一種平面陰極的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種真空磁控濺射設(shè)備，特別是一種平面陰極。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，現(xiàn)有技術(shù)中的平面陰極都不具備在大氣側(cè)直接調(diào)整磁場(chǎng)均勻性的功能。膜層均勻性在大面積磁控濺射鍍膜設(shè)備中，是一項(xiàng)非常重要的指標(biāo)。影響磁控濺射鍍膜均勻性的因素有很多，比如磁場(chǎng)分布、布?xì)夥植?、電?chǎng)分布和派射擋板開(kāi)口等因素。目前，提高膜層均勻性的主要方法是，保證設(shè)備的磁場(chǎng)均勻性、布?xì)獾木鶆蛐院驼{(diào)節(jié)濺射擋板的開(kāi)口尺寸等方法，及綜合使用這幾種方法。但是，在一些對(duì)膜層均勻性要求非?？量痰墓に囍?，這些方式就無(wú)法實(shí)現(xiàn)要求的工藝，或?qū)崿F(xiàn)后，均勻性會(huì)隨著靶材逐漸刻蝕而逐漸變差，后期需要設(shè)備破空，做進(jìn)一步的鍍膜設(shè)備調(diào)整，造成設(shè)備停產(chǎn)，產(chǎn)能降低，或產(chǎn)品質(zhì)量較差而難以滿足質(zhì)量要求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的之一是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種相對(duì)于靶材的磁場(chǎng)可以調(diào)節(jié)的平面陰極。
[0004]為實(shí)現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]平面陰極，包括:
[0006]陰極體基座，所述陰極體基座設(shè)置有容腔；
[0007]磁體，該磁體設(shè)置在靶材的一側(cè)以約束電子，形成等離子體；
[0008]移位機(jī)構(gòu)；
[0009]所述磁體可移動(dòng)地設(shè)置于所述容腔內(nèi)，所述移位機(jī)構(gòu)可移動(dòng)地設(shè)置于所述陰極體基座上，并延伸至所述容腔內(nèi)驅(qū)動(dòng)所述磁體移動(dòng)。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述移位機(jī)構(gòu)包括調(diào)整桿和調(diào)節(jié)螺母；所述調(diào)整桿貫穿所述陰極體基座，一端位于所述容腔內(nèi)，另一端伸出所述容腔之外并與所述調(diào)節(jié)螺母螺紋配合；所述調(diào)整桿可沿軸向移動(dòng)地設(shè)置于所述陰極體基座上；所述調(diào)整桿一端與所述磁體直接連接或者傳動(dòng)連接；所述調(diào)整桿與所述調(diào)節(jié)螺母其中之一可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置，所述調(diào)整桿與所述調(diào)節(jié)螺母其中之一轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)可使所述調(diào)整桿沿軸向移動(dòng)，所述調(diào)整桿沿軸向移動(dòng)過(guò)程中驅(qū)動(dòng)所述磁體移動(dòng)。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述磁體安裝在支撐梁上，所述支撐梁可移動(dòng)地設(shè)置在所述容腔內(nèi)，所述調(diào)整桿一端與所述支撐梁連接。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述調(diào)節(jié)螺母上設(shè)置有刻度線。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述調(diào)整桿與所述陰極體基座之間設(shè)置有第一密封圈。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還包括限位柱，所述限位柱設(shè)置有第一管腔，所述限位柱與所述陰極體基座連接，所述調(diào)整桿穿過(guò)所述第一管腔；所述調(diào)節(jié)螺母安裝在所述限位柱端部。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述調(diào)節(jié)螺母可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還包括蓋板，所述蓋板設(shè)置在所述陰極體基座下方，所述限位柱穿過(guò)所述蓋板。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述陰極體基座與所述蓋板絕緣連接；所述陰極體基座與所述蓋板之間設(shè)置有絕緣板，所述絕緣板使所述陰極體基座與所述蓋板兩者絕緣；所述陰極體基座與所述絕緣板之間、所述絕緣板與所述蓋板之間分別設(shè)置有第二密封圈，所述第二密封圈環(huán)繞所述限位柱設(shè)置，將所述陰極體基座與所述絕緣板之間、所述絕緣板與所述蓋板之間密封。