一種陶琉彩熱熔燒制工藝，屬于琉璃燒制。

背景技術(shù)：

1、釉下彩是陶瓷器的一種主要裝飾手段，是用色料在已成型晾干的素坯上繪制各種圖案，然后罩以透明釉或者其他淺色釉，燒制而成。

2、“琉璃”一詞始于漢代，又稱“瑠璃”，目前琉璃泛指琉璃玻璃，是以石英粉、堿粉、硼砂為主要原料，添加無機(jī)色粉，燒制而成，多用于藝術(shù)品加工。琉璃透明度高，色彩豐富，?顏色鮮艷，層次感與強(qiáng)?，F(xiàn)有技術(shù)中，存在將琉璃涂覆在陶瓷坯體表面，進(jìn)行燒結(jié)的設(shè)計(jì)。但現(xiàn)有技術(shù)并為公開釉下彩和琉璃在同一陶瓷坯體上燒結(jié)呈現(xiàn)的設(shè)計(jì)。

3、申請人在進(jìn)一步研究中發(fā)現(xiàn)，要實(shí)現(xiàn)將釉下彩和琉璃在同一陶瓷坯體上呈現(xiàn)的設(shè)計(jì),存在以下問題：

4、1、工藝復(fù)雜，操作不便。如果先施釉，釉料容易沾染到琉璃涂覆區(qū)域，如果先涂覆琉璃，琉璃料容易污染釉料。一旦原料發(fā)生沾染，在燒制前不易觀察，燒制后顯色，才能清晰觀察到，但已無法補(bǔ)救。

5、2、燒制難度大，難以通過一次燒制成功，成品率低。第一，燒制完成后，琉璃容易在陶瓷坯體上開裂，形成或大或小的裂紋，裂紋會(huì)導(dǎo)致琉璃容易脫落，裂紋還會(huì)對琉璃顯色造成不良影響，導(dǎo)致燒制后的琉璃顏色飽和度降低或者發(fā)生偏色。第二，琉璃的軟化溫度低，當(dāng)達(dá)到釉料燒制溫度時(shí)，琉璃早已變成流動(dòng)性強(qiáng)的熔融態(tài)肆意流淌，甚至因釉料過高的燒制溫度而破壞了琉璃的顏色，導(dǎo)致琉璃變色，燒制失??；現(xiàn)有技術(shù)中雖存在低溫釉料，但現(xiàn)有低溫釉料存在燒制后易開裂的問題，開裂改變光線的折射方向，導(dǎo)致釉下彩顯色不佳，還存在釉層平整度不佳的問題。第三，如果采用多次燒制的方式，比如先燒制釉下彩，再燒制琉璃，多次燒制造成能耗翻倍，導(dǎo)致生產(chǎn)成本升高。

6、3、現(xiàn)有的琉璃在陶瓷坯體上燒制的工藝存在缺陷。第一，燒制時(shí)，通常采用瀝線阻擋熔融態(tài)琉璃流淌，但現(xiàn)有的瀝線燒制過程中容易開裂、脫落，造成熔融態(tài)琉璃突破瀝線阻隔肆意流淌，導(dǎo)致預(yù)先設(shè)計(jì)的圖案被污染被破壞，且無法補(bǔ)救。第二，現(xiàn)有的瀝線過于突兀，燒制后瀝線與釉料和琉璃料都不融合，邊界分明，即使對瀝線調(diào)色燒制后與琉璃料存在明顯色差。

7、目前，迫切需要一種能將釉下彩和琉璃在陶瓷坯體上一次燒制成型的高成品率工藝設(shè)計(jì)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種陶琉彩熱熔燒制工藝，該工藝能實(shí)現(xiàn)一次燒制成型，在瓷板上同時(shí)呈現(xiàn)釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域兩種風(fēng)格，并且燒制后表面平整，成品率高。

2、本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用方法的技術(shù)方案是：該陶琉彩熱熔燒制工藝，包括以下步驟：

3、1）在瓷板素坯上分隔出釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域；在釉下彩區(qū)域內(nèi)進(jìn)行彩繪；

4、2）使用遮蓋物，遮蓋琉璃區(qū)域；

5、3）向釉下彩區(qū)域表面施加釉料；

6、4）去除遮蓋物，繪制瀝線；

7、5）在琉璃區(qū)域中，鋪撒琉璃料，干燥，獲得處理后的瓷板；

8、6）將步驟5）處理后的瓷板，放入窯爐中進(jìn)行燒制，燒制溫度：

9、自22-28℃開始加熱，90-110分鐘升溫至190-220℃，恒溫?zé)?0-20分鐘；然后190-210分鐘升溫至790-810℃，恒溫?zé)?0-20分鐘；然后110-130分鐘升溫至1100-1180℃，恒溫10-20分鐘，?然后降溫，即得。

