本發(fā)明屬于陶瓷建筑裝飾材料領(lǐng)域，具體涉及一種改善釉面磚釉面光澤度的方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)中，要增加釉面磚的光澤度，主要采用的方法有：A、調(diào)整面釉配方使玻璃相增加；B、調(diào)整窯爐燒成曲線；C、釉面拋光，等手段。但以上這些方法，都存在很大的不足。
方法A調(diào)整面釉需要時(shí)間，如在瓷片生產(chǎn)中，面釉主要原料是熔塊(是原材料經(jīng)配料混合在1500左右熔融成玻璃液流出水淬成的顆粒)，熔塊在配方中有時(shí)占95％。在釉燒窯時(shí)若發(fā)現(xiàn)光澤度不好，則需再返回熔塊爐調(diào)整熔塊配方，正常情況熔塊都會(huì)備庫(kù)存1～3天的量。釉燒窯與熔塊爐都是連續(xù)生產(chǎn)，配方調(diào)整過(guò)程與本身熔塊爐換配方的過(guò)程產(chǎn)品還會(huì)產(chǎn)出過(guò)渡產(chǎn)品，庫(kù)存品與后期產(chǎn)生的過(guò)渡產(chǎn)品都屬次品。經(jīng)配方試驗(yàn)調(diào)整再大生產(chǎn)，正常熔塊出來(lái)還需要經(jīng)各項(xiàng)性能測(cè)試，包磚型、抗壓強(qiáng)度、熱穩(wěn)定性等方面測(cè)試，合格才能投入生產(chǎn)。由此可見(jiàn)，調(diào)整面釉配方的方法需要時(shí)間而且產(chǎn)生的浪費(fèi)極大，它很難滿足正常生產(chǎn)的快速需要。
方法B雖然可以一定程度解決光澤問(wèn)題，但調(diào)窯爐也屬系統(tǒng)性工程，一條釉燒窯可能有好幾條釉線進(jìn)磚，每條釉線做的產(chǎn)品各不相同，有些規(guī)格不同、產(chǎn)品花式不同、還有亮光與亞光混燒，當(dāng)一條釉線出現(xiàn)光澤不好時(shí)，你調(diào)整窯爐燒成會(huì)影響其它釉線進(jìn)磚的產(chǎn)品。另外窯爐燒成的調(diào)整有遲后性，需要經(jīng)0.5小時(shí)后甚至1小時(shí)2小時(shí)后才能通過(guò)燒成的產(chǎn)品確定是否有變化，而在這段時(shí)間，并沒(méi)有辦法保證產(chǎn)品的質(zhì)量變化。
方法C需要增設(shè)好多設(shè)備，工序略顯復(fù)雜，成本較高，而且有些釉面磚并不適合拋光。
N105000916A公開(kāi)了一種用陶瓷廢料制備的表面具有石狀光澤的釉面磚及制備方法，重點(diǎn)對(duì)素坯體的配方組成、底、面釉熔塊的組成、底、面釉中不同性能熔塊的優(yōu)選及配比、底釉的配方組成等進(jìn)行調(diào)整與優(yōu)化，從而使坯體配方中添加超過(guò)50％的陶瓷廢料。該文獻(xiàn)采用了上述的方法A，因調(diào)整面釉需要較長(zhǎng)時(shí)間，因而不僅導(dǎo)致投入生產(chǎn)成本大，而且周期長(zhǎng)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
為解決現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)和不足，本發(fā)明提供一種改善釉面磚釉面光澤度的方法，該方法包含以下步驟：
1)磚坯配料球磨：選取用以制備陶瓷釉面磚的磚坯原料，將配料送入球磨機(jī)進(jìn)行球磨；
2)噴霧造粉壓制成型：將所述磚坯原料利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧干燥制得磚坯粉料，利用所述磚坯粉料進(jìn)行磚坯壓制并成型，制得磚坯；
3)素?zé)簩⑺龃u坯放入素?zé)G燒成素坯；
4)淋底釉：在所述素坯上淋上底釉；
5)淋有光面釉：在所述底釉上淋有光面釉；
6)印含鈉有光釉層：用輥筒在素坯的面釉層上滾印一層含鈉有光釉層，得到釉面磚；
7)印花：在釉面磚有光釉層的表面印花；
8)釉燒：將印花后的釉面磚放入釉燒窯中釉燒；
9)將釉燒后的釉面磚磨邊、分級(jí)、并打包成成品。
優(yōu)選的，所述含鈉有光釉層包含輥筒印油、氯化鈉、有光基粉；將輥筒印油、氯化鈉、有光基粉分別放入分散機(jī)中，分散成花釉，混合后得到含鈉有光釉層釉料。
優(yōu)選的，所述含鈉有光釉層釉料包含以下質(zhì)量百分比的成分：輥筒印油100份，外加氯化鈉0～20％，外加有光基粉0～70％，外加的氯化鈉和有光基粉不同時(shí)為0％。
