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一種超高純涂層石英坩堝的制作方法與流程

文檔序號(hào):11645290閱讀:610來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及一種石英坩堝的制作方法,特別涉及一種超高純涂層石英坩堝的制作方法。



背景技術(shù):

多晶硅鑄錠用石英方坩堝作為高純度太陽(yáng)能級(jí)(6n,99.9999%)多晶硅原料高溫熔融過(guò)程中的載體容器,傳統(tǒng)的石英方坩堝材料純度通常為3n(99.9%),雖然在坩堝的內(nèi)表面噴涂了一層高純度氮化硅涂層用來(lái)阻隔多晶硅與石英材料,但坩堝本身所攜帶的雜質(zhì)會(huì)在高溫下析出滲透至多晶硅料中,并在分凝效應(yīng)后聚集在晶錠的四個(gè)側(cè)面及底部位置,造成這些區(qū)域的雜質(zhì)含量高,在晶錠掃描圖中呈紅色,見(jiàn)附圖1。這部分雜質(zhì)含量高的區(qū)域,晶錠的少子壽命低,做電池片后的轉(zhuǎn)換效率非常低,因此通常會(huì)被切除作為廢料。超高純石英砂的價(jià)格十分昂貴,如果用來(lái)做成整個(gè)坩堝,成本將非常高,也將提升太陽(yáng)能發(fā)電成本,因此,超高純石英砂整體坩堝不符合實(shí)際生產(chǎn)需求。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,通過(guò)在普通石英坩堝內(nèi)表面制作一層超高純石英材料涂層,既能達(dá)到減少晶錠雜質(zhì)量的目標(biāo),又能最大限度的節(jié)約成本,對(duì)普及太陽(yáng)能發(fā)電能起到有力的促進(jìn)作用。

本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:

一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,包括以下步驟:

(1)選取粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂,加入超高純石英砂重量10%-40%的去離子水,放入球磨機(jī)中球磨,制成漿料;

通過(guò)球磨,使得顆粒較粗的超高純石英砂變成顆粒較細(xì)的超高純石英砂,提高形成的超高純涂層的致密度,與基底的粘附力,控制合理的粗糙度。

(2)將步驟(1)制備的漿料、粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂和硅溶膠混合,充分?jǐn)嚢?.5-2小時(shí)后,制成超高純料漿;

(3)將步驟(2)制備的超高純料漿涂覆在石英坩堝的內(nèi)表面(內(nèi)表面指方形石英坩堝的內(nèi)側(cè)面或內(nèi)側(cè)面+內(nèi)底面),涂層厚度為0.1mm-2mm,室溫自然干燥1-2小時(shí)后,放置到溫度為80℃-150℃的干燥爐中干燥1-3小時(shí)得超高純涂層石英坩堝。本發(fā)明的石英坩堝為方形石英坩堝。

本發(fā)明將步驟(1)制備的漿料、粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂和硅溶膠混合作為超高純料漿的原料,其中硅溶膠起到粘結(jié)劑的作用,粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂起到兩方面的作用:1、單純的步驟(1)制備的漿料由于顆粒較細(xì),形成的涂層會(huì)過(guò)于光滑,導(dǎo)致多晶硅鑄錠生產(chǎn)時(shí)需要噴涂的氮化硅涂層附著力差,嚴(yán)重影響多晶硅鑄錠的質(zhì)量,通過(guò)加入0.15mm-0.05mm的超高純石英砂起到調(diào)節(jié)涂層粗糙度的作用,這樣不但形成的涂層致密度、粘附力好,且粗糙度合適,不影響氮化硅涂層附著。2、步驟(1)制備的漿料是由粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂球磨后得到,球磨時(shí)會(huì)帶來(lái)一定量的羥基,這樣使得形成的涂層中帶有較多的羥基,在多晶硅鑄錠生產(chǎn)時(shí)會(huì)變成氧滲入多晶硅鑄錠中,影響多晶硅鑄錠質(zhì)量,而粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂未球磨,不帶羥基,因此粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂還能調(diào)節(jié)涂層的羥基含量,降低多晶硅鑄錠中的氧含量,提高多晶硅鑄錠質(zhì)量。

