，1≤m1+n1≤6，1≤m0+m1≤3，和1≤n0+n1≤3。式1中，就-CR4R5-而言位于兩個(gè)苯環(huán)的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式2所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4和R5與前面所定義的相同；p0和q0各自為0至2的整數(shù)；p1和q1各自為0至2的整數(shù)；p2和q2各自為0至3的整數(shù)；滿足1≤p0+p1+p2≤4，1≤q0+q1+q2≤4，1≤p1+q1≤4，1≤p0+p1≤2，和1≤q0+q1≤2；和X為氧原子或硫原子。式1化合物雖然分子量低但成膜性、耐熱性和抗干蝕性極好，而且出氣量小。因而，包含此化合物的抗蝕劑組合物顯示出高分辨率、高敏感度和很小的線邊緣不平度?；衔顱優(yōu)選為選自下式3和5-12所示化合物的至少一種化合物。式3其中R1、R2、R4、R5、m2和n2與前面所定義的相同，就-CR4R5-而言位于兩個(gè)苯環(huán)的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式4所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4、R5、X、p2和q2與前面所定義的相同。式3化合物因與基材的粘附性、在溶劑中的溶解性和耐熱性好而且原料成本較低，非常適合實(shí)際使用。式5其中R1至R4、m0至m2、n0至n2、p3和q3與前面所定義的相同。式6其中R1至R4、m0至m2、n0至n2、p3和q3與前面所定義的相同。式7其中R1至R3、Y、m0至m2、n0至n2、p3和q3與前面所定義的相同。式8其中R1至R3、Z、m0至m2、n0至n2、p3和q3與前面所定義的相同。式9其中R1至R4、p0至p3、和q0至q3與前面所定義的相同。式10其中R1至R4、p0至p3、和q0至q3與前面所定義的相同。式11其中R1至R3、Y、p0至p3、和q0至q3與前面所定義的相同。式12其中R1至R3、Z、p0至p3、和q0至q3與前面所定義的相同。生產(chǎn)化合物B中，先通過各自有5至45個(gè)碳原子的芳族酮或芳族醛與有6至15個(gè)碳原子和1至3個(gè)酚式羥基的化合物縮合生產(chǎn)多酚化合物A。然后在多酚化合物A的至少一個(gè)酚式羥基中引入酸解離官能團(tuán)產(chǎn)生化合物B。有5至45個(gè)碳原子的芳族酮或芳族醛的例子包括苯乙酮、二苯酮、α-萘乙酮、β-萘乙酮、9-芴酮、二氫苊酮、苯醌、萘醌、蒽醌、二氫苊醌、苯甲酰聯(lián)苯、苯甲酰萘、酰基聯(lián)苯、?；臁Ⅴ；?、?；脏玎?、?；?、酰基苯并芘、acylindacene、acylphenacene、?；?、?；⑺谋?、?；⑽灞?、?；讲⒎?、?；拎ぁⅤ；溥?、酰基呋喃、?；量Ⅴ；驯健⒍滠嵬?、四氫萘酮、?；邕?、吖啶酮、黃酮、和異黃酮；及芳族醛如苯甲醛、甲苯醛、茴香醛、1-萘醛、2-萘醛、蒽醛、聯(lián)苯醛、甲酰芴、甲酰聯(lián)苯、甲酰蒽、甲酰菲、甲酰吩噻嗪、甲酰芘、甲酰苯并芘、formylindacene、formylphenacene、甲酰苊、甲酰并四苯、甲酰并五苯、甲酰苯并菲、甲酰吡啶、和甲酰卵苯。上述化合物中，特別優(yōu)選的是α-萘乙酮、β-萘乙酮、9-芴酮、乙酰基蒽、乙?；?、二氫苊酮、二氫苊醌、蒽醌、1-萘醛、和4-聯(lián)苯醛，因?yàn)樗鼈內(nèi)菀滓缘统杀精@得、反應(yīng)性較高而且易產(chǎn)生多酚化合物A。有6至15個(gè)碳原子和1至3個(gè)酚式羥基的化合物的例子包括苯酚、(C1-6-烷基)苯酚(例如甲酚如鄰甲酚、間甲酚和對(duì)甲酚、鄰苯基苯酚、和2-環(huán)己基苯酚)、二烷基苯酚(例如2，3-二甲基苯酚、2，5-二甲基苯酚、2，6-二甲基苯酚、和2，6-二叔丁基苯酚)、三烷基苯酚、烷氧基苯酚(例如茴香醚如鄰甲氧基苯酚)、芳基苯酚(例如苯基苯酚如鄰苯基苯酚和間苯基苯酚)、環(huán)烷基苯酚(例如2-環(huán)己基苯酚)、鹵酚(例如氯酚、二氯酚、氯甲酚、溴酚、二溴酚)、和多元酚(例如鄰苯二酚、烷基鄰苯二酚、氯代鄰苯二酚、間苯二酚、烷基間苯二酚、氫醌、烷基氫醌、氯代間苯二酚、氯代氫醌、連苯三酚、烷基連苯三酚、間苯三酚、和1，2，4-三羥苯酚)。這些化合物可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。其純度通常為，但不限于95重量％或更高、優(yōu)選99重量％或更高。上述有1至3個(gè)酚式羥基的化合物中，優(yōu)選的是苯酚、(C1-6-烷基)苯酚例如2-(C1-6-烷基)苯酚(鄰甲酚、鄰苯基苯酚、2-環(huán)己基苯酚等)、鄰苯二酚、間苯二酚、和連苯三酚，因?yàn)樗鼈內(nèi)菀撰@得。使用鄰位有龐大基團(tuán)和/或給電子基團(tuán)的酚類化合物，可控制化合物B的結(jié)晶度以改善成膜性。此外，化合物B在堿性顯影液中的溶解度得到控制且酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度得到降低，從而改善在溶劑中的可溶性、與基材的粘附性和抗蝕劑敏感度。有此作用的酚類化合物的例子包括2-(C1-6-烷基)苯酚如鄰甲酚、鄰苯基苯酚、2-環(huán)己基苯酚、2-叔丁基苯酚、和2，6-二叔丁基苯酚，和2-烷氧基苯酚如2-甲氧基苯酚、2-異丙氧基苯酚、和2-苯氧基苯酚。多酚化合物A的生產(chǎn)方法無(wú)特殊限制，通過一摩爾芳族酮或芳族醛與一摩爾或過量的有1至3個(gè)酚式羥基的化合物如苯酚和鄰甲酚在60至150℃下在酸催化劑如鹽酸和硫酸和用于防止生成副產(chǎn)物的助催化劑如硫代乙酸和β-巰基丙酸存在下反應(yīng)約0.5至20小時(shí)生產(chǎn)。反應(yīng)后，在反應(yīng)生成液中加入甲醇或異丙醇，在60至80℃下攪拌0.5至2小時(shí)，然后加入適量的純水使反應(yīng)產(chǎn)物沉積。冷卻至室溫后，過濾分離沉積的反應(yīng)產(chǎn)物，干燥得到多酚化合物A?；蛘咄ㄟ^用鹵化氫或鹵氣使芳族酮或芳族醛轉(zhuǎn)化成二鹵化物，然后使離析出的二鹵化物與有1至3個(gè)酚式羥基的化合物反應(yīng)生產(chǎn)多酚化合物A?；衔顱通過但不限于以下方法生產(chǎn)使多酚化合物A與用于引入酸解離官能團(tuán)如叔丁氧羰基和四氫吡喃基的化合物在20至60℃和常壓下在胺催化劑如三乙胺和二甲氨基吡啶或酸催化劑如甲苯磺酸吡啶存在下反應(yīng)6至24小時(shí)。將反應(yīng)產(chǎn)物液體倒入蒸餾水中沉淀出白色固體，然后用蒸餾水洗滌，可選地通過硅膠柱色譜法提純，然后干燥，得到化合物B。用于引入酸解離官能團(tuán)的化合物的例子包括但不限于酰基氯、酸酐、碳酸氫鹽、烷基鹵、乙烯基烷基醚、二氫吡喃，都有酸解離官能團(tuán)。本文所指酸解離官能團(tuán)是在酸存在下斷裂產(chǎn)生酚式羥基的官能團(tuán)。為了能形成具有較高敏感度和分辨率的抗蝕劑圖案，優(yōu)選該酸解離基團(tuán)在酸存在下接連地?cái)嗔?。酸解離官能團(tuán)優(yōu)選以多酚化合物A的酚式羥基總數(shù)的10至95％、更優(yōu)選20至80％的比例加入。在上述范圍內(nèi)，化合物B在溶劑中的溶解性、與基材的粘附性和敏感度變得更好?；衔顱的分子量為300至3000、優(yōu)選300至1500、更優(yōu)選400至1000。在上述范圍內(nèi)，改善分辨率同時(shí)保持抗蝕劑所需成膜性?；衔顱在23℃下優(yōu)選以5重量％或更多的量溶于丙二醇單甲醚乙酸酯或乳酸乙酯。有此溶解度，可使用半導(dǎo)體廠中允許使用的安全溶劑。本發(fā)明的輻射敏感組合物包含1至80重量％的固體化合物和20至99重量％的溶劑，優(yōu)選1至50重量％的固體組分和50至99重量％的溶劑，更優(yōu)選5至40重量％的固體組分和60至95重量％的溶劑?；衔顱和增溶劑的總量為50-99.999重量％、優(yōu)選60至99重量％、更優(yōu)選80至99重量％，均基于固體組分的總重。在上述范圍內(nèi)，獲得高分辨率而且線邊緣不平度變小。增溶劑的含量?jī)?yōu)選為0至80重量％、更優(yōu)選20至80重量％、還更優(yōu)選30至70重量％，均基于固體組分的總重。在上述范圍內(nèi)，獲得高敏感度和分辨率而且線邊緣不平度變小。由于本發(fā)明輻射敏感組合物含有滿足要求a和b的化合物B，可同時(shí)實(shí)現(xiàn)抗蝕劑組合物所要求的性質(zhì)，如能經(jīng)受半導(dǎo)體工藝的耐熱性、在安全溶劑如丙二醇單甲醚乙酸酯和乳酸乙酯中的溶解度、成膜性、與硅基材的粘附性、堿可顯影性、抗蝕性、曝光過程中出氣量小、分辨率高和邊緣不平度小。