10、步驟6）所述的降溫具體操作為：?在窯爐內(nèi)，經(jīng)2-4小時(shí)降溫至900-950℃，經(jīng)7-12小時(shí)降溫至700-750℃，經(jīng)10-20小時(shí)降溫至190-250℃，經(jīng)6-10小時(shí)降溫至40℃以下，打開窯爐，自然降溫至室溫。

11、進(jìn)一步的，步驟6）所述的降溫具體操作為：?在窯爐內(nèi)，經(jīng)3小時(shí)降溫至910-930℃，經(jīng)8-10小時(shí)降溫至720-740℃，經(jīng)12-13小時(shí)降溫至200-220℃，經(jīng)7-8小時(shí)降溫至40℃以下，打開窯爐，自然降溫至室溫。

12、步驟3）所述釉料由以下重量份的原料組成：低溫熔塊20-30份、硅灰石10-15份、鋰輝石10-15份、鈉長石6-10份、石英5-8份、氧化鋁3-6份，白云石3-6份、3-6份、滑石3-6份。

13、所述低溫熔塊質(zhì)量百分比為59-66%sio2、10-15%al2o3、5-10%b2o3、3-6%cao、4-8%mgo、3-8%zno、?0-3%k2o、0-2%na2o、0-1%li2o。

14、步驟3）所述施加釉料的方式為噴釉或涂釉。

15、步驟4）所述瀝線包括以下重量份原料：煅燒高嶺土8-10份，氧化鋁7-11份、透鋰長石10-15份、海泡石6-10份、沸石2-5份。

16、步驟4）所述瀝線還包括以下重量份原料：色料0.2-2份，所述的色料為釉下彩用顏料或和琉璃料。

17、步驟4）所述繪制瀝線的操作為：沿著釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域相接的邊界繪制瀝線，并圍繞琉璃區(qū)域的外周繪制瀝線。沿著琉璃區(qū)域的外周繪制一圈瀝線，能防止燒制過程中，熔融態(tài)琉璃流出琉璃區(qū)域。邊界繪制瀝線，能防止熔融的琉璃流入釉下彩區(qū)域和瓷板坯體之外。

18、所述繪制瀝線的具體操作為：所繪制的瀝線數(shù)量為單條瀝線，或者為平行的多條瀝線。熔融態(tài)的琉璃容積過多、流動(dòng)性過強(qiáng)，多條平行相貼的瀝線能避免琉璃流到釉下彩區(qū)域，也能防止一條瀝線在燒制過程中出現(xiàn)斷點(diǎn)，導(dǎo)致琉璃流出污染瓷板上的圖案。

19、所述的繪制瀝線的操作，還包括：在琉璃區(qū)域內(nèi)，用瀝線圍成多個(gè)封閉區(qū)域。每個(gè)封閉區(qū)域內(nèi)鋪撒有琉璃料，經(jīng)燒制后，每個(gè)封閉區(qū)域形成一個(gè)琉璃色塊。通過在多個(gè)封閉區(qū)域內(nèi)鋪設(shè)不同顏色的琉璃料，實(shí)現(xiàn)在琉璃區(qū)域內(nèi)形成多個(gè)不同色的琉璃色塊，最終組成的彩色圖案。

20、對本發(fā)明的說明如下：

21、優(yōu)選的，步驟1）所述瓷板素坯上，分布的琉璃區(qū)域?yàn)橐粋€(gè)或多個(gè)，分布的釉下彩區(qū)域?yàn)橐粋€(gè)或多個(gè)。

22、優(yōu)選的，步驟1）所述彩繪所用的色料為釉下彩用顏料，為市售品。釉下彩用顏料燒制溫度范圍小于等于1180℃。優(yōu)選的，釉下彩用顏料的燒制溫度范圍，包含1100-1150℃的燒制溫度區(qū)間。

23、優(yōu)選的，步驟1）所述的瓷板素坯的荷重軟化溫度大于1180℃。優(yōu)選的，步驟1）所述的瓷板素坯的荷重軟化溫度大于1200℃。此符合此荷重軟化溫度的瓷板素坯在燒制過程中不會(huì)發(fā)生變形，避免了瓷板變形導(dǎo)致熔融態(tài)琉璃傾斜流淌。