作為優(yōu)選,所述超高純石英砂的純度≥99.9999%。

作為優(yōu)選,步驟(1)中所述的粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂按重量百分比計(jì)由以下不同粒徑顆粒組成:粒徑大于500μm的10%-35%,粒徑300μm-500μm的50%-70%,粒徑小于300μm的10%-35%。粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂是用來(lái)球磨用的,有利于穩(wěn)定球磨條件,并最終穩(wěn)定球磨后的漿料性能(漿料的粒度,密度,粘度等)。粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂由不同粒徑顆粒組成,跟形成涂層的粗糙度及附著力都有關(guān)系,有利于提高多晶硅鑄錠質(zhì)量。

作為優(yōu)選,步驟(1)中球磨后的漿料粒度在6μm-15μm。

作為優(yōu)選,步驟(2)中所述的粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂按重量百分比計(jì)由以下不同粒徑顆粒組成:粒徑大于106μm的22%-60%,粒徑106μm-75μm的30%-50%,粒徑小于75μm的3%-40%。粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂,跟涂層的粗糙度及附著力都有關(guān)系,目前這種規(guī)格在客戶使用的效果最佳。粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂由不同粒徑顆粒組成,跟形成涂層的粗糙度及附著力都有關(guān)系,有利于提高多晶硅鑄錠質(zhì)量。

作為優(yōu)選,步驟(2)中:步驟(1)制備的漿料:粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂:硅溶膠的重量比=(1-4):(1-3):1??刂瞥呒兞蠞{原料配比配比直接影響到涂層的密度、厚度及羥基含量,并對(duì)最終多晶硅鑄錠的質(zhì)量(雜質(zhì)含量、氧含量、少子壽命等)產(chǎn)生直接影響。

本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明以超高純石英砂作為原料,通過(guò)球磨、混料攪拌制成料漿,采用流延、噴涂或刷涂工藝在石英坩堝上制成一種超高純涂層,降低了坩堝滲透至多晶硅錠的雜質(zhì)量,提升了硅錠質(zhì)量,降低了多晶硅鑄錠成本。

附圖說(shuō)明

圖1是多晶硅錠掃描圖。

具體實(shí)施方式

下面通過(guò)具體實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步的具體說(shuō)明。

本發(fā)明中,若非特指,所采用的原料和設(shè)備等均可從市場(chǎng)購(gòu)得或是本領(lǐng)域常用的。下述實(shí)施例中的方法,如無(wú)特別說(shuō)明,均為本領(lǐng)域的常規(guī)方法。

整體實(shí)施方案:

一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,包括以下步驟:

(1)選取粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂(純度≥99.9999%),加入超高純石英砂重量10%-40%的去離子水,放入球磨機(jī)中球磨至漿料粒度在6μm-15μm,制成漿料。所述的粒度0.2mm-0.6mm的超高純石英砂按重量百分比計(jì)由以下不同粒徑顆粒組成:粒徑大于500μm的10%-35%,粒徑300μm-500μm的50%-70%,粒徑小于300μm的10%-35%。

(2)將步驟(1)制備的漿料、粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂和硅溶膠按照重量比=(1-4):(1-3):1的比例混合,充分?jǐn)嚢?.5-2小時(shí)后,制成超高純料漿。所述的粒度0.15mm-0.05mm的超高純石英砂按重量百分比計(jì)由以下不同粒徑顆粒組成:粒徑大于106μm的22%-60%,粒徑106μm-75μm的30%-50%,粒徑小于75μm的3%-40%。

(3)將步驟(2)制備的超高純料漿涂覆在石英坩堝(市售普通石英方坩堝)的內(nèi)表面,涂層厚度為0.1mm-2mm,室溫自然干燥1-2小時(shí)后,放置到溫度為80-150℃的干燥爐中干燥1-3小時(shí)得超高純涂層石英坩堝。

制作過(guò)程中,防塵、防風(fēng)、無(wú)強(qiáng)腐蝕性物質(zhì)、無(wú)毒性物質(zhì)、無(wú)對(duì)環(huán)境造成污染物質(zhì)。

具體制備例1

一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,包括以下步驟:

(1)將超高純石英砂(按重量百分比計(jì)其粒徑組成為:大于500μm的20%,300μm-500μm的50%,小于300μm的30%)10kg,加入2kg的去離子水,放入20l容量的球磨桶中,球磨5小時(shí),球磨后的漿料粒度在6μm-15μm范圍內(nèi)。

