專利名稱：釉面墻體磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種墻體磚，特別涉及一種釉面墻體磚。
背景技術(shù)：
用以磚砌墻體的磚類主要分燒結(jié)磚(主要指粘土磚)和非燒結(jié)磚(灰砂磚、 粉煤灰磚等)，現(xiàn)有的建筑物在墻體完成以后，有的為了美觀，還要在墻體的外 表面使用水泥泥漿再粘貼一層飾面磚，這樣做確實(shí)起到了美化建筑物的效果，
但是同時(shí)也帶來了 一些問題
1. 成本較高。除了要額外負(fù)擔(dān)飾面磚和粘合材料的費(fèi)用以外，還需要負(fù)擔(dān)粘 貼飾面磚的人工成本；2. 建筑物荷載增加。由于增加了飾面磚的重量，建筑物的重量增加，對(duì)建筑 物的基礎(chǔ)影響較大，加速了建筑物的老化；
3. 建造時(shí)間變長。由于增加了粘貼飾面磚的環(huán)節(jié)，建筑物的建造時(shí)間變長；
4. 飾面磚有脫落的可能。隨著時(shí)間的推移，由于粘貼材料的粘合性降低或飾 面磚本身存在質(zhì)量問題，容易導(dǎo)致飾面磚的脫落，不但給經(jīng)過的行人帶來風(fēng)險(xiǎn)， 而且影響到建筑物的美觀；

實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此，本實(shí)用新型的目的是提供一種釉面墻體磚，將墻體磚和飾面磚 的功能結(jié)合在一起，在保持能夠使建筑物美觀的優(yōu)點(diǎn)外，還能夠達(dá)到節(jié)約成本、 縮短建造時(shí)間的目的。
本實(shí)用新型的釉面墻體磚，包括墻體磚坯體，在墻體磚坯體的一面或多面 燒制有釉面層；
進(jìn)一步，所述釉面層的厚度為O.l-lOmm;進(jìn)一步，還包括中間層，所述中間層設(shè)置在釉面層和墻體磚坯體之間； 進(jìn)一步，所述中間層的厚度為2~5mm。 本實(shí)用新型的有益效果是
本實(shí)用新型將墻體磚和飾面磚的功能結(jié)合在一起，能夠同時(shí)實(shí)現(xiàn)墻體磚和 飾面磚的作用；同時(shí)不會(huì)給建筑物帶來額外的荷載，并且由于釉面是通過燒制 的方式與墻體磚的表面牢固結(jié)合，不易脫落，從而能夠保持建筑物外表的長期 美觀；在砌墻體磚的同時(shí)也等于完成了飾面磚的粘貼，因而不再需要額外環(huán)節(jié)，
縮短了建造時(shí)間，也節(jié)約了人力成本和材料成本；通過設(shè)置中間層，能夠使墻 體磚坯體與釉面層之間的結(jié)合更為緊密；并且由于減少了飾面磚的使用，本實(shí)
用新型還起到了節(jié)約資源和保護(hù)環(huán)境的效果，值得進(jìn)一步的推廣和使用。
本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)、目標(biāo)，和特征在某種程度上將在隨后的說明書 中進(jìn)行闡述，并且在某種程度上，基于對(duì)下文的考察研究對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員 而言將是顯而易見的，或者可以從本實(shí)用新型的實(shí)踐中得到教導(dǎo)。本實(shí)用新 型的目標(biāo)和其他優(yōu)點(diǎn)可以通過下面的說明書和權(quán)利要求書來實(shí)現(xiàn)和獲得。


為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖 對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述，其中
圖1為本實(shí)用新型的實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型的實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意具體實(shí)施方式
以下將參照附圖，對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)的描述。應(yīng)當(dāng)理 解，優(yōu)選實(shí)施例僅為了說明本實(shí)用新型，而不是為了限制本實(shí)用新型的保護(hù)范 圍。
實(shí)施例一
如圖1所示，在普通磚的坯體1的一側(cè)表面燒制有厚 為O.lmm的釉面層2,在釉面層2與坯體1之間設(shè)置有2mm厚度的中間層3。 實(shí)施例二
如圖2所示，在空心磚的坯體1的兩側(cè)表面燒制有厚度為15mm的釉面 層2,在釉面層2與坯體l之間設(shè)置有5mm厚度的中間層3。
另外，本實(shí)用新型的釉面層的設(shè)置根據(jù)具體需要進(jìn)行選擇，可以燒制在 墻體磚的一面或多面，磚砌時(shí)應(yīng)將釉面層統(tǒng)一朝向，形成美觀大方的磚砌墻 面。
釉面層的燒制通常采用如下流程根據(jù)燒制需要選配釉面料一在墻面磚 的坯體上噴上釉面料一進(jìn)窯燒制，嚴(yán)格控制燒制時(shí)間和溫度一冷卻后得到成
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最后說明的是，以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制， 盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員 應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離 本技術(shù)方案的宗旨和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求1.一種釉面墻體磚，包括墻體磚坯體(1)，其特征在于在墻體磚坯體(1)的一面或多面燒制有釉面層(2)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的釉面墻體磚，其特征在于所述釉面層(2)的厚 度為0.卜20mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的釉面墻體磚，其特征在于還包括中間層(3 )， 所述中間層(3)設(shè)置在釉面層(2)和墻體磚坯體(1)之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的釉面墻體磚，其特征在于所述中間層(3)的厚 度為2 5mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種釉面墻體磚，包括墻體磚坯體，在墻體磚坯體的一面或多面燒制有釉面層，本實(shí)用新型將墻體磚和飾面磚的功能結(jié)合在一起，在保持飾面磚使建筑物外部美觀的優(yōu)點(diǎn)外，還能夠達(dá)到節(jié)約成本、縮短建造時(shí)間的目的。
文檔編號(hào)E04C1/00GK201372512SQ20092012605
公開日2009年12月30日 申請(qǐng)日期2009年1月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月8日
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