本實(shí)用新型涉及一種新型膜系的金色LOW-E雙銀玻璃。
背景技術(shù)：
：金色鍍膜玻璃由于它特殊的產(chǎn)品顏色及其良好的光學(xué)性能，越來越受人們的喜愛，近幾年的市場(chǎng)需求量也是不斷增加，特別是一些象征財(cái)政的相關(guān)工程。但是，由于某些地區(qū)建筑節(jié)能指標(biāo)不斷增高，單銀的建筑節(jié)能指標(biāo)已經(jīng)不能滿足該地區(qū)對(duì)送檢標(biāo)準(zhǔn)，所以金色LOW-E雙銀玻璃的研發(fā)具有較大的市場(chǎng)。然而，以往傳統(tǒng)金色LOW-E的生產(chǎn)必須要使用到不銹鋼靶材，只能專門生產(chǎn)一種顏色就專門購買一種靶材，再將靶材裝到陰極里面，于是，不僅大大提高了生產(chǎn)成本，而且還占據(jù)了一個(gè)陰極位，這種現(xiàn)狀對(duì)于陰極位不多的中小型企業(yè)造成了巨大壓力。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的旨在提供一種操作靈活、生產(chǎn)成本低的新型膜系的金色LOW-E雙銀玻璃，以克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處。按此目的設(shè)計(jì)的一種新型膜系的金色LOW-E雙銀玻璃，包括玻璃基層，其結(jié)構(gòu)特征是所述玻璃基層上依次覆蓋有第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、介質(zhì)阻擋層、第一功能層、第一阻擋層、第一中間折射層、第二中間折射層、第三中間折射層、第二功能層、第二阻擋層和第三介質(zhì)層。進(jìn)一步，所述第一介質(zhì)層為Si3N4層，該第一介質(zhì)層的厚度為10nm～100nm。進(jìn)一步，所述第二介質(zhì)層為TiO2層，該第二介質(zhì)層的厚度為5nm～60nm。進(jìn)一步，所述介質(zhì)阻擋層為AZO層，該介質(zhì)阻擋層的厚度為5nm～30nm。進(jìn)一步，所述第一功能層為Ag層，該第一功能層的厚度為5nm～15nm。進(jìn)一步，所述第一阻擋層為NiCr層，該第一阻擋層的厚度為2nm～10nm。進(jìn)一步，所述第一中間折射層為AZO層，該第一中間折射層的厚度為5nm～100nm。進(jìn)一步，所述第二中間折射層為TiO2層，該第二中間折射層的厚度為5nm～60nm。進(jìn)一步，所述第三中間折射層為AZO層，該第三中間折射層的厚度為5nm～100nm。進(jìn)一步，所述第二功能層為Ag層，該第二功能層的厚度為5nm～15nm；所述第二阻擋層為NiCr層，該第二阻擋層的厚度為2nm～10nm；所述第三介質(zhì)層為Si3N4層，該第三介質(zhì)層的厚度為10nm～100nm。本實(shí)用新型中的玻璃基層上設(shè)置有鍍膜層，該鍍膜層包括玻璃基層上依次覆蓋的第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層、介質(zhì)阻擋層、第一功能層、第一阻擋層、第一中間折射層、第二中間折射層、第三中間折射層、第二功能層、第二阻擋層和第三介質(zhì)層。其中，第一介質(zhì)層用于提高膜層的物理性能和抗氧化性能。本實(shí)用新型中的第二介質(zhì)層用于阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞、平復(fù)銀層以及提高玻璃的折射率。本實(shí)用新型中的介質(zhì)阻擋層用于阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞、平復(fù)銀層、提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面電阻。本實(shí)用新型中的第一功能層用于降低輻射率、提高玻璃的光學(xué)性能。本實(shí)用新型中的第一阻擋層用于阻擋陽離子和鈉離子對(duì)銀層的破壞。本實(shí)用新型中的第一中間折射層用于提高玻璃的可見光透過率。本實(shí)用新型中的第二中間折射層用于提高AZO的濺射效率、提高玻璃的可見光透過率。本實(shí)用新型中的第三中間折射層用于提高玻璃的可見光透過率。本實(shí)用新型中的第二功能層用于降低輻射率、提高玻璃的光學(xué)性能。