選為小于所使用的蒸鍍機(jī)的蒸鍍角度的角度。通過形成這樣的剖面形狀，即使出于防止蒸鍍掩模100可能產(chǎn)生的變形、或提高耐久性的目的而使金屬掩模10的厚度較厚的情況下，由蒸鍍源放出的蒸鍍材料也不會沖撞縫隙15的內(nèi)壁面等，而能夠使蒸鍍材料到達(dá)蒸鍍對象物。由此，能夠更有效地防止陰影發(fā)生。此外，樹脂掩模20的開口部25的相向的端面也可以大致平行，但如上述說明，金屬掩模10的縫隙15、及樹脂掩模20的開口部25均優(yōu)選以其剖面形狀形成朝向蒸鍍源側(cè)變寬的形狀。
[0090]金屬掩模10的材料沒有特別限定，可在蒸鍍掩模的領(lǐng)域適當(dāng)選擇使用現(xiàn)有公知的材料，例如可舉出不銹鋼、鐵鎳合金、鋁合金等金屬材料。其中，由于作為鐵鎳合金的因瓦合金材料因熱所造成的變形較少，所以也可以適宜使用。對于實施方式(B)的蒸鍍掩模也相同。
[0091]另外，在使用實施方式(A)的蒸鍍掩模100對基板上進(jìn)行蒸鍍時，在需要于基板后方配置磁鐵等而通過磁力來吸引基板前方的蒸鍍掩模100的情況下，優(yōu)選由磁性體形成金屬掩模10。作為磁性體的金屬掩模10，可舉出鐵鎳合金、純鐵、碳鋼、鎢(W)鋼、鉻(Cr)鋼、鈷(Co)鋼、包含鈷?鎢?鉻.碳的鐵的合金即KS鋼、以鐵?鎳.鋁為主成分的MK鋼、在MK鋼中添加了鈷?鈦的NKS鋼、Cu-N1-Co鋼、鋁(Al)-鐵(Fe)合金等。另外，在形成金屬掩模10的材料本身不是磁性體的情況下，也可以使上述磁性體的粉末分散在該材料中而對金屬掩模10賦予磁性。對于實施方式(B)的蒸鍍掩模也相同。
[0092]圖9是表示實施方式(A)的蒸鍍掩模100的其它方式的正面圖。如圖9所示，在由蒸鍍掩模100的金屬掩模10側(cè)觀察到的正面圖中，也可以在橫向交錯配置構(gòu)成I個畫面的開口部25。S卩，也可以在縱向錯開配置橫向相鄰的開口部25。通過這樣進(jìn)行配置，即使在樹脂掩模20熱膨脹的情況下，也可以通過開口部25吸收在各處所產(chǎn)生的膨脹，可防止膨脹累積而產(chǎn)生較大的變形。
[0093]<實施方式(B)的蒸鍍掩模>
[0094]如圖11、圖12所示，就實施方式⑶的蒸鍍掩模而言，將設(shè)有I個貫通孔15的金屬掩模10、和設(shè)有多個與要蒸鍍制作的圖案相對應(yīng)的開口部的樹脂掩模20疊層，該多個開口部25全部被設(shè)于與設(shè)于金屬掩模10的I個貫通孔重疊的位置。此外，圖11是從金屬掩模側(cè)觀察實施方式(B)的蒸鍍掩模的正面圖，圖12是圖11所示的蒸鍍掩模的局部放大概略剖面圖。
[0095]根據(jù)實施方式⑶的蒸鍍掩模100，在樹脂掩模20上設(shè)有金屬掩模10，因此，可提高蒸鍍掩模100的耐久性、或處理性。此外，在無須在樹脂掩模20上設(shè)置金屬掩模10，而形成為僅由樹脂掩模構(gòu)成的蒸鍍掩模的情況下，蒸鍍掩模的耐久性、或處理性降低。尤其是，為了形成高精細(xì)的蒸鍍圖案，樹脂掩模的厚度更優(yōu)選為較薄，在使樹脂掩模的厚度變薄的情況下，僅由樹脂掩模構(gòu)成的蒸鍍掩模的耐久性、或處理性能進(jìn)一步降低。
[0096]根據(jù)實施方式⑶的蒸鍍掩模，如上述，即使在使樹脂掩模20的厚度變薄的情況下，由于金屬掩模10的存在，從而也可以對蒸鍍掩模100賦予充分的耐久性、及處理性。
[0097]另外，在實施方式(B)的蒸鍍掩模中，在具有多個開口部25的樹脂掩模20上設(shè)有具有I個貫通孔15的金屬掩模10，且多個開口部25全部被設(shè)于與該I個貫通孔15重疊的位置。在具有該結(jié)構(gòu)的實施方式(B)的蒸鍍掩模100中，由于在開口部25之間不存在金屬部分，因此不會受到金屬部分的干擾，而可以按照設(shè)于樹脂掩模20的開口部25的尺寸形成高精細(xì)的蒸鍍圖案。