24、優(yōu)選的，步驟1）所述瓷板素坯表面涂覆有化妝土層，并對瓷板素坯表面找平。優(yōu)選的，化妝土層由以下重量份的原料組成：白瓷泥69-71份，鋰輝石10-12份，鋯英粉7-9份，鉀長石9-11份。優(yōu)選的，白瓷泥為高白瓷泥、特白瓷泥中的一種。白瓷泥的能使化妝土層燒制后呈白色，作為底色，能提高釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域的的顯色效果。使用化妝土對瓷板坯體表面找平，能預(yù)防燒制過程中因瓷板表面不平，熔融態(tài)琉璃傾斜流淌的問題。

25、優(yōu)選的，步驟1）所述的瓷板素坯的荷重軟化溫度＞1180℃，瓷板素坯從20℃到800℃的平均線性熱膨脹系數(shù)為（3.8～8.0）×10-6℃-1。荷重軟化溫度＞1180℃能防止瓷板素坯在燒制過程中發(fā)生變形，避免因瓷板素坯變形而導(dǎo)致的流動(dòng)態(tài)的琉璃肆意流淌，避免污染釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域的布局。本發(fā)明的瓷板素坯能選擇的線性膨脹系數(shù)范圍較寬，有利于擴(kuò)大作為耗材的瓷板素坯的選擇范圍。進(jìn)一步優(yōu)選的，步驟1）所述的瓷板素坯的荷重軟化溫度≥1200℃，瓷板素坯從20℃到800℃的平均線性熱膨脹系數(shù)為（4.0～7.5）×10-6℃-1。

26、本發(fā)明的工藝，釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域均不易開裂，解決了開裂影響釉料層和琉璃層顯色的問題，這是由于：第一，在釉下彩區(qū)域采用的釉料配方，燒制后具有較好的韌性，能與較寬的瓷板素坯配合，升溫和降溫過程中釉料不易開裂，并且釉料在燒制過程中形成的釉層表面平整度較好；第二，采用了化妝土層作為瓷板素坯和琉璃層之間的緩沖層，避免琉璃層開裂。第三，在步驟6）中設(shè)計(jì)了升溫曲線和降溫曲線，在琉璃料自液態(tài)向固態(tài)變化時(shí)緩慢降溫，在琉璃料和釉料膨脹系數(shù)變化較大的溫度區(qū)間緩慢降溫，從而避免降溫過程中出現(xiàn)的琉璃層和釉料層開裂。

27、優(yōu)選的，步驟2）所述的遮蓋物為膠帶或/和紙。遮蓋物能阻隔釉料與琉璃區(qū)域接觸，使釉料僅覆蓋釉下彩。

28、優(yōu)選的，步驟3）所述釉料由以下重量份的原料組成：低溫熔塊22-24份、硅灰石12-13份、鋰輝石13-14份、鈉長石7-8份、石英6-7份、氧化鋁4-5份，白云石4-5份、硼砂4-5份、滑石4-5份。硅灰石、鋰輝石聯(lián)用能降低釉料的線膨脹系數(shù)，防止開裂。石英和滑石能增強(qiáng)釉料表面平整度。鈉長石，熔融溫度1100℃，透明度高，能降低釉料的燒制溫度。鈉長石和低溫熔塊作為溶劑，配合鋰輝石作為助溶劑，高溫狀態(tài)下對其他成分石英石、滑石、白云石以及其他組分溶解性好，使得釉面透亮平整。釉料1000-1050℃融化，且線膨脹系數(shù)低、韌性較好，不易開裂。

29、步驟3）所述釉料的制備方法為：按重量份將低溫熔塊、硅灰石、鋰輝石、鈉長石、石英、氧化鋁，白云石、滑石分別破碎、過篩、混合均勻，濕法球磨，磁吸除鐵，加入硼砂，混合均勻，制得釉漿；原料：球：水的質(zhì)量比1:1-1.5:0.8-2。