溶劑的例子包括但不限于乙二醇單烷基醚乙酸酯如乙二醇單甲醚乙酸酯和乙二醇單乙醚乙酸酯；乙二醇單烷基醚如乙二醇單甲醚和乙二醇單乙醚；丙二醇單烷基醚乙酸酯如丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)和丙二醇單乙醚乙酸酯；丙二醇單烷基醚如丙二醇單甲醚(PGME)和丙二醇單乙醚；乳酸酯如乳酸甲酯和乳酸乙酯(EL)；脂族羧酸酯如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯和乙酸丁酯；其它酯如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯和3-乙氧基丙酸乙酯；芳烴如甲苯和二甲苯；酮如2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮和環(huán)己酮；及環(huán)醚如四氫呋喃和二烷。這些溶劑可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。本發(fā)明中，產(chǎn)生酸的方法無(wú)特殊限制，只要系統(tǒng)內(nèi)的確產(chǎn)生酸。用準(zhǔn)分子激光代替例如g-射線和i-射線等紫外線能使加工更精細(xì)。如果使用高能射線如電子束、極遠(yuǎn)紫外線、X-射線和離子束，則抗蝕劑組合物可以進(jìn)行更精細(xì)的加工。固體組分優(yōu)選含有至少一種受到例如極遠(yuǎn)紫外線(EUV)、電子束和X-射線等射線輻照時(shí)產(chǎn)生酸的產(chǎn)酸劑。產(chǎn)酸劑的含量?jī)?yōu)選為固體組分總重的0.001至50重量％、更優(yōu)選1至40重量％、還更優(yōu)選3至20重量％。在上述范圍內(nèi)，可獲得高敏感度和邊緣不平度小的圖案。產(chǎn)酸劑優(yōu)選為選自下式13至20所示化合物的至少一種化合物，但不限于此。式13其中R13基可相同或不同，各自獨(dú)立地為氫，直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基，直鏈、支鏈或環(huán)狀烷氧基，羥基或鹵素；和X-為有烷基、芳基、鹵代烷基或鹵代芳基的磺酸離子，或鹵離子。式13所示化合物優(yōu)選為選自下述化合物的至少一種三氟甲磺酸三苯基锍、九氟正丁磺酸三苯基锍、九氟正丁磺酸二苯基甲苯基锍、全氟正辛磺酸三苯基锍、三氟甲磺酸二苯基-4-甲基苯基锍、三氟甲磺酸二-2，4，6-三甲基苯基锍、三氟甲磺酸二苯基-4-叔丁氧基苯基锍、九氟正丁磺酸二苯基-4-叔丁氧基苯基锍、三氟甲磺酸二苯基-4-羥苯基锍、三氟甲磺酸二(4-氟苯基)-4-羥苯基锍、九氟正丁磺酸二苯基-4-羥苯基锍、三氟甲磺酸二(4-羥苯基)苯基锍、三氟甲磺酸三(4-甲氧基苯基)锍、三氟甲磺酸三(4-氟苯基)锍、對(duì)甲苯磺酸三苯基锍、苯磺酸三苯基锍、對(duì)甲苯磺酸二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍、2-三氟甲基苯磺酸二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍、2，4-二氟苯磺酸二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍、六氟苯磺酸二苯基-2，4，6-三甲基苯基锍、三氟甲磺酸二苯基萘基锍、對(duì)甲苯磺酸二苯基-4-羥苯基锍、10-樟腦磺酸三苯基锍和10-樟腦磺酸二苯基-4-羥苯基锍。式14其中R14基可相同或不同，各自獨(dú)立地為氫，直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基，直鏈、支鏈或環(huán)狀烷氧基，羥基或鹵素。X-與前面所定義的相同。式14所示化合物優(yōu)選為選自下式化合物的至少一種三氟甲磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、九氟正丁磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、全氟正辛磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、對(duì)甲苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、2-三氟甲基苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、4-三氟甲基苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、2，4-二氟苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、六氟苯磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、10-樟腦磺酸二(4-叔丁基苯基)碘、三氟甲磺酸二苯基碘、九氟正丁磺酸二苯基碘、全氟正辛磺酸二苯基碘、對(duì)甲苯磺酸二苯基碘、苯磺酸二苯基碘、10-樟腦磺酸二苯基碘、2-三氟甲基苯磺酸二苯基碘、4-三氟甲基苯磺酸二苯基碘、2，4-二氟苯磺酸二苯基碘、六氟苯磺酸二苯基碘、三氟甲磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘、九氟正丁磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘、全氟正辛磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘、對(duì)甲苯磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘、苯磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘和10-樟腦磺酸二(4-三氟甲基苯基)碘。式15其中Q為亞烷基或亞芳基，和R15為烷基、芳基、鹵代烷基或鹵代芳基。式15所示化合物優(yōu)選為選自下述化合物的至少一種N-(三氟甲磺酰氧基)琥珀酰亞胺、N-(三氟甲磺酰氧基)鄰苯二甲酰亞胺、N-(三氟甲磺酰氧基)二苯基馬來(lái)酰亞胺、N-(三氟甲磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(三氟甲磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(10-樟腦磺酰氧基)琥珀酰亞胺、N-(10-樟腦磺酰氧基)鄰苯二甲酰亞胺、N-(10-樟腦磺酰氧基)二苯基馬來(lái)酰亞胺、N-(10-樟腦磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(10-樟腦磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(正辛磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(正辛磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(對(duì)甲苯磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(對(duì)甲苯磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(2-三氟甲基苯磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(4-三氟甲基苯磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(4-三氟甲基苯磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(全氟苯磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(全氟苯磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(1-萘磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(1-萘磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺、N-(九氟正丁磺酰氧基)萘基酰亞胺、N-(全氟正辛磺酰氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-5-烯-2，3-二羧酰亞胺和N-(全氟正辛磺酰氧基)萘基酰亞胺。式16其中R16基可相同或不同，各自獨(dú)立地為可選地取代的直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基，可選地取代的芳基，可選地取代的雜芳基，或可選地取代的芳烷基。式16所示化合物優(yōu)選為選自下述化合物的至少一種二苯基二砜、二(4-甲基苯基)二砜、二萘基二砜、二(4-叔丁基苯基)二砜、二(4-羥苯基)二砜、二(3-羥萘基)二砜、二(4-氟苯基)二砜、二(2-氟苯基)二砜和二(4-三氟甲基苯基)二砜。式17其中R17基可相同或不同，各自獨(dú)立地為可選地取代的直鏈、支鏈或環(huán)狀烷基，可選地取代的芳基，可選地取代的雜芳基，或可選地取代的芳烷基。