優(yōu)選的，所述含鈉有光釉層釉料包含以下質(zhì)量百分比的成分：輥筒印油100份，外加氯化鈉5％，外加有光基粉20％。
優(yōu)選的，所述含鈉有光釉層釉料包含以下質(zhì)量百分比的成分：輥筒印油100份，外加氯化鈉1～20％。
優(yōu)選的，所述含鈉有光釉層釉料包含以下質(zhì)量百分比的成分：輥筒印油100份，外加有光基粉1～70％。
優(yōu)選的，所述有光基粉的原材料包括以下質(zhì)量百分比的成分：SiO2 50～60％，Al2O3 6～10％，CaO 5～8％，MgO 1～2％，K2O 3～5％，Na2O 0.2～1％，BaO 1～2％，B2O3 1～2％，ZnO 5～7％，PbO 0.5～2％。
優(yōu)選的，所述有光基粉的制備方法如下：將上述的原材料按配比攪拌混合均勻，經(jīng)熔塊爐熔融成玻璃液流出，經(jīng)水淬冷，制成熔塊顆粒，然后按以下質(zhì)量百分比的成分：熔塊顆粒50～98％，氣刀土1～5％，水0.1～40％，三聚磷酸鈉0.1～0.5％，配料入球磨機(jī)，球磨后篩余為0％，出球過(guò)篩烘干成基粉。
優(yōu)選的，所述熔塊爐熔融的溫度為1450～1550℃。
優(yōu)選的，所述的配料進(jìn)入球磨機(jī)球磨后細(xì)度小于或等于325目。
優(yōu)選的，所述印花可采用絲網(wǎng)、輥筒、噴墨等印花方式。
優(yōu)選的，輥筒雕刻灰度為純灰度10～60。
有益效果：
(1)本發(fā)明在磚釉面表層引入含鈉有光釉層以提高釉面光澤的同時(shí)，對(duì)下層釉坯與磚的整體性能影響很小，整個(gè)生產(chǎn)工藝不需大的調(diào)整。
(2)本方法具有簡(jiǎn)便、快捷的特點(diǎn)，能夠大大節(jié)省時(shí)間、節(jié)約成本。
(3)本發(fā)明對(duì)于處理一些低光澤熔塊或原料的效益尤為突出。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明方法的步驟流程圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)描述。
實(shí)施例1
具體地，改善釉面磚釉面光澤度的方法包括如下步驟：
1)磚坯配料球磨：選取用以制備陶瓷釉面磚的磚坯原料，將配料送入球磨機(jī)進(jìn)行球磨；
2)噴霧造粉壓制成型：將所述磚坯原料利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧干燥制得磚坯粉料，利用所述磚坯粉料進(jìn)行磚坯壓制并成型，制得磚坯；
3)素?zé)簩⑺龃u坯放入素?zé)G燒成素坯；
4)淋底釉：在所述素坯上淋上底釉；
5)淋有光面釉：在所述底釉上淋有光面釉；
6)有光基粉的制備：原材料包括SiO2 50％，Al2O3 6％，CaO 10％，MgO 2％，K2O 5％，Na2O 0.3％，BaO 1％，B2O3 1％，ZnO 5％，PbO 1％，將上述原材料按配比攪拌混合均勻，經(jīng)熔塊爐1450～1550℃熔融成玻璃液流出，經(jīng)水淬冷，制成熔塊顆粒，然后按配方：熔塊顆粒98％，氣刀土1％，水0.5％，三聚磷酸鈉0.5％，配料入球磨機(jī)，球磨后篩余為0％，出球過(guò)篩烘干成基粉。配料入球磨機(jī)，球磨到細(xì)度325目篩余為0％，出球過(guò)篩烘干成基粉；
7)含鈉有光釉層的制備：將輥筒印油100kg，外加氯化鈉5％，外加有光基粉20％分別放入分散機(jī)中分散成花釉，混合后得到含鈉有光釉層釉料；
8)用輥筒在素坯的面釉層上滾印一層含鈉有光釉層釉料，得到含鈉有光釉層；
9)印花：用輥筒在釉面磚有光釉層的表面印花；
10)釉燒：將印花后的釉面磚放入釉燒窯中釉燒；
11)將釉燒后的釉面磚磨邊、分級(jí)、并打包成成品。
實(shí)施例2
具體地，改善釉面磚釉面光澤度的方法包括如下步驟：
1)磚坯配料球磨：選取用以制備陶瓷釉面磚的磚坯原料，將配料送入球磨機(jī)進(jìn)行球磨；
2)噴霧造粉壓制成型：將所述磚坯原料利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧干燥制得磚坯粉料，利用所述磚坯粉料進(jìn)行磚坯壓制并成型，制得磚坯；
3)素?zé)簩⑺龃u坯放入素?zé)G燒成素坯；
4)淋底釉：在所述素坯上淋上底釉；
5)淋有光面釉：在所述底釉上淋有光面釉；