30、優(yōu)選的，低溫熔塊的融化溫度范圍800-1100℃。

31、優(yōu)選的，步驟4）所述瀝線所述瀝線的高度，大于步驟5）琉璃料的鋪撒厚度。瀝線高度為0.2-5mm，優(yōu)選的，瀝線高度0.5-2mm。

32、優(yōu)選的，步驟4）所述瀝線包括以下重量份原料：煅燒高嶺土8-10份，氧化鋁7-11份、透鋰長石10-15份、海泡石6-10份、沸石2-5份。瀝線的熱穩(wěn)定性優(yōu)于于釉料和琉璃料。燒制過程中，隨著溫度的上升沸石中的結(jié)合水以水蒸氣的形式散失，并在瀝線表面留下細(xì)小的用于吸附的孔隙，當(dāng)燒至800℃時(shí)琉璃先開始融化，逐漸變?yōu)閺?qiáng)流動(dòng)性的熔融液態(tài)琉璃；此時(shí)瀝線物理狀態(tài)穩(wěn)定，瀝線中的海泡石和沸石形具有較好吸附性，吸附熔融液態(tài)的琉璃，同時(shí)，還能通過瀝線表面形成的孔隙，吸附熔融液態(tài)的琉璃，使得瀝線能吸附一部分琉璃的顏色，解決了瀝線與琉璃不融合、瀝線與琉璃色差過大過于突兀的問題，還能通過吸附熔融態(tài)的琉璃，阻擋琉璃肆意流淌。當(dāng)燒結(jié)溫度達(dá)到1000℃，釉料逐漸融化，流動(dòng)性增強(qiáng)形成釉層，此時(shí)物理狀態(tài)穩(wěn)定的瀝線能吸附一部分融化的釉料，使得釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域邊界處的瀝線不會(huì)過分突兀，隨著溫度的繼續(xù)上升，瀝線中的沸石逐漸融化作為溶劑，融合瀝線中其他組分，促進(jìn)瀝線與瓷板坯體的粘合。同時(shí)，由于沸石的添加量較少，并不會(huì)使得瀝線完全軟化成為流動(dòng)態(tài)，因此瀝線不會(huì)失去阻隔效果。最終燒制結(jié)束后，瀝線既能起到阻隔釉料和琉璃料的效果，也能因吸附釉料和琉璃料的顏色，使得瀝線在視覺上不顯得突兀。

33、瀝線與琉璃區(qū)域同色，其他色料燒結(jié)時(shí)會(huì)發(fā)生變色，導(dǎo)致與琉璃區(qū)域顏色出現(xiàn)色差，而選用與琉璃區(qū)域同色的琉璃料則不會(huì)。

34、步驟4）所述瀝線的制備方法為：按重量份將原料粉碎成粉，投入球磨機(jī)中加水球磨，磁吸除鐵，干燥獲得瀝線粉；使用時(shí)將瀝線粉與水按質(zhì)量比2-5:1均勻混合，擠出繪制形成瀝線。所述擠出繪制所用工具為帶有針管頭的擠壓瓶，或者帶有錐狀尖嘴的擠壓瓶。

35、當(dāng)含有色料時(shí)，步驟4）所述瀝線的制備方法為：按重量份將原料粉碎成粉，投入球磨機(jī)中加水球磨，磁吸除鐵，干燥，獲得原料粉；向原料粉中加入色料混勻，獲得瀝線粉；將瀝線粉與水按質(zhì)量比2-5:1均勻混合，擠出繪制形成瀝線。

36、步驟5）所述琉璃料為粉狀料，所述琉璃料的粒徑≤0.1mm，融化溫度800-1000℃。琉璃料的原料包括石英粉、堿粉、硼砂和無機(jī)色粉，經(jīng)燒制而成。

37、步驟6）所述的降溫為勻速降溫，所述的升溫為勻速升溫。

38、優(yōu)選的，步驟6）的具體操作為：自22-28℃開始加熱，100分鐘升溫至200℃，在200℃恒溫?zé)?4-16分鐘；然后200分鐘升溫至800℃，恒溫?zé)?4-16分鐘；然后120分鐘升溫至1140-1160℃，恒溫?zé)?4-16分鐘，?然后降溫，即得。

39、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的所具有的有益效果是：

40、1、本發(fā)明的一種陶琉彩熱熔燒制工藝，能實(shí)現(xiàn)一次燒制成型，在瓷板上呈現(xiàn)釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域兩種風(fēng)格，并且燒制后表面平整，成品率高。

