本實用新型涉及碳化硅生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種可調(diào)節(jié)坩堝高度的保溫裝置,特別是一種適用于坩堝保溫的裝置。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的液相法生長碳化硅晶體技術(shù),都是通過加熱的方式將硅在高純石墨坩堝中融化,形成碳在硅中的溶液,再將頭部貼付有籽晶的石墨軸伸入到溶液中進行生長;
現(xiàn)有技術(shù)中可以通過坩堝的升降或籽晶軸的升降來實現(xiàn)溫度的變化,但是現(xiàn)有的坩堝升降裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜,且由于晶體生長過程中對于溫度要求很高,現(xiàn)有的升降裝置難以適應(yīng)如此高的溫度,故障率極高,無法適應(yīng)晶體生長的要求,而如果采用高耐熱材料制備則會極大提高設(shè)備的成本和后期維護壓力,因此如何解決這一問題成為現(xiàn)有技術(shù)中的難題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供了一種可調(diào)節(jié)坩堝高度的保溫裝置,主要用于晶體生長時對坩堝的保溫,該保溫裝置包括主體和上蓋,所述主體內(nèi)部設(shè)置有空腔,所述空腔內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔,垂直方向上設(shè)置有5組,且每組間距相同;通過插孔連接有支撐架,所述支撐架包括基座和與基座連接的伸縮桿,所述伸縮桿前端通過石墨托連接有支撐盤;采用這種結(jié)構(gòu)的保溫裝置,使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定坩堝在保溫裝置內(nèi)的高度,然后將支撐架插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi),調(diào)節(jié)伸縮桿位置以適應(yīng)不同尺寸的坩堝,將坩堝放置在四個支撐架上即可,較之現(xiàn)有技術(shù)中采用的坩堝舉升裝置結(jié)構(gòu)更加簡單,可以適應(yīng)不同晶體的加工需要。
本實用新型的具體技術(shù)方案是:
一種可調(diào)節(jié)坩堝高度的保溫裝置,該保溫裝置包括主體和上蓋,所述主體內(nèi)部設(shè)置有空腔,所述空腔內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔,垂直方向上共設(shè)置有5組,且每組間距相同;通過插孔連接有支撐架,所述支撐架包括基座和與基座連接的伸縮桿,所述伸縮桿前端通過石墨托連接有支撐盤;
所述的基座與插孔的孔徑配合,方便基座可以穩(wěn)固的插入插孔中,確保使用過程中不發(fā)生位移;由于采用了伸縮桿的設(shè)計,使得支撐盤的位置可以隨之調(diào)節(jié),以適應(yīng)不同大小坩堝的需要;所述的支撐架由石墨材質(zhì)制備而成;
采用這種結(jié)構(gòu)的保溫裝置,使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定坩堝在保溫裝置內(nèi)的高度,然后將支撐架基座插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi),這樣共4個支撐架彼此之間呈90度分布,之后調(diào)節(jié)伸縮桿位置以適應(yīng)不同尺寸的坩堝,然后確保每個支撐盤位置正確后即可將坩堝放置在支撐盤上,然后將上蓋扣好后即可開始晶體的生長;采用這種模式,可以方便的實現(xiàn)坩堝在保溫裝置內(nèi)的定位,同時確保在晶體生長過程中坩堝的穩(wěn)定性,較之現(xiàn)有的坩堝升降裝置結(jié)構(gòu)更加簡單,且成本大大降低;由于空腔內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔,垂直方向上共設(shè)置有5組,可以確保坩堝高度有五種可調(diào)模式,也可以根據(jù)實際需要多設(shè)置幾組。
由于采用了支撐架的方式,這樣當(dāng)坩堝放置在支撐盤上之后,坩堝底部懸空,這樣有利于熱量的傳遞,可以確保坩堝內(nèi)溫度均一性,同時當(dāng)生產(chǎn)完畢需要降溫時,上述方式也有利于坩堝底部溫度的降低;
所述保溫裝置上蓋上設(shè)置有通孔,方便籽晶軸的進出;
綜上所述,采用這種結(jié)構(gòu)的保溫裝置,使用時可以根據(jù)不同晶體生長的需要確定坩堝在保溫裝置內(nèi)的高度,然后將支撐架插入對應(yīng)水平位置的插孔內(nèi),調(diào)節(jié)伸縮桿位置以適應(yīng)不同尺寸的坩堝,將坩堝放置在四個支撐架上即可,較之現(xiàn)有技術(shù)中采用的坩堝舉升裝置結(jié)構(gòu)更加簡單,可以適應(yīng)不同晶體的加工需要。
附圖說明
圖1為本實用新型所述保溫裝置的結(jié)構(gòu)剖視圖;
圖2為本實用新型所述保溫裝置主體的結(jié)構(gòu)剖視圖;
圖3為圖2中A-A剖視圖;
圖4為本實用新型所述支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖中1為主體,2為插孔,3為基座,4為支撐盤,5為石墨托,6為伸縮桿,7為上蓋,8為支撐架。
具體實施方式
一種可調(diào)節(jié)坩堝高度的保溫裝置,該保溫裝置包括主體1和上蓋7,所述主體1內(nèi)部設(shè)置有空腔,所述空腔內(nèi)壁圓周方向上均勻設(shè)置有4個插孔2,垂直方向上共設(shè)置有5組,且每組間距相同;通過插孔2連接有支撐架8,所述支撐架8包括基座3和與基座3連接的伸縮桿6,所述伸縮桿6前端通過石墨托5連接有支撐盤4;
所述支撐架8采用石墨材料制成;
所述保溫裝置上蓋7上設(shè)置有方便籽晶軸的進出的通孔。