6)有光基粉的制備：原材料包括SiO2 50％，Al2O3 8％，CaO 5％，MgO 2％，K2O 3％，Na2O 0.4％，BaO 1％，B2O3 1％，ZnO 5％，PbO 1％，將上述原材料按配比攪拌混合均勻，經(jīng)熔塊爐1450～1550℃熔融成玻璃液流出，經(jīng)水淬冷，制成熔塊顆粒，然后按配方：熔塊顆粒90％，氣刀土5％，水4.7％，三聚磷酸鈉0.3％，配料入球磨機(jī)，球磨后篩余為0％，出球過(guò)篩烘干成基粉。
配料入球磨機(jī)，球磨到細(xì)度325目篩余為0％，出球過(guò)篩烘干成基粉；
7)含鈉有光釉層的制備：將輥筒印油100kg，外加有光基粉30％分別放入分散機(jī)中分散成花釉，混合后得到含鈉有光釉層釉料；
8)用輥筒在素坯的面釉層上滾印一層含鈉有光釉層釉料，得到含鈉有光釉層；
9)印花：用輥筒在釉面磚有光釉層的表面印花；
10)釉燒：將印花后的釉面磚放入釉燒窯中釉燒；
11)將釉燒后的釉面磚磨邊、分級(jí)、并打包成成品。
實(shí)施例3
具體地，改善釉面磚釉面光澤度的方法包括如下步驟：
1)磚坯配料球磨：選取用以制備陶瓷釉面磚的磚坯原料，將配料送入球磨機(jī)進(jìn)行球磨；
2)噴霧造粉壓制成型：將所述磚坯原料利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧干燥制得磚坯粉料，利用所述磚坯粉料進(jìn)行磚坯壓制并成型，制得磚坯；
3)素?zé)簩⑺龃u坯放入素?zé)G燒成素坯；
4)淋底釉：在所述素坯上淋上底釉；
5)淋有光面釉：在所述底釉上淋有光面釉；
6)含鈉有光釉層的制備：將輥筒印油100kg，外加氯化鈉10％分別放入分散機(jī)中分散成花釉，混合后得到含鈉有光釉層釉料；
7)用輥筒在素坯的面釉層上滾印一層含鈉有光釉層釉料，得到含鈉有光釉層；
8)印花：用輥筒在釉面磚有光釉層的表面印花；
9)釉燒：將印花后的釉面磚放入釉燒窯中釉燒；
10)將釉燒后的釉面磚磨邊、分級(jí)、并打包成成品。
實(shí)施例4
具體地，改善釉面磚釉面光澤度的方法包括如下步驟：
1)磚坯配料球磨：選取用以制備陶瓷釉面磚的磚坯原料，將配料送入球磨機(jī)進(jìn)行球磨；
2)噴霧造粉壓制成型：將所述磚坯原料利用噴霧干燥塔進(jìn)行噴霧干燥制得磚坯粉料，利用所述磚坯粉料進(jìn)行磚坯壓制并成型，制得磚坯；
3)素?zé)簩⑺龃u坯放入素?zé)G燒成素坯；
4)淋底釉：在所述素坯上淋上底釉；
5)淋有光面釉：在所述底釉上淋有光面釉，得到釉面磚；
6)印花：用輥筒在釉面磚有光釉層的表面印花；
7)釉燒：將印花后的釉面磚放入釉燒窯中釉燒；
8)將釉燒后的釉面磚磨邊、分級(jí)、并打包成成品。
實(shí)施例釉面磚的光澤度檢測(cè)：使用光澤儀測(cè)在每組實(shí)施例生產(chǎn)的釉面磚上各取5處進(jìn)行光澤度測(cè)量，取5處測(cè)量結(jié)果的平均值表示每塊釉面磚的光澤度。測(cè)量結(jié)果如下表所示，表中光澤儀讀數(shù)越大，說(shuō)明釉面磚的光澤度越好。
表1實(shí)施例釉面磚的光澤度測(cè)試
由表1知，實(shí)施例1、實(shí)施例2和實(shí)施例3生產(chǎn)的釉面磚的釉面光澤度均較好，其中，實(shí)施例1組生產(chǎn)的釉面磚的釉面光澤度最好。而實(shí)施例4由于未添加本發(fā)明比例的含鈉有光釉層，所以生產(chǎn)出來(lái)的釉面磚釉面光澤度相對(duì)不好。上述實(shí)施例說(shuō)明，采用本發(fā)明的方法有利于生產(chǎn)高光澤的釉面磚。
根據(jù)上述說(shuō)明書(shū)的揭示和教導(dǎo)，本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還可以對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行變更和修改。因此，本發(fā)明并不局限于上面揭示和描述的具體實(shí)施方式，對(duì)發(fā)明的一些修改和變更也應(yīng)當(dāng)落入本發(fā)明的權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。此外，盡管本說(shuō)明書(shū)中使用了一些特定的術(shù)語(yǔ)，但這些術(shù)語(yǔ)只是為了方便說(shuō)明，并不對(duì)本發(fā)明構(gòu)成任何限制。