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還包括背部陽(yáng)極板和墊塊，所述背部陽(yáng)極板與所述陰極體基座絕緣連接；所述背部陽(yáng)極板與所述陰極體基座之間設(shè)置有絕緣板，所述絕緣板使所述陰極體基座與所述背部陽(yáng)極板兩者絕緣；所述陰極體基座與所述蓋板之間、所述絕緣板與所述背部陽(yáng)極板之間分別設(shè)置有第二密封圈，所述第二密封圈環(huán)繞所述限位柱設(shè)置，將所述陰極體基座與所述絕緣板之間、所述絕緣板與所述背部陽(yáng)極板之間密封；所述墊塊一端與所述背部陽(yáng)極板密封連接，另一端與蓋板密封連接。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，還包括限位柱和支撐桿，所述限位柱設(shè)置有第一管腔，所述支撐桿設(shè)置有第二管腔；所述限位柱一端與所述支撐桿連接，另一端與所述陰極體基座連接；所述支撐桿一端與所述限位柱連接，另一端延伸貫穿所述蓋板并安裝有可轉(zhuǎn)動(dòng)的調(diào)節(jié)螺母，所述第二管腔與所述第一管腔連通。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，所述磁體包括:
[0021 ] 磁軛，該磁軛傳輸磁力線；
[0022]第一磁鐵；
[0023]第二磁鐵；
[0024]所述第一磁鐵與所述第二磁鐵間隔設(shè)置，并均與所述磁軛接觸；
[0025]所述第一磁鐵與第二磁鐵形成閉合磁力線，所述磁力線用于約束位于靶材一側(cè)的電子使之形成等離子體。
[0026]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明平面陰極通過(guò)所述移位機(jī)構(gòu)調(diào)整所述磁體相對(duì)于靶材距離，從而改變靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度分布。所述平面陰極調(diào)節(jié)操作簡(jiǎn)單、調(diào)節(jié)精度高，能夠?qū)崿F(xiàn)任何苛刻膜層均勻性的要求，保證了鍍膜產(chǎn)品的產(chǎn)品質(zhì)量。
[0027]另外，本發(fā)明專利提供的平面陰極的移位機(jī)構(gòu)的調(diào)整桿延伸至大氣中，可以在鍍膜生產(chǎn)設(shè)備不破空的條件下完成，簡(jiǎn)單方便，大大的減小了鍍膜線停產(chǎn)的時(shí)間，有效的提高了鍍膜設(shè)備的產(chǎn)能。
【附圖說(shuō)明】
[0028]圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]圖2為未示出靶材的實(shí)施例1結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]圖3為陰極體基座內(nèi)部結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0031]圖4為圖1的平面陰極沿A-A線的剖視圖。
[0032]圖5為調(diào)整桿與調(diào)節(jié)螺母配合關(guān)系示意圖。
[0033]圖6為本發(fā)明平面陰極的實(shí)施例2沿A-A線的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0034]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的描述:
[0035]實(shí)施例1
[0036]請(qǐng)參閱圖1至圖5，其為本發(fā)明提供的一種平面陰極100的結(jié)構(gòu)示意圖及剖視圖。所述平面陰極100包括蓋板1，陰極體基座14，磁體，以及用于改變?cè)摯朋w相對(duì)于靶材191的距離的移位機(jī)構(gòu)。優(yōu)選地，所述平面陰極100包括第七緊固件13。該第七緊固件13將所述蓋板I與所述陰極體基座14固定連接。進(jìn)一步地，所述平面陰極100還包括與所述第七緊固件13配合的第七緊固件絕緣套10。在所述第七緊固件13為導(dǎo)體時(shí)，該第七緊固件絕緣套10套設(shè)在所述第七緊固件13上以使得所述蓋板I與所述陰極體基座14絕緣。另外，所述平面陰極100還包括設(shè)置在所述蓋板I和所述陰極體基座14之間的絕緣板12。
[0037]陰極體基座14設(shè)置有容腔141。陰極體基座14上設(shè)置有密封板31，密封板31將容腔141密封。容腔141內(nèi)設(shè)置有支撐座192。在本實(shí)施例中，靶材191通過(guò)靶材壓條18固定。下面具體說(shuō)明所述蓋板I與靶材191、所陰極體基座14的設(shè)置關(guān)系。在本實(shí)施例中，為了密封冷卻水，所述平面陰極100設(shè)置密封板31。所述密封板31設(shè)置在靶材191和所述陰極體基座14之間密封所述陰極體基座14的容腔141，使冷卻水和真空密封隔離。所述密封板31可以為具有較高氣密性的材料制成。所述密封板31固定設(shè)置在所述陰極體基座14上。優(yōu)選地，所述平面陰極100包括第一緊固件20。該第一緊固件20通過(guò)密封板壓條17將所述密封板31緊固設(shè)置在所述陰極體基座14上，密封板壓條17環(huán)繞設(shè)置在密封板31邊緣一周，將密封板31—周均固定。另外，靶材191固定設(shè)置。在如圖所示的示例中，靶材191共有十塊，排列成矩形形狀組成靶材板190。第一靶材壓條181環(huán)繞所有靶材板190四周邊緣設(shè)置。第二緊固件15依次穿過(guò)第一靶材壓條181、密封板壓條17而緊固在所述陰極體基座14上，將靶材板190四周邊緣固定。在靶材板190中部設(shè)置有一根第二靶材壓條182，將十塊靶材191固定。第二靶材壓條182通過(guò)第二緊