1.一種二氧化硅粉體的制備方法，包括以下步驟：
提供含氟離子溶液和硅的鹵化物；
將硅的鹵化物加入到上述的含氟離子溶液中，產(chǎn)生二氧化硅沉淀并得到含有二氧化硅沉淀的懸浮液；
過濾上述的含有二氧化硅沉淀的懸浮液并洗滌所得的二氧化硅沉淀，得到二氧化硅濾餅；
干燥上述的二氧化硅濾餅，得到二氧化硅粉體。
2.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
在過濾上述的含有二氧化硅沉淀的懸浮液之前，還包括陳化的步驟。
3.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述的硅的鹵化物為氟化硅、氯化硅、溴化硅、碘化硅中的任一種或它們的任意組合。
4.如權(quán)利要求3所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述氯化硅為四氯化硅，所述四氯化硅為化學反應合成的或化學反應中的副產(chǎn)物四氯化硅。
5.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述的含氟離子溶液為能夠提供氟離子的含氟有機化合物、含氟無機物、含氟離子的可溶性水溶液、含氟離子的酸溶液、含氟離子的堿溶液中的任一種或它們的任意組合。
6.如權(quán)利要求5所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述的含氟離子溶液為氟離子濃度為大于0.001mol/L的所有溶液。
7.如權(quán)利要求6所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述氟離子濃度為0.02mol/L～0.8mol/L。
8.如權(quán)利要求5所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述的含氟離子溶液添加有添加劑。
9.如權(quán)利要求8所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述添加劑為陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑、兩性表面活性劑、非離子表面活性劑中的任一種或它們的任意組合。
10.如權(quán)利要求9所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述添加劑為聚乙烯吡咯烷酮、曲拉通、吐溫20、吐溫80、十六烷基三甲基溴化銨中任一種或它們的任意組合。
11.如權(quán)利要求8所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述添加劑的添加量從0～對應添加劑的臨界膠束濃度。
12.如權(quán)利要求11所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，所述添加劑的溶度為0-10g/L。
13.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
每升含氟溶液中四氯化硅的加入量為150～600g。
14.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
將硅的鹵化物加入到上述含氟溶液中的反應溫度為25℃～55℃。
15.如權(quán)利要求2所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
所述洗滌二氧化硅沉淀的步驟中，當濾液中測不出氯離子和氟離子時，停止洗滌上述的二氧化硅沉淀。
16.如權(quán)利要求1所述的二氧化硅粉體的制備方法，其特征在于，
干燥可采用噴霧干燥、離心干燥、真空干燥、鼓風干燥箱。。
17.一種根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項所制備的二氧化硅粉體，其中所述二氧化硅粉體具有中孔結(jié)構(gòu)而沒有微孔。
18.一種根據(jù)權(quán)利要求8-12中任一項所制備的二氧化硅粉體，其中所述二氧化硅粉體以微孔為主。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的二氧化硅粉體，其中所述二氧化硅粉體孔隙結(jié)構(gòu)通過加入表面活性劑，同時控制表面活性劑在二氧化硅制備過程中的不同階段添加進行調(diào)整。