式17所示化合物優(yōu)選為選自下述化合物的至少一種α-(甲基磺酰氧亞氨基)苯基乙腈、α-(甲基磺酰氧亞氨基)-4-甲氧基苯基乙腈、α-(三氟甲基磺酰氧亞氨基)苯基乙腈、α-(三氟甲基磺酰氧亞氨基)-4-甲氧基苯基乙腈、α-(乙基磺酰氧亞氨基)-4-甲氧基苯基乙腈、α-(丙基磺酰氧亞氨基)-4-甲氧基苯基乙腈和α-(甲基磺酰氧亞氨基)-4-溴苯基乙腈。式18其中R18可相同或不同，各自獨(dú)立地為有一或多個(gè)氯原子和一或多個(gè)溴原子的鹵代烷基。該鹵代烷基優(yōu)選有1至5個(gè)碳原子。式19和20其中R19和R20基各自獨(dú)立地為C1-C3烷基如甲基、乙基、正丙基和異丙基，C3-C6環(huán)烷基如環(huán)戊基和環(huán)己基，C1-C3烷氧基如甲氧基、乙氧基和丙氧基，或芳基，優(yōu)選C6-C10芳基如苯基、甲苯基和萘基；L19和L20基各自獨(dú)立地為有1，2-萘醌二疊氮基的有機(jī)基團(tuán)。有1，2-萘醌二疊氮基的有機(jī)基團(tuán)的優(yōu)選實(shí)例包括1，2-萘醌二疊氮磺?；?，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；?、1，2-萘醌二疊氮基-5-磺?；?，2-萘醌二疊氮基-6-磺?；?，其中1，2-萘醌二疊氮基-4-磺?；?，2-萘醌二疊氮基-5-磺?；鼉?yōu)選。下標(biāo)p為1至3的整數(shù)，下標(biāo)q為0至4的整數(shù)，滿足1≤p+q≤5；J19為單鍵、C1-C4多亞甲基、亞環(huán)烷基、亞苯基、下式21所示基團(tuán)羰基、酯基、酰胺基或醚基；Y19為氫、烷基或芳基；X19和X20各自獨(dú)立地為下式22所示基團(tuán)。式22其中Z22基各自獨(dú)立地為烷基、環(huán)烷基或芳基；R22為烷基、環(huán)烷基或烷氧基；和r為0至3的整數(shù)。其它產(chǎn)酸劑的例子包括二磺酰重氮甲烷如二(對(duì)甲苯磺酰)重氮甲烷、二(2，4-二甲基苯磺酰)重氮甲烷、二(叔丁基磺酰)重氮甲烷、二(正丁基磺酰)重氮甲烷、二(異丁基磺酰)重氮甲烷、二(異丙基磺酰)重氮甲烷、二(正丙基磺酰)重氮甲烷和二(環(huán)己基磺酰)重氮甲烷；和含鹵素的三嗪衍生物如2-(4-甲氧基苯基)-4，6-(雙三氯甲基)-1，3，5-三嗪、2-(4-甲氧基萘基)-4，6-(雙三氯甲基)-1，3，5-三嗪、三(2，3-二溴丙基)-1，3，5-三嗪和三(2，3-二溴丙基)異氰脲酸酯。增溶劑是通過提高化合物B在顯影液如堿中的溶解度(如果該溶解度較低)適當(dāng)提高顯影操作中化合物B的溶解速度的化合物。優(yōu)選該增溶劑在抗蝕膜烘烤、電子束照射和顯影步驟中不引起化學(xué)變化。例如，用諸如雙酚類、三(羥苯基)甲烷和四酚類等低分子量酚類化合物作增溶劑。雙酚類的例子包括雙酚、雙(4-羥苯基)丙烷、雙(4-羥苯基)甲酮、亞甲基雙酚、乙叉基雙酚、環(huán)己叉基雙酚、和苯基乙叉基雙酚。三酚類的例子包括三(4-羥苯基)甲烷、三(4-羥苯基)乙烷、和三(4-羥苯基)苯。四酚類的例子包括4，4’，4”，4-(1，2-乙烷二叉基)四酚、4，4’，4”，4-(1，2-苯二甲叉基)四酚、calix[4]allene、和四(雙環(huán)己叉基)酚。這些增溶劑可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。增溶劑的含量根據(jù)所用化合物B的種類調(diào)節(jié)，優(yōu)選為固體組分總重的0至80重量％、更優(yōu)選20至80重量％、還更優(yōu)選30至70重量％。低分子量酚類化合物優(yōu)選用下式25表示其中R2、R4和R5如前面所定義；m3和n3各自為1至3的整數(shù)；m4和n4各自為0至4的整數(shù)；均滿足1≤m3+m4≤5和1≤n3+n4≤5；兩個(gè)苯環(huán)的位于-CR4R5-的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式26所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R2、R4、R5和X如前面所定義；p3和q3各自為1至2的整數(shù)；p4和q4各自為0至3的整數(shù)。本發(fā)明的輻射敏感組合物可還含有各種添加劑如酸擴(kuò)散控制劑、溶解度控制劑、增感劑和表面活性劑。酸擴(kuò)散控制劑具有通過抑制產(chǎn)酸劑受到射線輻照時(shí)產(chǎn)生的酸在抗蝕膜中擴(kuò)散控制未曝光區(qū)域內(nèi)不希望的化學(xué)反應(yīng)的作用。使用此酸擴(kuò)散控制劑可改善輻射敏感組合物的儲(chǔ)存穩(wěn)定性和分辨率。此外，可防止因電子束輻照前后時(shí)間延遲的變化所致抗蝕圖線寬變化，從而使該工藝的穩(wěn)定性極好。其例子包括含氮的堿性化合物和受到電子束輻照時(shí)可降解的堿性化合物如堿性锍化合物和堿性碘化合物。這些酸擴(kuò)散控制劑可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。酸擴(kuò)散控制劑的含量?jī)?yōu)選為固體組分總重的0至10重量％、更優(yōu)選0.001至5重量％、還更優(yōu)選0.001至3重量％。如果低于0.001重量％，在某些工藝條件下可能會(huì)降低分辨率、圖案輪廓和尺寸精度。此外，如果延長(zhǎng)從電子束輻照至輻照后加熱的時(shí)間延遲，則可能失去適當(dāng)?shù)膱D案輪廓。如果超過10重量％，則可能有損抗蝕劑組合物的敏感度和未曝光區(qū)域的顯影性。溶解度控制劑是在溶解度較高時(shí)通過降低溶解度適度降低化合物B在顯影液如堿中的溶解速度的化合物。優(yōu)選溶解度控制劑在抗蝕膜烘烤、射線輻照和顯影步驟中不引起化學(xué)變化。溶解度控制劑的例子包括芳烴如萘、菲、蒽和苊；酮如苯乙酮、二苯酮和苯基萘基酮；和砜如甲基苯基砜、二苯基砜和二萘基砜。這些溶解度控制劑可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。溶解度控制劑的含量隨所用化合物B的種類改變，優(yōu)選為固體組分總重的0至50重量％、更優(yōu)選0至50重量％、更優(yōu)選0.1至20重量％、還更優(yōu)選1至10重量％。增感劑是通過吸收輻照射線的能量并將其轉(zhuǎn)移給產(chǎn)酸劑增加產(chǎn)酸量從而提高抗蝕劑的表觀敏感度的化合物。增感劑的例子包括但不限于二苯酮類、雙乙酰類、芘類、吩噻嗪類和芴類。這些增感劑可單獨(dú)使用，也可兩或多種組合使用。增感劑的含量?jī)?yōu)選為固體組分總重的0.1至20重量％、還更優(yōu)選1至10重量％。表面活性劑是改善輻射敏感組合物的涂布性和條紋以及抗蝕劑的顯影性等的化合物。作為表面活性劑，可使用任何陰離子、陽(yáng)離子、非離子和兩性表面活性劑，其中非離子表面活性劑是優(yōu)選的，因?yàn)樗鼈兣c輻射敏感組合物所用溶劑的親合性好。非離子表面活性劑的例子包括但不限于聚氧乙烯高級(jí)烷基醚、聚氧乙烯高級(jí)烷基苯基醚、和聚乙二醇的高級(jí)脂肪酸二酯，可以以下列商品名商購(gòu)JemcoInc.的“EFTOP”；Dai-NipponInk&amp;Chemicals，Incorporated的“MEGAFACE”；Sumitomo3MLtd.的“FLUORAD”；AsahiGlassCo.，Ltd.的“ASAHIGUARD”和“SURFLON”；TohoChemicalIndustryCo.，Ltd.的“PEPOL”；Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd.的“KP”；和KyoeishaChemicalCo.，Ltd.的“POLYFLOW”。表面活性劑的含量?jī)?yōu)選為固體組分總重的0至2重量％、更優(yōu)選0.0001至1重量％、還更優(yōu)選0.001至0.1重量％。此外，輻射敏感組合物中可摻混染料或顏料使曝光部分的潛象可視化，從而減小曝光操作過程中光暈的不利影響。輻射敏感組合物中還可摻混助粘劑以改善與基材的粘附性。除上述添加劑之外，輻射敏感組合物可還含有不溶于水但可溶于堿性水溶液的樹脂或不溶于水但在酸作用下可溶于堿性水溶液獲得堿性水溶液可顯影性的樹脂。此類樹脂的例子包括可在其中加入酸解離官能團(tuán)的酚樹脂；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的線形酚醛樹脂；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的氫化線形酚醛樹脂；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的o-聚羥基苯乙烯、m-聚羥基苯乙烯、p-聚羥基苯乙烯及其共聚物；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的烷基取代的聚羥基苯乙烯；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的聚羥基苯乙烯；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的部分o-烷基化的聚羥基苯乙烯；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的苯乙烯-羥基苯乙烯共聚物；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的α-甲基苯乙烯-羥基苯乙烯共聚物；可在其中加入酸解離官能團(tuán)的聚甲基丙烯酸烷基酯；聚烯烴；聚酯；聚酰胺；聚脲；和聚氨酯。