[0098]以下，使用圖17具體說明實施方式⑶的蒸鍍掩模的優(yōu)勢。此外，圖17(a)是通過多個貫通孔15a分割樹脂掩模20a所具有的開口部25a，在開口部25a間存在形成貫通孔15a的壁面的金屬部分的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖。另外，圖17(b)是在圖17(a)中，加厚金屬掩模1a的厚度的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖。
[0099]如圖17(a)、(b)所示，在開口部25a間存在形成貫通孔15a的壁面的金屬部分的情況下，在形成使用圖17(a)、(b)所示的蒸鍍掩模的蒸鍍圖案時，從蒸鍍源放出的蒸鍍材料沖撞該金屬部分，因陰影的影響，所形成的蒸鍍圖案的精度降低。此外，陰影是指由于從蒸鍍源放出的蒸鍍材料的一部分沖撞金屬掩模的貫通孔的壁面而未到達(dá)蒸鍍對象物，從而在蒸鍍圖案上產(chǎn)生成為膜厚比作為目的的蒸鍍膜厚更薄的未蒸鍍部分的現(xiàn)象。就蒸鍍材料對金屬部分的沖撞而言，金屬部分的厚度越厚，換言之，越加厚金屬掩模1a的厚度，越為明顯產(chǎn)生。
[0100]為了防止陰影的產(chǎn)生，如圖17(a)所示使金屬掩模1a的厚度變薄的對策為有效的，但在為了形成高精細(xì)的蒸鍍圖案，而使開口部25a的大小、或開口部25a間的間距微細(xì)化的情況下，即使使金屬掩模1a的厚度變薄，且使存在于開口部25a間的金屬部分的厚度變薄，也會受到陰影影響，難以形成高精細(xì)的蒸鍍圖案。另外，通過使金屬掩模1a的厚度變薄，蒸鍍掩模整體的耐久性也會降低。而且，在使開口部25a間的間距變窄的情況下，需要使存在于該開口部25a間的金屬部分細(xì)線化，金屬部分的斷線風(fēng)險變高。
[0101]另一方面，在實施方式⑶的蒸鍍掩模100中，如圖17(c)、(d)所示，由于在開口部25之間不存在形成貫通孔15的壁面的金屬部分，所以不會受到陰影影響，而可以形成高精細(xì)的蒸鍍圖案。換言之，由于形成貫通孔15的壁面的金屬部分位于蒸鍍掩模100的端部附近，因此不會對蒸鍍圖案的形成造成影響，而可以進(jìn)行高精細(xì)的蒸鍍圖案的形成。此外，如圖17(d)所示，即使在加厚金屬掩模10的厚度的情況下，也幾乎不會受到陰影影響，因此，可加厚金屬掩模10的厚度至可充分滿足耐久性或處理性為止，可以形成高精細(xì)的蒸鍍圖案，并且可以使耐久性或處理性提高。
[0102](形成實施方式(B)的蒸鍍掩模的樹脂掩模)
[0103]形成實施方式(B)的蒸鍍掩模的樹脂掩模20由樹脂構(gòu)成，如圖12所示，在與I個貫通孔15重疊的位置設(shè)有多個與要蒸鍍制作的圖案相對應(yīng)的開口部25。開口部25與要蒸鍍制作的圖案相對應(yīng)，通過使從蒸鍍源放出的蒸鍍材料通過開口部25，在蒸鍍對象物上形成與開口部25相對應(yīng)的蒸鍍圖案。在圖示的方式中，以縱橫配置多列開口部的例子進(jìn)行說明，但也可以僅以縱向或橫向進(jìn)行配置。實施方式(A)的蒸鍍掩模100在與至少由設(shè)于樹脂掩模的開口部的集合體構(gòu)成的I個畫面重疊的位置設(shè)有金屬掩模10的縫隙15，與之相對，實施方式(B)的蒸鍍掩模100在金屬掩模10的貫通孔15位于與設(shè)于樹脂掩模的全部開口部重疊的位置這一點上與實施方式(A)的蒸鍍掩模不同。除該不同之處以外，可適當(dāng)選擇在上述實施方式(A)的蒸鍍掩模中所說明的方式。以下以不同之處為中心進(jìn)行說明。
