官能化的氧化鋯納米粒子及由其制備的高折射率膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及官能化的氧化鋯納米粒子及由其制備的高折射率膜。具體地，本發(fā)明涉及表面修飾的氧化鋯納米粒子、用于制備和使用所述氧化鋯納米粒子的方法以及由其制備的高折射率膜。所提供的氧化鋯納米粒子用包括N-羥基脲官能團的配體進行表面修飾。所提供的配體還可含有增容基團，所述增容基團使得所提供的表面修飾的氧化鋯納米粒子能摻入有機基體中?？捎眠@些有機基體制備高折射率膜。
【專利說明】官能化的氧化鋯納米粒子及由其制備的高折射率膜
[0001] 本專利申請是申請日為2010年11月19日，發(fā)明名稱為"官能化的氧化鋯納米粒 子及由其制備的高折射率膜"的中國專利申請201080054586. X(對應于PCT國際申請PCT/ US2010/057435)的分案申請。

【技術領域】
[0002] 本發(fā)明涉及表面修飾的氧化鋯納米粒子、用于制備和使用該氧化鋯納米粒子的方 法以及由其制備的高折射率膜。

【背景技術】
[0003] 氧化鋯納米粒子具有高折射率并且可用于有機基體以改變基體的光學性質。例 如，氧化鋯納米粒子已被用于增加有機基體的折射率或用于增加有機基體的X射線不透明 度，同時保持光透射性。有機基體的X射線不透明度和/或折射率可增加的程度取決于有 機基體中氧化鋯的加載百分比以及氧化鋯粒子的特性，如結晶率、晶體結構、原生粒度以及 原生粒子之間的締合度。
[0004] 氧化鋯納米粒子的表面修飾可用于防止或減少粒子團聚和用于增強納米粒子在 有機基體內的相容性。因此，已經用多種表面修飾劑（例如羧酸和/或硅烷）對氧化鋯納 米粒子進行了處理。這些傳統(tǒng)的表面修飾劑有它們的缺點。例如，含有丙烯酸衍生的殘基 的有機基體將以丙烯酸衍生的基團置換氧化鋯結合的羧酸基團。硅烷官能化的氧化鋯納米 粒子在熱力學上是不利的，用實驗方法難以制備。


【發(fā)明內容】

[0005] 對可強力地附接至氧化鋯納米粒子并且不具有傳統(tǒng)表面修飾劑的缺點的表面修 飾劑存在需要。對可與多種有機基體相容的表面修飾的氧化鋯納米粒子也存在需要。此外 還需要包括分散在有機基體中的表面修飾的氧化鋯納米粒子、具有增強的光學性能如高的 折射率或X射線不透明度的復合材料。
[0006] 在一個方面，提供了包括氧化鋯納米粒子和至少一個包含至少一個N-羥基脲官 能團的非金屬有機衍生物的表面修飾的納米粒子，其中所述非金屬有機衍生物中的至少一 些附接至所述氧化鋯納米粒子中的至少一些。
[0007] 在另一個方面，提供了制備表面修飾的納米粒子的方法，該方法包括將乙酸官能 化的氧化鋯納米粒子的水溶膠與至少一個包含至少一個羥基脲官能團的非金屬有機衍生 物或其溶液合并以形成混合物，并移除水和從該混合物置換出的乙酸以形成表面修飾的納 米粒子。
[0008] 在又一個方面，提供了包含有機基體和附接至該有機基體的至少一部分的表面修 飾的氧化鋯納米粒子的組合物，其中該表面修飾的納米粒子包含至少一種包含至少一個 N-羥基脲官能團的非金屬有機衍生物。
[0009] 最后，在另一個方面，提供了配體，所述配體包括
[0011] 在本公開中：

【權利要求】
1. 一種配體，其包含
【文檔編號】C01G25/02GK104495921SQ201410643765
【公開日】2015年4月8日 申請日期:2010年11月19日 優(yōu)先權日:2009年12月2日
【發(fā)明者】蓋伊·D·喬利, 內森·E·舒爾茨, 郝恩才 申請人:3M創(chuàng)新有限公司