由于線邊緣不平度隨該樹脂添加量的增加而提高，與其使用倒不如避免使用該樹脂時(shí)趨于獲得良好的圖案輪廓。本發(fā)明輻射敏感組合物通過化合物B、溶劑、增溶劑和可選的添加劑如產(chǎn)酸劑在攪拌下混合生產(chǎn)。每種可選添加劑(如果使用的話)的量在上述范圍內(nèi)選擇以使固體組分中各組分的總含量總計(jì)100重量％。攪拌方法、混合方法和混合順序無(wú)關(guān)緊要，本領(lǐng)域技術(shù)人員很容易選擇。用本發(fā)明輻射敏感組合物形成抗蝕圖案中過程中，先通過例如旋涂、流延涂布和輥涂等涂布方法在諸如硅晶片、鎵-砷晶片和涂鋁晶片等基材上涂布輻射敏感組合物形成抗蝕膜。基材可根據(jù)需要用表面處理劑處理。表面處理劑的例子包括硅烷偶聯(lián)劑如六亞甲基二硅氮烷(例如水解時(shí)可聚合的硅烷偶聯(lián)劑)、增粘(anchor)涂飾劑或底漆(例如聚乙烯醇縮乙醛、丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、環(huán)氧樹脂和聚氨酯樹脂)、及包括底漆和無(wú)機(jī)細(xì)粒的混合物的涂飾劑。抗蝕膜的厚度優(yōu)選為0.01至10μm、更優(yōu)選0.05至1μm、還更優(yōu)選0.08至0.5μm，但不限于此。需要時(shí)，在形成抗蝕膜之后可形成抗蝕劑保護(hù)膜以防止空氣中懸浮的胺等進(jìn)入抗蝕膜。允許與對(duì)酸有反應(yīng)性的化合物如作為雜質(zhì)懸浮在空氣中的胺反應(yīng)時(shí)，將使受到輻射產(chǎn)生的酸失去活性。用此抗蝕劑保護(hù)膜可防止由此去活化作用導(dǎo)致抗蝕圖像變差和敏感度下降。抗蝕劑保護(hù)膜優(yōu)選由可溶于水的酸性聚合物如聚丙烯酸和聚磺酸乙烯酯形成。然后使抗蝕膜以所要圖案暴露于例如紫外線、極遠(yuǎn)紫外線(EUV)和電子束等輻射。曝光后的化合物B變成可溶于堿性顯影液的化合物，因?yàn)槠渌峤怆x官能團(tuán)斷裂形成酚式羥基。曝光條件可根據(jù)輻射敏感組合物的配方等進(jìn)行選擇。本發(fā)明中，優(yōu)選在射線輻照后進(jìn)行熱處理以穩(wěn)定地形成高精度的精細(xì)曝光圖案。該熱處理優(yōu)選為20至250℃、更優(yōu)選40至150℃，盡管它取決于輻射敏感組合物的配方等。然后用堿性顯影液使曝光后的抗蝕膜顯影形成所要抗蝕圖案。作為堿性顯影液，可使用將至少一種堿性化合物以優(yōu)選1至10質(zhì)量％、更優(yōu)選1至5質(zhì)量％的濃度溶解形成的堿性水溶液，所述堿性化合物選自例如單-、二-或三烷基胺，單-、二-或三鏈烷醇胺，雜環(huán)胺，氫氧化四甲銨(TMAH)和膽堿。此外，堿性顯影液可含有適量的醇如甲醇、乙醇和異丙醇、或上述表面活性劑，特別優(yōu)選加入10至30質(zhì)量％的異丙醇。用此堿性水溶液顯影后，通常用水清洗顯影圖案。形成抗蝕圖案之后，使基材經(jīng)過蝕刻得到圖案化的布線板。蝕刻可通過采用等離子氣體的干蝕和使用堿性溶液、氯化銅(II)溶液、氯化鐵(III)溶液等的濕蝕等已知方法完成。形成抗蝕圖案后，基材可進(jìn)行鍍覆，例如鍍銅、鍍錫、鍍鎳或鍍金。可用有機(jī)溶劑或比顯影所用堿性水溶液更強(qiáng)的堿性水溶液剝離剩余的抗蝕圖案。有機(jī)溶劑的例子包括PGMEA、PGME和EL。強(qiáng)堿性水溶液的例子包括1至20質(zhì)量％氫氧化鈉水溶液和1至20質(zhì)量％氫氧化鉀水溶液。抗蝕圖案的剝離可通過浸漬法、噴霧法等完成。上面有抗蝕圖案的布線板可以是多層布線板而且可形成有小通孔。布線板可通過剝離(liftoff)法生產(chǎn)，其中在形成抗蝕圖案之后真空沉積金屬然后通過溶于溶液除去剩余抗蝕圖。結(jié)合以下實(shí)施例更詳細(xì)地描述本發(fā)明。但應(yīng)注意以下實(shí)施例僅僅是舉例說(shuō)明而不限制本發(fā)明的范圍。通過以下方法評(píng)價(jià)化合物、輻射敏感組合物和抗蝕圖。I化合物和輻射敏感組合物的評(píng)價(jià)(1)化合物在安全溶劑中的溶解性測(cè)試各化合物在23℃安全溶劑(PGMEA或EL)中的溶解性。溶解量為5重量％或更高時(shí)溶解性評(píng)定為“A”，溶解量為0.1重量％或更高但低于5重量％時(shí)評(píng)定為“B”，未以0.1重量％或更高的量溶解時(shí)評(píng)定為“C”。(2)輻射敏感組合物的成膜性將各化合物在PGMEA中的10重量％溶液用旋涂器旋涂在硅晶片上形成約0.2μm厚的抗蝕膜。在電爐上于約110℃加熱3分鐘后，觀察抗蝕膜的狀態(tài)?？刮g膜變白或其表面變得不平時(shí)評(píng)定為“C”，部分變白或部分變得不平時(shí)評(píng)定為“B”，表面外觀良好時(shí)評(píng)定為“A”。(3)在堿性顯影液中的溶解抑制作用將評(píng)價(jià)2中形成的抗蝕膜在顯影液(2.38％TMAH水溶液)中浸泡3分鐘。目視觀察膜的狀態(tài)無(wú)變化時(shí)評(píng)定為“A”，表面變得不平或部分膜被溶解掉時(shí)評(píng)定為“C”。(4)與硅基材的粘附性評(píng)價(jià)2中形成的抗蝕膜未剝離硅晶片時(shí)粘附性評(píng)定為“A”，使用表面處理劑(硅烷偶聯(lián)劑)的情況下未剝離時(shí)評(píng)定為“B”，甚至在使用表面處理劑的情況下也剝離時(shí)評(píng)定為“C”。(5)堿可顯影性測(cè)試與引入酸解離官能團(tuán)之前的各化合物對(duì)應(yīng)的多酚化合物A用堿性顯影液的可顯影性。將各多酚化合物A在PGMEA中的10重量％溶液用旋涂器旋涂形成約0.2μm厚的抗蝕膜。在電爐上于約110℃加熱3分鐘后，將抗蝕膜在2.38％TMAH水溶液中浸泡10秒。抗蝕膜完全溶解而消失時(shí)評(píng)定為“A”，抗蝕膜甚至未以微量溶解時(shí)評(píng)定為“C”。II抗蝕圖案的評(píng)價(jià)(1)抗蝕膜的形成將表5中所示各配制劑用0.2μm特氟隆(注冊(cè)商標(biāo))過濾器過濾制備輻射敏感組合物。將各輻射敏感組合物用旋涂器旋涂在硅晶片上，然后在電爐上于約110℃加熱60秒，形成約0.2μm厚的抗蝕膜。(2)抗蝕膜的成圖用電子束平版印刷系統(tǒng)(加速電壓50keV)使抗蝕膜暴露于輻射。曝光后，將抗蝕膜在表6所示曝光后烘烤溫度(PEB)下加熱60秒。然后將抗蝕膜在2.38％TMAH水溶液中浸泡30秒，用蒸餾水漂洗30秒，然后干燥。在掃描電子顯微鏡下觀察所得單個(gè)線條或線條和間隔(line-and-space)圖案。(3)敏感度和分辨率的評(píng)價(jià)用單個(gè)線條或線條和間隔圖案上的極限分辨率作為分辨率。敏感度用提供極限分辨率的最小曝光時(shí)間表示。實(shí)施例1化合物5-1的合成(1)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷的合成向43.2g(0.4mol)鄰甲酚(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)和17.1g(0.1mol)β-萘乙酮(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)的混合物加熱至約30℃制備的溶液中，加入0.1ml硫酸、0.8ml3-巰基丙酸和10ml甲苯。在攪拌下進(jìn)行反應(yīng)。通過氣相色譜法證實(shí)轉(zhuǎn)化率達(dá)到100％之后，加入100ml甲苯。冷卻后，真空過濾分離出沉淀的固體，在攪拌下用60℃溫水清洗，通過硅膠柱色譜法提純，得到24g標(biāo)題化合物。(2)化合物5-1的合成向1.84g(5mmol)上面合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加2.62g(12mmol)二碳酸二叔丁酯(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末用蒸餾水清洗三遍，抽吸過濾，減壓干燥，得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例2化合物5-2的合成向1.84g(5mmol)實(shí)施例1中合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加1.32g(6mmol)二碳酸二叔丁酯。