本實(shí)用新型中的第二阻擋層用于阻擋陽離子和鈉離子對(duì)銀層的破壞。本實(shí)用新型中的第三介質(zhì)層用于提高膜層的物理性能和抗氧化性能。綜上所述，本實(shí)用新型克服了以前技術(shù)的不足，不斷的優(yōu)化材料、氣體的配比，提供了一種新型膜系，不使用不銹鋼材料就能生產(chǎn)出性能優(yōu)異的雙銀金色LOW-E雙銀玻璃產(chǎn)品。本實(shí)用新型能夠采用常規(guī)的靶材生產(chǎn)出特殊的金色，大大降低生產(chǎn)成本，減少了生產(chǎn)金色產(chǎn)品需換靶的工作量，方便金色和常規(guī)LOW-E產(chǎn)品之間的在線轉(zhuǎn)換，并且熱工性能能滿足廣大建筑節(jié)能送檢要求；其具有操作方便、成本低的特點(diǎn)。附圖說明圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的局部剖切示意圖。圖中：1為玻璃基層，2為第一介質(zhì)層，3為第二介質(zhì)層，4為介質(zhì)阻擋層，5為第一功能層，6為第一阻擋層，7為第一中間折射層，8為第二中間折射層，9為第三中間折射層，10為第二功能層，11為第二阻擋層，12為第三介質(zhì)層。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。參見圖1，本新型膜系的金色LOW-E雙銀玻璃，包括玻璃基層1，所述玻璃基層1上依次覆蓋有第一介質(zhì)層2、第二介質(zhì)層3、介質(zhì)阻擋層4、第一功能層5、第一阻擋層6、第一中間折射層7、第二中間折射層8、第三中間折射層9、第二功能層10、第二阻擋層11和第三介質(zhì)層12。膜系結(jié)構(gòu)為Glass-Si3N4-TiO2-AZO-Ag-NiCr-AZO-TiO2-AZO-Ag-NiCr-Si3N4。在本實(shí)施例中，Glass為玻璃基層。玻璃輸送速度為3.5m/min。所述第一介質(zhì)層2為Si3N4層，該第一介質(zhì)層2的厚度為10nm～100nm。第一介質(zhì)層2通過交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl，其密度為96％，其中，SiAl中的Si：Al的質(zhì)量比為98:2。第一介質(zhì)層2用于提高膜層的物理性能和抗氧化性能。在本實(shí)施例中，第一介質(zhì)層2厚度的優(yōu)選為10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一種。所述第二介質(zhì)層3為TiO2層，該第二介質(zhì)層3的厚度為5nm～60nm。第二介質(zhì)層3通過交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶后形成。第二介質(zhì)層3用于阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞、平復(fù)銀層以及提高玻璃的折射率。在本實(shí)施例中，第二介質(zhì)層3厚度的優(yōu)選為5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm中的一種。所述介質(zhì)阻擋層4為AZO層，該介質(zhì)阻擋層4的厚度為5nm～30nm。介質(zhì)阻擋層4通過交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶形成。介質(zhì)阻擋層4用于阻擋玻璃表面的Na+對(duì)功能層的破壞、平復(fù)銀層以及提高玻璃的折射率和降低玻璃表面的面電阻。在本實(shí)施例中，介質(zhì)阻擋層4厚度的優(yōu)選為5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm中的一種。所述第一功能層5為Ag層，該第一功能層5的厚度為5nm～15nm。第一功能層5通過交流電源濺射形成，用于降低輻射率和提高玻璃的光學(xué)性能。在本實(shí)施例中，第一功能層5厚度的優(yōu)選為5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一種。所述第一阻擋層6為NiCr層，該第一阻擋層6的厚度為2nm～10nm。第一阻擋層6通過直流電源濺射形成，用于阻擋陽離子和鈉離子對(duì)銀層的破壞。