用于多晶硅還原爐的噴嘴的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及多晶硅生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種用于多晶硅還原爐的噴嘴。
【背景技術(shù)】
[0002]相關(guān)技術(shù)中的多晶硅還原爐，其進(jìn)氣管上設(shè)有用于向爐體內(nèi)噴射氣體的噴嘴，但由于噴嘴的噴氣方式固定，無法滿足多晶硅還原爐各個(gè)運(yùn)行期間的要求，影響多晶硅棒的表面質(zhì)量，導(dǎo)致多晶硅棒的粗細(xì)變化幅度較大。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型旨在至少在一定程度上解決相關(guān)技術(shù)中的上述技術(shù)問題之一。為此，本實(shí)用新型提出一種用于對(duì)晶硅還原爐的噴嘴，該用于多晶硅還原爐的噴嘴能夠滿足多晶硅還原爐各個(gè)運(yùn)行期間的要求，從而使多晶硅棒均勻生長，提高多晶硅棒的表面質(zhì)量。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，根據(jù)本實(shí)用新型提出一種用于多晶硅還原爐的噴嘴，所述噴嘴包括:基座，所述基座包括內(nèi)直徑恒定的順流部和位于所述順流部上方且內(nèi)直徑由下至上逐漸增大的引流部；導(dǎo)向桿，所述導(dǎo)向桿設(shè)在所述基座內(nèi)；引流轉(zhuǎn)子，所述引流轉(zhuǎn)子沿所述導(dǎo)向桿的軸向可移動(dòng)且可旋轉(zhuǎn)地套設(shè)在所述導(dǎo)向桿上，所述引流轉(zhuǎn)子的外周面上設(shè)有多個(gè)側(cè)旋流道。
[0005]根據(jù)本實(shí)用新型的用于多晶硅還原爐的噴嘴能夠滿足多晶硅還原爐各個(gè)運(yùn)行期間的要求，從而使多晶硅棒均勻生長，提高多晶硅棒的表面質(zhì)量。
[0006]另外，根據(jù)本實(shí)用新型的用于多晶硅還原爐的噴嘴還可以具有如下附加的技術(shù)特征:
[0007]所述用于多晶硅還原爐的噴嘴還包括止擋螺母，所述導(dǎo)向桿上設(shè)有外螺紋，所述止擋螺母配合在所述導(dǎo)向桿的外螺紋上且位于所述引流轉(zhuǎn)子上方。
[0008]所述導(dǎo)向桿的底部設(shè)有止擋臺(tái)。
[0009]所述止擋臺(tái)上連接有固定在所述基座上的支腿。
[0010]所述側(cè)旋流道以預(yù)定仰角從所述引流轉(zhuǎn)子的底部旋轉(zhuǎn)至所述引流轉(zhuǎn)子的頂部。
[0011]所述側(cè)旋流道的橫截面為矩形或圓形。
[0012]所述引流轉(zhuǎn)子的側(cè)表面的底部倒角。
[0013]所述引流轉(zhuǎn)子的內(nèi)表面的母線為雙曲線、拋物線、橢圓弧線或漸開線。
【附圖說明】
[0014]圖1是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件的軸向剖視圖。
[0015]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件的徑向剖視圖。
[0016]圖3是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的多晶硅還原爐的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖4是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的多晶硅還原爐的局部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖5是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的多晶硅還原爐的噴嘴的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]附圖標(biāo)記:用于多晶硅還原爐的底盤組件10、底盤本體100、螺旋流道110、進(jìn)氣腔111、冷卻液進(jìn)口 120、冷卻液出口 130、底盤法蘭140、上底板150、下底板160、中隔板170、冷卻腔180、導(dǎo)流板190、弧形段191、電極座200、進(jìn)氣管300、排氣管400、冷卻液進(jìn)管500、冷卻液出管600 ；
[0020]多晶硅還原爐1、爐體20、半球形封頭21、進(jìn)水管22、出水管23、電極30、上觀察試鏡41、中觀察試鏡42、下觀察試鏡43、噴嘴50、基座51、導(dǎo)向桿52、止擋臺(tái)53、支腿54、引流轉(zhuǎn)子55、側(cè)旋流道56、止擋螺母57、進(jìn)氣環(huán)管61、進(jìn)氣口 62、進(jìn)氣支管63、進(jìn)氣擋板64、排氣環(huán)管71、排氣口 72、排氣支管73、進(jìn)液管74、出液管75、膨脹節(jié)76。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，旨在用于解釋本實(shí)用新型，而不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