所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例3化合物5-3的合成(1)雙鄰苯二酚化合物的合成除用44.0g(0.4mol)鄰苯二酚(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)代替43.2g(0.4mol)鄰甲酚之外以與實(shí)施例1(1)中相同的方式合成1-(2-萘基)-1，1-二(3，4-二羥苯基)乙烷。(2)化合物5-3的合成向1.84g(5mmol)上面合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3，4-二羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加5.28g(24mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末用蒸餾水清洗三遍，抽吸過濾，減壓干燥，得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例4化合物5-4的合成將1.84g(5mmol)實(shí)施例1中合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)和0.43g(6mmol)乙基乙烯基醚(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例5化合物5-5的合成將1.84g(5mmol)實(shí)施例1中合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.76g(6mmol)環(huán)己基乙烯基醚混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例6化合物5-6的合成將1.84g(5mmol)實(shí)施例1中合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.50g(6mmol)二氫吡喃(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例7化合物5-7的合成(1)1-(2-萘基)-1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)乙烷的合成除用53.0g(0.3mol)2-環(huán)己基苯酚(來(lái)自HonshuChemicalIndustryCo.，Inc.的試劑)代替43.2g(0.4mol)鄰甲酚之外以與實(shí)施例1(1)中相同的方式合成標(biāo)題化合物。(2)化合物5-7的合成向2.52g(5mmol)上面合成的1-(2-萘基)-1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.43g(6mmol)乙基乙烯基醚混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/4)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例8化合物5-8的合成(1)1-(2-萘基)-1，1-二(4-羥苯基)乙烷的合成除用37.4g(0.4mol)苯酚代替43.2g(0.4mol)鄰甲酚之外以與實(shí)施例1(1)中相同的方式合成雙酚萘乙酮。(2)化合物5-8的合成除用1.70g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(4-羥苯基)乙烷代替1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷之外以與實(shí)施例1(2)中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例9化合物5-9的合成(1)1-(1-萘基)-1，1-二(4-羥苯基)甲烷的合成除用15.6g(0.1mol)α-萘甲醛(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)代替17.1g(0.1mol)β-萘乙酮之外以與實(shí)施例1(1)中相同的方式合成1-(1-萘基)-1，1-二(4-羥苯基)甲烷。(2)化合物5-9的合成除用1.63g(5mmol)1-(1-萘基)-1，1-二(4-羥苯基)甲烷代替1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷之外以與實(shí)施例1(2)中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例10化合物6-1的合成(1)1-(4’-聯(lián)苯)-1，1-二(4-羥苯基)甲烷的合成除用18.2g(0.1mol)4’-聯(lián)苯甲醛(來(lái)自MitsubishiGasChemicalCompany，Inc.)代替17.1g(0.1mol)β-萘乙酮之外以與實(shí)施例1(1)中相同的方式合成聯(lián)苯甲醛。(2)化合物6-1的合成除用1.76g(5mmol)上面合成的1-(4’-聯(lián)苯)-1，1-二(4-羥苯基)甲烷代替1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷之外以與實(shí)施例6中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例11化合物7-1的合成向1.91g(5mmol)雙鄰苯二酚芴(來(lái)自O(shè)sakaGasChemicalsCo.，Ltd.)與5ml二甲基乙酰胺(DMAc)混合制備的溶液中，緩慢加入4.80g(22mmol)二碳酸二叔丁酯和2.4g三乙胺。所得混合物在60℃下攪拌7小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中并重復(fù)進(jìn)行再沉淀。所得白色粉末減壓干燥得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例12化合物7-2的合成向1.91g(5mmol)雙鄰苯二酚芴(來(lái)自O(shè)sakaGasChemicalsCo.，Ltd.)與5ml二甲基乙酰胺(DMAc)混合制備的溶液中，緩慢加入3.27g(15mmol)二碳酸二叔丁酯和2.4g三乙胺。所得混合物在60℃下攪拌7小時(shí)。將反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法分離和提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/4)，然后減壓干燥得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例13化合物7-3的合成(1)9，9-二(3，4，5-三羥苯基)芴的合成向50.4g(0.4mol)連苯三酚(KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)和18.0g(0.1mol)9-芴酮(KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)的混合物加熱至約60℃制備的溶液中，加入0.1ml硫酸、0.8ml3-巰基丙酸和10ml甲苯。在攪拌下進(jìn)行反應(yīng)。9-芴酮的轉(zhuǎn)化率達(dá)到100％之后，加入100ml甲苯。真空過濾收集通過冷卻沉淀的固體物質(zhì)，在攪拌下用60℃溫水清洗，和重結(jié)晶，得到4.30g標(biāo)題化合物。(2)化合物7-3的合成向0.103g(0.25mmol)上面合成的9，9-二(3，4，5-三羥苯基)芴與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)30分鐘滴加0.39g(1.8mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末減壓干燥，得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例14化合物7-4的合成將1.75g(5mmol)雙酚芴(來(lái)自O(shè)sakaGasChemicalsCo.，Ltd.)與5ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.50g(6mmol)二氫吡喃混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例15化合物7-5的合成將1.89g(5mmol)10，10-二(4-羥苯基)-9-蒽酮(來(lái)自HonshuChemicalsIndustryCo.，Ltd.)與20ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.50g(6mmol)二氫吡喃混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例16化合物8-1的合成(1)1，1-二(4-羥苯基)二氫苊的合成向43.2g(0.4mol)苯酚和16.8g(0.1mol)二氫苊酮的混合物加熱至約30℃制備的溶液中，加入0.1ml硫酸、0.8ml3-巰基丙酸和10ml甲苯。