41、第一，步驟1）-5）采用先用遮蓋物遮蓋琉璃區(qū)域，向釉下彩區(qū)域表面施加釉料，去除遮蓋物，繪制瀝線，能避免釉料和彩繪時(shí)污染琉璃區(qū)域；步驟5）鋪撒琉璃料時(shí)，即使有琉璃料沾染到釉下彩區(qū)域，也只會(huì)落在已經(jīng)施好釉的干燥釉層上，清理方便，無法污染彩繪。步驟1-5）的設(shè)計(jì)兩個(gè)區(qū)域互不影響，互不污染，有效避免制作過程中琉璃區(qū)域和釉下彩區(qū)域相互沾染，簡化了制作過程。采用步驟6）的升溫曲線，能有效防止釉料和琉璃開裂、燒結(jié)變色的問題，釉料和琉璃與瓷板貼合緊密，實(shí)現(xiàn)釉下彩和琉璃在同一瓷板坯體上一次燒結(jié)成功。

42、第二，所用釉料燒制溫度低，燒制過程中?；瘻囟扰c琉璃燒制溫度接近，能在燒制溫度內(nèi)，實(shí)現(xiàn)釉料和琉璃同時(shí)燒制成功，并且燒制后釉層表面平整。所用釉料線膨脹系數(shù)低，并且具有較好的韌性，在瓷板素坯上附著性較好，不易開裂。

43、第三，本發(fā)明的工藝實(shí)現(xiàn)了將釉下彩和琉璃在陶瓷坯體上一次燒制成型，降低能耗，降低成本。

44、2、本發(fā)明的一種陶琉彩熱熔燒制工藝，釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域邊界清晰、琉璃區(qū)域的色塊邊界清晰，燒制后的瓷板圖案可控、顏色分布可控。

45、第一，本發(fā)明采用特定的瀝線配方，瀝線的融化溫度高于琉璃，并且具有吸附性，能阻擋熔融態(tài)的琉璃肆意洇滲，瀝線能作為釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域的分界線，也能用于在琉璃區(qū)域中勾勒輪廓，采用瀝線圍成不同的封閉區(qū)域，在不同的封閉區(qū)域中涂覆不同色的琉璃料，燒制過程琉璃受到瀝線阻隔，不會(huì)流出瀝線圍成的封閉區(qū)域，最終形成不同顏色的琉璃色塊。

46、第二，本發(fā)明的瀝線能在燒制過程中吸附熔融態(tài)的琉璃料，瀝線吸附琉璃而帶色，最終燒制后的瀝線中吸附與琉璃的顏色接近，解決了瀝線和其周圍琉璃不同色的問題

47、3、本發(fā)明的一種陶琉彩熱熔燒制工藝，在一塊瓷板上呈現(xiàn)釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域兩種風(fēng)格，形成獨(dú)特的視覺效果。

48、申請人在研究中發(fā)現(xiàn)，琉璃料粒雖能創(chuàng)造出粗獷的視覺效果，但在精細(xì)處理方面卻受限于材料的特性。為了豐富陶琉彩熱熔藝術(shù)的表現(xiàn)語言和拓寬題材的可能性，從燒成溫度的一致性和可能性出發(fā)，結(jié)合釉下彩繪技術(shù)，彌補(bǔ)陶琉彩熱熔藝術(shù)在某些方面的不足。

49、釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域兩種風(fēng)格，組合后形成獨(dú)特的視覺效果。其中，釉下彩區(qū)域?yàn)橛韵虏?，燒制后，圖案細(xì)膩，線條的邊界清晰，視覺上呈現(xiàn)出“照相機(jī)鏡頭聚焦”的清晰效果，能用于細(xì)致繪制近景、工筆人物。其中，琉璃區(qū)域的琉璃色塊如在宣紙上洇滲形成，視覺上呈現(xiàn)出“照相機(jī)虛化”的效果，能用于繪制虛化的近景花木，或者用于繪制虛化的遠(yuǎn)景，例如天空、遠(yuǎn)山、白云、國畫風(fēng)格的山水魚蝦。由于琉璃區(qū)域能形成一個(gè)個(gè)琉璃色塊，能實(shí)現(xiàn)點(diǎn)彩畫派的油畫風(fēng)格作品的創(chuàng)作。

50、例如，設(shè)計(jì)釉下彩區(qū)域圖案為清晰的近景，設(shè)計(jì)琉璃區(qū)域?yàn)樘摶倪h(yuǎn)景，釉下彩區(qū)域和琉璃區(qū)域搭配能在同一塊瓷板素坯上，視覺上能呈現(xiàn)出遠(yuǎn)近景的立體效果。本發(fā)明的一種陶琉彩熱熔燒制工藝豐富了瓷板畫的風(fēng)格，能讓不同的筆觸風(fēng)格通過一次燒制，在同一塊瓷板上呈現(xiàn)，并且成品率高，。