[0022]下面參考附圖描述根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10。
[0023]如圖1和圖2所示，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10包括底盤本體100、多個(gè)電極座200、多個(gè)進(jìn)氣管300和多個(gè)排氣管400。
[0024]底盤本體100內(nèi)限定有多個(gè)螺旋流道110和位于多個(gè)螺旋流道110下方的進(jìn)氣腔111 (上下方向如附圖中的箭頭A所示)，多個(gè)螺旋流道110從底盤本體100的中心處旋向底盤本體100的外周緣處，底盤本體100上設(shè)有與多個(gè)螺旋流道110連通的冷卻液進(jìn)口120和多個(gè)冷卻液出口 130。多個(gè)電極座200設(shè)置在底盤本體100上。多個(gè)進(jìn)氣管300和多個(gè)排氣管400設(shè)置在底盤本體100上，多個(gè)進(jìn)氣管300分別與進(jìn)氣腔111連通，多個(gè)排氣管400分別貫穿底盤本體100。
[0025]根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10，通過在底盤本體100內(nèi)設(shè)置從底盤本體100的中心旋向底盤本體100的外周緣的多個(gè)螺旋流道110，這樣冷卻液可以通過冷卻液進(jìn)口 120分別進(jìn)入多個(gè)螺旋流道110，對(duì)底盤本體100的上表面、多個(gè)進(jìn)氣管300、多個(gè)排氣管400和多個(gè)電極座200進(jìn)行強(qiáng)制冷卻。由于在底盤本體100內(nèi)設(shè)置多個(gè)螺旋流道110，使得每個(gè)螺旋流道110的流程較短，減少了冷卻液的流動(dòng)阻力，提高了冷卻效果，且避免了底盤本體100徑向溫差過大，有利于防止底盤本體100產(chǎn)生溫差應(yīng)力和變形。
[0026]此外，底盤本體100內(nèi)進(jìn)一步限定了與進(jìn)氣管300連通的進(jìn)氣腔111，進(jìn)氣氣體首先進(jìn)入進(jìn)氣腔111，均勻分散后由多個(gè)進(jìn)氣管300進(jìn)入爐體內(nèi)，由此可以提高進(jìn)氣的均勻性。
[0027]因此，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10具有冷卻液流動(dòng)阻力小、冷卻效果好、徑向溫度分布均勻、不易產(chǎn)生溫差應(yīng)力和變形、進(jìn)氣均勻、工作穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。
[0028]下面參考附圖描述根據(jù)本實(shí)用新型具體實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10。
[0029]在本實(shí)用新型的一些具體實(shí)施例中，如圖1和圖2所示，根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的用于多晶硅還原爐的底盤組件10包括底盤本體100、多個(gè)電極座200、多個(gè)進(jìn)氣管300和多個(gè)排氣管400。
[0030]進(jìn)一步地，多個(gè)螺旋流道110的長度相等，且多個(gè)螺旋流道110的相同長度處的寬度相等。由此可以進(jìn)一步提高底盤本體100徑向溫度的均勻性，從而進(jìn)一步防止底盤本體100產(chǎn)生溫差應(yīng)力和變形。
[0031]可選地，如圖1所示，螺旋流道110為六個(gè)，六個(gè)螺旋流道110沿底盤本體100的徑向盤繞成七層，冷卻液進(jìn)口 120設(shè)置在底盤本體100的中心處，冷卻液出口 130設(shè)置在底盤本體100的外周緣處，冷卻液由底盤本體100中心經(jīng)螺旋流道110后排出。
[0032]在本實(shí)用新型的一些具體示例中，如圖1和圖2所示，底盤本體100包括底盤法蘭140、上底板150、下底板160、中隔板170。底盤法蘭140用于連接爐體。上底板150、下底板160和中隔板170均設(shè)在底盤法蘭140內(nèi)，其中下底板160位于上底板150下方且中隔板170位于上底板150和下底板160之間，中隔板170與上底板150和底盤法蘭140限定出冷卻腔180，中隔板170與下底板160和底盤法蘭140限定出進(jìn)氣腔111。排氣管400和位于底盤本體100中心處的進(jìn)氣管300貫穿上底板150、中隔板170和下底板160，其余的進(jìn)氣管300貫穿上底板150和中隔板170。由此可以減少爐體下部進(jìn)氣管數(shù)量，簡化設(shè)備安裝和管路布置。
[0033]為了在上述底