在攪拌下進(jìn)行反應(yīng)。轉(zhuǎn)化率達(dá)到100％之后，加入100ml甲苯。真空過濾收集通過冷卻沉淀的固體物質(zhì)，在攪拌下用60℃溫水清洗，和重結(jié)晶，得到標(biāo)題化合物。(2)化合物8-1的合成向1.69g(5mmol)上面合成的1，1-二(4-羥苯基)二氫苊與10ml無(wú)水丙酮、0.073g(0.29mmol)對(duì)甲苯磺酸吡啶和0.50g(6mmol)二氫吡喃混合制備的溶液在室溫下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例17化合物8-2的合成(1)1，1-二(4-羥苯基)二氫苊-2-酮的合成除用16.2g(0.1mol)二氫苊醌(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.)代替16.8g(0.1mol)二氫苊酮之外以與實(shí)施例16(1)中相同的方式合成1，1-二(4-羥苯基)二氫苊-2-酮。(2)化合物8-2的合成除用1.83g(5mmol)1，1-二(4-羥苯基)二氫苊-2-酮代替1.69g(5mmol)1，1-二(4-羥苯基)二氫苊之外以與實(shí)施例16(2)中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例18化合物8-3的合成(1)1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)二氫苊的合成除用53.0g(0.3mol)2-環(huán)己基苯酚代替43.2g(0.4mol)苯酚之外以與實(shí)施例16(1)中相同的方式合成1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)二氫苊。(2)化合物8-3的合成除用2.51g(5mmol)1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)二氫苊代替1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷之外以與實(shí)施例4中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例19化合物8-4的合成向1.76g(5mmol)實(shí)施例17(1)中合成的1，1-二(4-羥苯基)二氫苊-2-酮與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加2.64g(12mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末用蒸餾水清洗三遍，抽吸過濾，減壓干燥，得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例20化合物8-5的合成除用51.0g(0.3mol)2-苯基苯酚代替53.0g(0.3mol)2-環(huán)己基苯酚之外以與實(shí)施例18中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例21化合物9-1的合成除用44.0g(0.4mol)間苯二酚代替43.2g(0.4mol)鄰甲酚之外以與實(shí)施例6中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例22化合物10-1的合成(1)2，8-二羥基-5-(4-聯(lián)苯基)呫噸的合成除用44.0g(0.4mol)間苯二酚代替37.4g(0.4mol)苯酚之外以與實(shí)施例10(1)中相同的方式合成2，8-二羥基-5-(4-聯(lián)苯基)呫噸。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。(2)化合物10-1的合成除用1.83g(5mmol)2，8-二羥基-5-(4-聯(lián)苯基)呫噸代替1.76g(5mmol)1，1-二(4-羥苯基)二氫苊-2-酮之外以與實(shí)施例19中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例23化合物10-2的合成除用44.0g(0.4mol)間苯二酚代替37.4g(0.4mol)苯酚之外以與實(shí)施例10中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例24化合物11-1的合成除用44.0g(0.4mol)間苯二酚代替43.2g(0.4mol)鄰甲酚和用18.0g(0.1mol)9-芴代替17.1g(0.1mol)β-萘乙酮之外以與實(shí)施例1中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例25化合物11-2的合成除用18.0g(0.1mol)9-芴酮(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)代替18.2g(0.1mol)聯(lián)苯甲醛之外以與實(shí)施例22中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例26化合物11-3的合成除用1.82g(5mmol)實(shí)施例24中合成的2，8-二羥基-5-(9，9-芴基)呫噸代替1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷之外以與實(shí)施例4中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例27化合物12-1的合成除用16.8g(0.1mol)二氫苊酮代替18.0g(0.1mol)9-芴酮之外以與實(shí)施例26中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例28混合物13-1的合成R＝H或叔丁氧羰基叔丁氧羰基的引入度＝55％向1.75g(5mmol)雙酚芴與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加1.20g(5.5mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題混合物。通過1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為55％。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例29混合物13-2的合成R＝H或叔丁氧羰基叔丁氧羰基的引入度＝75％向1.91g(5mmol)雙鄰苯二酚芴與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加3.27g(15mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題混合物。通過1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為75％。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例30混合物13-3的合成R＝H或叔丁氧羰基叔丁氧羰基的引入度＝80％向0.103g(0.25mmol)實(shí)施例13(1)中合成的9，9-二(3，4，5-三羥苯基)芴與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)30分鐘滴加0.26g(1.2mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末減壓干燥得到標(biāo)題混合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為80％。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例31混合物13-4的合成R＝H或叔丁氧羰基叔丁氧羰基的引入度＝95％向1.84g(5mmol)1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加1.20g(9.5mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題混合物。通過1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為95％。分析結(jié)果示于表1和2中。實(shí)施例32混合物13-5的合成R＝H或叔丁氧羰基叔丁氧羰基的引入度＝95％向1.91g(5mmol)雙鄰苯二酚芴與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加3.27g(19mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。