(2)將球磨后的漿料400g,超高純石英砂(大于106μm的25%,106μm-75μm的40%,小于75μm的35%)300g,硅溶膠(市售,固含量25%)100g混合,充分?jǐn)嚢?小時(shí)后,制成超高純料漿。

(3)采用噴涂法將步驟(2)制備的超高純料漿涂覆在方形石英坩堝的內(nèi)側(cè)面,涂層厚度為1.5mm,室溫自然干燥2小時(shí)后,放置到溫度為80℃的干燥爐中干燥2小時(shí)得超高純涂層石英坩堝。將干燥好的超高純涂層石英坩堝經(jīng)過(guò)常規(guī)品質(zhì)檢驗(yàn)后,包裝入庫(kù)準(zhǔn)備發(fā)貨。

具體制備例2

一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,包括以下步驟:

(1)將超高純石英砂(按重量百分比計(jì)其粒徑組成為:大于500μm的10%,300μm-500μm的70%,小于300μm的20%)10kg,加入2kg的去離子水,放入20l容量的球磨桶中,球磨3.5小時(shí),球磨后的漿料粒度在6μm-15μm范圍內(nèi)。

(2)將球磨后的漿料100g,超高純石英砂(大于106μm的50%,106μm-75μm的30%,小于75μm的20%)100g,硅溶膠100g混合,充分?jǐn)嚢?.5小時(shí)后,制成超高純料漿。

(3)采用刷涂法將步驟(2)制備的超高純料漿涂覆在方形石英坩堝的內(nèi)側(cè)面,涂層厚度為0.3mm,室溫自然干燥1小時(shí)后,放置到溫度為100℃的干燥爐中干燥1小時(shí)得超高純涂層石英坩堝。將干燥好的超高純涂層石英坩堝經(jīng)過(guò)常規(guī)品質(zhì)檢驗(yàn)后,包裝入庫(kù)準(zhǔn)備發(fā)貨。

具體制備例3

一種超高純涂層石英坩堝的制作方法,包括以下步驟:

(1)將超高純石英砂(按重量百分比計(jì)其粒徑組成為:大于500μm的30%,300μm-500μm的60%,小于300μm的10%)10kg,加入2kg的去離子水,放入20l容量的球磨桶中,球磨5小時(shí),球磨后的漿料粒度在6μm-15μm范圍內(nèi)。

(2)將球磨后的漿料200g,超高純石英砂(大于106μm的25%,106μm-75μm的40%,小于75μm的35%)200g,硅溶膠100g混合,充分?jǐn)嚢?小時(shí)后,制成超高純料漿。

(3)采用刷涂法將步驟(2)制備的超高純料漿涂覆在方形石英坩堝的內(nèi)側(cè)面,涂層厚度為0.15mm,室溫自然干燥1小時(shí)后,放置到溫度為120℃的干燥爐中干燥1.5小時(shí)得超高純涂層石英坩堝。將干燥好的超高純涂層石英坩堝經(jīng)過(guò)常規(guī)品質(zhì)檢驗(yàn)后,包裝入庫(kù)準(zhǔn)備發(fā)貨。

對(duì)比試驗(yàn):

選擇具體制備例1、2、3得到的超高純涂層石英坩堝與普通石英方坩堝做鑄錠后的晶錠雜質(zhì)含量對(duì)比試驗(yàn)。

試驗(yàn)方法:將四種坩堝分別按照同樣的氮化硅噴涂工藝進(jìn)行處理后,再用同樣的鑄錠工藝進(jìn)行鑄錠。最后對(duì)比鑄錠后的晶錠掃描圖中的雜質(zhì)寬度。試驗(yàn)結(jié)果:按照上述方法試驗(yàn)的數(shù)據(jù)如下

從上表結(jié)果數(shù)據(jù)上看,使用本發(fā)明的超高純涂層石英坩堝的晶錠雜質(zhì)量大幅減少,側(cè)面雜質(zhì)接近0,底面雜質(zhì)高度減少了20mm,大幅提升了晶錠品質(zhì),降低了多晶硅生產(chǎn)成本。

以上所述的實(shí)施例只是本發(fā)明的一種較佳的方案,并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制,在不超出權(quán)利要求所記載的技術(shù)方案的前提下還有其它的變體及改型。

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