[0104]對于開口部25的形狀、大小沒有特別限定，只要為與要蒸鍍制作的圖案相對應(yīng)的形狀、大小即可。另外，如圖11所示，對于鄰接的開口部25的縱向間距P1、或橫向間距P2，也可以按照進(jìn)行蒸鍍制作的圖案進(jìn)行適當(dāng)設(shè)定。例如，在進(jìn)行400ppi的高精細(xì)的蒸鍍圖案的形成的情況下，在構(gòu)成I個畫面的開口部25中相鄰接的開口部25的縱向間距(P1)、橫向間距(P2)為60 μm左右。另外，開口部的大小為500 μπι2?1000 μπι2左右。另外，I個開口部25不限于與I像素相對應(yīng)，例如也可以通過像素排列，將多個像素匯總形成為I個開口部 25。
[0105]實施方式(B)的蒸鍍掩模100可以用于形成與I個畫面相對應(yīng)的蒸鍍圖案，也可以用于同時形成與2個以上的畫面相對應(yīng)的蒸鍍圖案。該情況下，如圖15所示，優(yōu)選按每個畫面單位隔開規(guī)定間隔設(shè)置開口部25。此外，圖15中，將由虛線封閉的區(qū)域設(shè)為“I個畫面”。圖15中，由12個開口部25構(gòu)成I個畫面，但不限于該方式，例如，在將I個開口部25設(shè)為I像素時，也可以由數(shù)百萬個開口部25構(gòu)成I個畫面。作為畫面間的間距的一例，縱向間距、橫向間距均為Imm?10mm左右。此外，畫面間的間距是指在I個畫面、和與該I個畫面鄰接的其它畫面中，相鄰接的開口部間的間距。
[0106]圖18是表示實施方式(B)的蒸鍍掩模100的其它方式的正面圖。如圖18所示，在從蒸鍍掩模100的金屬掩模10側(cè)觀察的正面圖中，也可以在橫向交錯配置開口部25。gp，也可以在縱向錯開配置以橫向相鄰的開口部25。通過如上述進(jìn)行配置，即使在樹脂掩模20熱膨脹的情況下，也可以通過開口部25來吸收在各處產(chǎn)生的膨脹，可防止膨脹累積而產(chǎn)生較大的變形。
[0107](形成實施方式(B)的蒸鍍掩模的金屬掩模)
[0108]形成實施方式(B)的蒸鍍掩模的金屬掩模10由金屬所構(gòu)成，具有I個貫通孔15。而且，在實施方式(B)的蒸鍍掩模中，該I個貫通孔15在從金屬掩模10的正面觀察時，被配置在與全部開口部25重疊的位置，換言之為能看到被配置在樹脂掩模20的全部開口部25的位置。
[0109]構(gòu)成金屬掩模10的金屬部分、即貫通孔15以外的部分可以如圖11所示沿著蒸鍍掩模100的外緣設(shè)置，也可以如圖13所示使金屬掩模10的大小比樹脂掩模20小，使樹脂掩模20的外周部分露出。此外，圖14是圖13所示的蒸鍍掩模的局部放大概略剖面圖。另夕卜，也可以使金屬掩模10的大小大于樹脂掩模20，使金屬部分的一部分向樹脂掩模的橫向外側(cè)、或縱向外側(cè)突出。此外，在任何情況下，貫通孔15的大小構(gòu)成為小于樹脂掩模20的大小。
[0110]形成圖11所示的金屬掩模10的貫通孔的壁面的金屬部分的橫向?qū)挾?Wl)、或縱向?qū)挾?W2)沒有特別限定，但隨著Wl、W2的寬度變窄，耐久性或處理性有降低的傾向。因此，W1、W2優(yōu)選為形成為可充分滿足耐久性或處理性的寬度?？砂凑战饘傺谀?0的厚度適當(dāng)設(shè)定寬度，但作為優(yōu)選的寬度的一例，W1、W2均為Imm?10mm左右。
[0111]另外，為了充分防止位于貫通孔15的內(nèi)壁面附近的開口部25中的陰影發(fā)生，優(yōu)選將貫通孔15的剖面形狀形成為朝向蒸鍍源變寬的形狀。通過形成為這樣的剖面形狀，在位于貫通孔15的內(nèi)壁面附近的開口部25，也可以不浪費地使從蒸鍍源放出的蒸鍍材料通過。具體而言，將金屬掩模10的貫通孔15的下底前端和相同的金屬掩模10的貫通孔15的上底前端相連結(jié)的直線、與金屬掩模10的底面構(gòu)成的角度優(yōu)選為25°?65°