反應(yīng)液體通過硅膠柱色譜法提純(洗脫劑乙酸乙酯/己烷＝1/3)得到標(biāo)題混合物。通過1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為95％。分析結(jié)果示于表1和2中。對(duì)比例1化合物14-1的合成向1.14g(5mmol)雙酚A(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)與5ml無(wú)水丙酮和1.2mg二甲氨基吡啶混合制備的溶液中，經(jīng)10分鐘滴加2.62g(12mmol)二碳酸二叔丁酯。將所得混合物在40℃下攪拌24小時(shí)。將反應(yīng)液體倒入過量的水中沉淀出固體物質(zhì)。所得白色粉末用蒸餾水清洗三遍，抽吸過濾，減壓干燥，得到標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。對(duì)比例2化合物14-2的合成除用1.34g(5mmol)雙酚Z(來(lái)自KantoChemicalCo.，Inc.的試劑)代替1.14g(5mmol)雙酚A之外以與對(duì)比例1中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。對(duì)比例3化合物14-3的合成除用1.46g(5mmol)三(4-羥苯基)甲烷(來(lái)自HonshuChemicalIndustryCo.，Inc.)代替1.14g(5mmol)雙酚A和二碳酸二叔丁酯的量由2.62g(12mmol)改為3.93g(16mmol)之外以與對(duì)比例1中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。對(duì)比例4化合物14-4的合成除用1.77g(5mmol)三(4-羥苯基)苯(來(lái)自AldrichChemicalCo.，Inc.的試劑)代替1.14g(5mmol)雙酚A和二碳酸二叔丁酯的量由2.62g(12mmol)改為3.93g(16mmol)之外以與對(duì)比例1中相同的方式合成標(biāo)題化合物。通過元素分析和1H-NMR測(cè)量確定該化合物的結(jié)構(gòu)。分析結(jié)果示于表1和2中。對(duì)比例5除用0.74g(5mmol)重均分子量8000的聚羥基苯乙烯(PHS-1)(來(lái)自AldrichChemicalCo.，Inc.)代替1.14g(5mmol)雙酚A和二碳酸二叔丁酯的量由2.62g(12mmol)改為0.37g(1.5mmol)之外以與對(duì)比例1中相同的方式合成混合物(PHS-2)。通過1H-NMR測(cè)量時(shí)，酚式羥基中酸解離官能團(tuán)的引入度為30％。表1表2<tablesid="table3"num="003"><tablewidth="789">2930313213-213-313-413-57.9-7.1(14H，m)，5.5(1H，br)，2.1(3H，s)，1.5(27H，s)7.7-7.3(8H，s)，6.9(4H，s)，5.5(1H，br)，1.5(43H，s)7.6-6.8(13H，m)，2.1(9H，d)，1.4(17H，s)7.9-7.1(14H，m)，5.5(1H，br)，2.1(3H，s)，1.5(34H，s)對(duì)比例123414-114-214-314-47.3(2H，d)，7.1(2H，d)，2.2(4H，s)，1.5(18H，s)7.3(2H，d)，7.1(2H，d)，2.2-1.5(28H，m)7.3(12H，s)，1.5(27H，s)7.7(9H，m)，7.3(6H，d)，1.5(27H，m)</table></tables>實(shí)施例33-64和對(duì)比例5-9化合物和輻射敏感組合物的性質(zhì)測(cè)試實(shí)施例1-32和對(duì)比例1-4中所得化合物和組合物的性質(zhì)。結(jié)果示于表3和4中。實(shí)施例65測(cè)試由50mol％化合物5-6和50mol％其中間產(chǎn)物1-(2-萘基)-1，1-二(3-甲基-4-羥苯基)乙烷(化合物14-5)組成的混合物的性質(zhì)。取代基OR1的數(shù)量占取代基OR1和OH總數(shù)的25％。結(jié)果示于表3和4中。實(shí)施例66測(cè)試由40mol％化合物5-7和60mol％其中間產(chǎn)物1-(2-萘基)-1，1-二(3-環(huán)己基-4-羥苯基)乙烷(化合物14-6)組成的混合物的性質(zhì)。取代基OR1的數(shù)量占取代基OR1和OH總數(shù)的20％。結(jié)果示于表3和4中。對(duì)比例9測(cè)試化合物14-5的性質(zhì)。結(jié)果示于表3和4中。表3表4*與NS組比較，p＜0.01原位雜交實(shí)驗(yàn)中發(fā)現(xiàn)MMP-9和TIMP-1的mRNA陽(yáng)性信號(hào)在腫瘤細(xì)胞和間質(zhì)中均有表達(dá)，以在間質(zhì)中表達(dá)為主，特別是TIMP-1間質(zhì)陽(yáng)性染色明顯，腫瘤組織中血管周圍陽(yáng)性率較高。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明“乳康顆粒”組MMP-9陽(yáng)性信號(hào)IOD為1683.9±707.8，與NS組(5968.1±3478.6)比較差別有統(tǒng)計(jì)學(xué)意義，其余各組與NS比較無(wú)統(tǒng)計(jì)學(xué)差異。從MMP-9/TIMP-1比值來(lái)看以散結(jié)“乳康顆?！苯M下降最明顯。提示散結(jié)“乳康顆?！苯M中藥主要通過下調(diào)MMP-9mRNA，不利于腫瘤細(xì)胞侵襲，可能是其抗轉(zhuǎn)移機(jī)制之一。以下通過實(shí)施例來(lái)進(jìn)一步闡述本發(fā)明藥物的顆粒劑的制備方法。本發(fā)明以下實(shí)施例所用山慈姑確定產(chǎn)地為貴州，系蘭科植物杜鵑蘭Cremastraappendiculata(D.Don)Makino、獨(dú)蒜蘭Pkeuibebulbocodioides(Franch.)Rilfe的干燥假鱗莖；本發(fā)明以下實(shí)施例所用莪術(shù)確定產(chǎn)地為廣西，系姜科姜黃屬植物莪術(shù)CurcumakwansiensisS.G.LeeerC.F.Liang的根狀莖；本發(fā)明以下實(shí)施例所用生薏苡仁確定產(chǎn)地為貴州，系禾本科植物薏苡CoixlacrymajobiL.var.mayuen(Roman.)Stap得干燥成熟種仁；本發(fā)明以下實(shí)施例所用八月札確定產(chǎn)地為安徽，系木通科藤本植物木通Akebiaquinata(Thunb.)decne、三葉木通A.trifoliate(Thunb.)Koidz.白木通Akebiatrifoliate(Thunb.)Koidz.var.australis(Diels)Rehd.的果實(shí)；本發(fā)明以下實(shí)施例所用露蜂房為膜翅目胡蜂科昆蟲大黃蜂(PolistesmandarinusSauss)或同屬近緣昆蟲的巢。實(shí)施例1實(shí)施例67-68和對(duì)比例10-16抗蝕圖案和抗干蝕性的評(píng)價(jià)如表5中所示配制實(shí)施例1-32中所得化合物，所得制劑用0.2μm特氟隆(注冊(cè)商標(biāo))過濾器過濾制備輻射敏感組合物。評(píng)價(jià)由所述輻射敏感組合物形成的抗蝕圖的分辨率和敏感度。結(jié)果示于表6中。實(shí)施例67-88中都得到邊緣不平度極小的良好圖案。而且曝光過程中出氣量小。用實(shí)施例72和86的各輻射敏感組合物在鎵-砷晶片上形成100nm厚的抗蝕膜。將該抗蝕膜用RIE蝕刻裝置在70sccm、50W和20Pa的蝕刻條件下用四氟甲烷蝕刻氣體干蝕30秒、60秒、90秒和120秒的蝕刻時(shí)間。用厚度測(cè)量裝置測(cè)量各蝕刻時(shí)間的厚度。由擬合測(cè)量值的近似線的斜率確定各抗蝕膜的蝕刻速度。實(shí)施例72中蝕刻速度為8.8nm/min，實(shí)施例86中為20nm/min，表明抗蝕性高。表5PAG-1九氟丁磺酸二苯基甲苯基锍PAG-2三氟甲磺酸三苯基锍Q-1三辛胺Q-2二氮雜雙環(huán)辛烷S-1PGMEAS-2EL表6實(shí)施例89抗干蝕性用實(shí)施例72和86的各輻射敏感組合物在鎵-砷晶片上形成100nm厚的抗蝕膜。將該抗蝕膜用RIE蝕刻裝置在70sccm、50W和20Pa的蝕刻條件下用四氟甲烷蝕刻氣體干蝕30秒、60秒、90秒和120秒的蝕刻時(shí)間。用厚度測(cè)量裝置測(cè)量各蝕刻時(shí)間的厚度。由擬合測(cè)量值的近似線的斜率確定各抗蝕膜的蝕刻速度。實(shí)施例72中蝕刻速度為8.8nm/min，實(shí)施例86中為20nm/min，表明抗蝕性高。工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明輻射敏感化合物用作非聚合物型輻射敏感組合物的主要成分，該組合物不含金屬催化劑而且敏感度、分辨率、耐熱性、抗蝕性和在溶劑中的溶解性極好。