在本實(shí)施例中，第一阻擋層6厚度的優(yōu)選為2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一種。所述第一中間折射層7為AZO層，該第一中間折射層7的厚度為5nm～100nm。第一中間折射層7通過中頻交流電源濺射陶瓷靶形成，用于提高玻璃的可見光透過率。在本實(shí)施例中，第一中間折射層7厚度的優(yōu)選為5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一種。所述第二中間折射層8為TiO2層，該第二中間折射層8的厚度為5nm～60nm。第二中間折射層8通過交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶形成，用于提高AZO的濺射效率，提高玻璃的可見光透過率。在本實(shí)施例中，二中間折射層8厚度的優(yōu)選為5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm中的一種。所述第三中間折射層9為AZO層，該第三中間折射層9的厚度為5nm～100nm。第三中間折射層9通過中頻交流電源濺射陶瓷靶形成，用于提高玻璃的可見光透過率。在本實(shí)施例中，第三中間折射層9厚度的優(yōu)選為5nm、10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一種。所述第二功能層10為Ag層，該第二功能層10的厚度為5nm～15nm；第二功能層10通過交流電源濺射形成，用于降低輻射率，提高玻璃的光學(xué)性能。在本實(shí)施例中，第二功能層10厚度的優(yōu)選為5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一種。所述第二阻擋層11為NiCr層，該第二阻擋層11的厚度為2nm～10nm；第二阻擋層11通過直流電源濺射形成，用于阻擋陽離子和鈉離子對(duì)銀層的破壞。在本實(shí)施例中，第二阻擋層11厚度的優(yōu)選為2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一種。所述第三介質(zhì)層12為Si3N4層，該第三介質(zhì)層12的厚度為10nm～100nm。第三介質(zhì)層12通過交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl，其密度為96％，其中，SiAl中的Si：Al的質(zhì)量比為98:2。第三介質(zhì)層12用于提高膜層的物理性能和抗氧化性能。在本實(shí)施例中，第三介質(zhì)層12厚度的優(yōu)選為10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一種。用上述工藝參數(shù)設(shè)計(jì)出的玻璃其顏色性能如下表1所示：表1顏色性能參數(shù)玻璃可見光透過率Tvis49.3可見光玻璃面反射率Rout17.8玻璃面顏色坐標(biāo)a*4.3玻璃面顏色坐標(biāo)b*16.2玻璃面輻射率0.05從上述數(shù)據(jù)可以分析出，采用上述新型工藝方法后，玻璃面顏色a*值為﹢4.3，b*值為﹢16.2，呈現(xiàn)的顏色為金黃色。用上述玻璃制成中空間隔為12mm的中空玻璃，在UV-3600紫外光分光光度計(jì)上測(cè)出數(shù)據(jù)，按照J(rèn)GJ/T151-2008標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算出來6mmLOW-E玻璃+12A+6mm白玻，其光學(xué)和熱學(xué)性能如下表2所示：表2性能指標(biāo)參數(shù)可見光透過率Tvis45可見光玻璃面反射率Rout17.5太陽能透過率Tsol15太陽能反射率Rout26傳熱系數(shù)U1.69遮陽系數(shù)Sc0.35光熱比LSG1.47從上述數(shù)據(jù)分析可以得知：該顏色產(chǎn)品光熱比LSG在1.47，輻射率為0.05，熱學(xué)性能達(dá)到了雙銀LOW-E的水品標(biāo)準(zhǔn)，能滿足廣大建筑節(jié)能送檢需求。以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說明書中描述的只是說明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。當(dāng)前第1頁1 2 3