所述輻射敏感組合物與增溶劑組合使用提供具有高分辨率和高敏感度的圖案，因而可以高產(chǎn)率生產(chǎn)高度集成的半導(dǎo)體裝置。權(quán)利要求1.一種輻射敏感組合物，包含1-80重量％的固體組分和20-99重量％的溶劑，該組合物含有滿足以下要求a和b的化合物B(a)具有通過在由各自有5至45個(gè)碳原子的芳族酮或芳族醛與有6至15個(gè)碳原子和1至3個(gè)酚式羥基的化合物縮合反應(yīng)產(chǎn)生的多酚化合物A的至少一個(gè)酚式羥基中引入酸解離官能團(tuán)形成的結(jié)構(gòu)，和(b)具有300至3000的分子量；而且化合物B和增溶劑的總量占固體組分總重的50-99.999重量％。2.權(quán)利要求1所述輻射敏感組合物，其中所述化合物B有共軛結(jié)構(gòu)，包含至少兩個(gè)苯環(huán)和/或雜原子的非鍵合電子對(duì)。3.權(quán)利要求2所述輻射敏感組合物，其中所述共軛結(jié)構(gòu)是選自聯(lián)苯結(jié)構(gòu)、萘結(jié)構(gòu)、蒽結(jié)構(gòu)、菲結(jié)構(gòu)、芘結(jié)構(gòu)、芴結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)、二苯酮結(jié)構(gòu)、呫噸結(jié)構(gòu)、和噻噸結(jié)構(gòu)的至少一種結(jié)構(gòu)。4.權(quán)利要求1至3之任一所述輻射敏感組合物，其中所述固體組分含有至少一種受到例如極遠(yuǎn)紫外線、電子束和X-射線的射線輻照時(shí)產(chǎn)生酸的產(chǎn)酸劑。5.權(quán)利要求1至3之任一所述輻射敏感組合物，其中所述化合物B是選自下式1所示化合物的至少一種化合物其中每個(gè)R1基獨(dú)立地為選自取代甲基、1-取代乙基、1-取代正丙基、1-支化烷基、甲硅烷基、?；?、1-取代烷氧基甲基、環(huán)醚基、和烷氧羰基的酸解離官能團(tuán)；每個(gè)R2基獨(dú)立地為選自鹵原子、烷基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、鏈烯基、?；?、烷氧羰基、烷酰氧基、芳酰氧基、氰基、和硝基的基團(tuán)；R4為氫原子、C1-6烷基或芳基，R5為具有聯(lián)苯結(jié)構(gòu)或萘結(jié)構(gòu)的一價(jià)C10-18基團(tuán)，或者R4與R5彼此鍵合時(shí)-CR4R5-可為具有芴結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)或二苯酮結(jié)構(gòu)的二價(jià)C10-18基團(tuán)；m0和n0各自為0至3的整數(shù)，m1和n1各自為0至3的整數(shù)，m2和n2各自為0至4的整數(shù)，均滿足下式1≤m0+m1+m2≤5，1≤n0+n1+n2≤5，1≤m1+n1≤6，1≤m0+m1≤3，和1≤n0+n1≤3；和兩個(gè)苯環(huán)的位于-CR4R5-的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式2所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4和R5與前面相同；p0和q0各自為0至2的整數(shù)，p1和q1各自為0至2的整數(shù)，p2和q2各自為0至3的整數(shù)，均滿足1≤p0+p1+p2≤4，1≤q0+q1+q2≤4，1≤p1+q1≤4，1≤p0+p1≤2，和1≤q0+q1≤2；和X為氧原子或硫原子。6.權(quán)利要求5所述輻射敏感組合物，其中R5用下式表示或其中R3為氫原子或C1-6烷基；p3為0至4的整數(shù)；q3為0至3的整數(shù)；而且p3和q3滿足0≤p3+q3≤7。7.權(quán)利要求5所述輻射敏感組合物，其中-CR4R5-的R4和R5彼此鍵合使-CR4R5-形成下式所示二價(jià)基團(tuán)或其中R3為氫原子或C1-6烷基；Y為單鍵或羰基；Z為亞甲基或羰基；p3為0至4的整數(shù)；q3為0至3的整數(shù)；而且p3和q3滿足0≤p3+q3≤7。8.權(quán)利要求5至7之任一所述輻射敏感組合物，其中所述化合物B用下式3表示其中R1、R2、R4、R5、m2和n2與前面所定義的相同，就-CR4R5-而言位于兩個(gè)苯環(huán)的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式4所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4、R5、X、p2和q2與前面所定義的相同。9.權(quán)利要求1至8之任一所述輻射敏感組合物，其中所述化合物B是通過在多酚化合物A的酚式羥基總數(shù)的10-95％中引入酸解離官能團(tuán)生產(chǎn)的。10.權(quán)利要求1至9之任一所述輻射敏感組合物，其中所述化合物B在23℃下以5重量％或更多的量溶于丙二醇單甲醚乙酸酯或乳酸乙酯。11.權(quán)利要求1至10之任一所述輻射敏感組合物，包含5-40重量％的固體組分和60-95重量％的溶劑，含有占固體組分總重的80-99重量％的化合物B。12.下式1所示化合物其中每個(gè)R1基獨(dú)立地為選自取代甲基、1-取代乙基、1-取代正丙基、1-支化烷基、甲硅烷基、?；?-取代烷氧基甲基、環(huán)醚基、和烷氧羰基的酸解離官能團(tuán)；每個(gè)R2基獨(dú)立地為選自鹵原子、烷基、環(huán)烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、鏈烯基、?；⑼檠豸驶?、烷酰氧基、芳酰氧基、氰基、和硝基的基團(tuán)；R4為氫原子、C1-6烷基或芳基，R5為具有聯(lián)苯結(jié)構(gòu)或萘結(jié)構(gòu)的一價(jià)C10-18基團(tuán)，或者R4與R5彼此鍵合時(shí)-CR4R5-可為具有芴結(jié)構(gòu)、二氫苊結(jié)構(gòu)、1-酮基二氫苊結(jié)構(gòu)或二苯酮結(jié)構(gòu)的二價(jià)C10-18基團(tuán)；m0和n0各自為0至3的整數(shù)，m1和n1各自為0至3的整數(shù)，m2和n2各自為0至4的整數(shù)，均滿足下式1≤m0+m1+m2≤5，1≤n0+n1+n2≤5，1≤m1+n1≤6，1≤m0+m1≤3，和1≤n0+n1≤3；和兩個(gè)苯環(huán)的位于-CR4R5-的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式2所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4和R5與前面相同；p0和q0各自為0至2的整數(shù)，p1和q1各自為0至2的整數(shù)，p2和q2各自為0至3的整數(shù)，均滿足1≤p0+p1+p2≤4，1≤q0+q1+q2≤4，1≤p1+q1≤4，1≤p0+p1≤2，和1≤q0+q1≤2；和X為氧原子或硫原子。13.權(quán)利要求12所述化合物，其中R5用下式表示或其中R3為氫原子或C1-6烷基；p3為0至4的整數(shù)；q3為0至3的整數(shù)；而且p3和q3滿足0≤p3+q3≤7。14.權(quán)利要求12所述化合物，其中-CR4R5-的R4和R5彼此鍵合使-CR4R5-形成下式所示二價(jià)基團(tuán)或其中R3為氫原子或C1-6烷基；Y為單鍵或羰基；Z為亞甲基或羰基；p3為0至4的整數(shù)；q3為0至3的整數(shù)；而且p3和q3滿足0≤p3+q3≤7。15.權(quán)利要求12至14之任一所述化合物，用下式3表示其中R1、R2、R4、R5、m2和n2與前面所定義的相同，就-CR4R5-而言位于兩個(gè)苯環(huán)的鄰位的兩個(gè)碳原子可通過氧原子或硫原子相互鍵合形成下式4所示呫噸結(jié)構(gòu)或噻噸結(jié)構(gòu)其中R1、R2、R4、R5、X、p2和q2與前面所定義的相同。16.權(quán)利要求12至14之任一所述化合物，是選自以下的至少一種化合物和其中R1至R4、Y、Z、m0至m2、n0至n2、p0至p3、和q0至q3如前面所定義。17.權(quán)利要求12至16之任一所述化合物，其中OR1基的數(shù)量占OR1基和OH基總數(shù)的10-95％。18.權(quán)利要求12至17之任一所述化合物，其在23℃下以5重量％或更多的量溶于丙二醇單甲醚乙酸酯或乳酸乙酯。全文摘要右式(1)表示的化合物，其中R文檔編號(hào)C07C43/23GK1853141SQ200480026859公開日2006年10月25日申請(qǐng)日期2004年8月30日優(yōu)先權(quán)日2003年9月18日發(fā)明者小黑大,越后雅敏申請(qǐng)人:三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社