蒸鍍掩模、蒸鍍掩模準(zhǔn)備體、蒸鍍掩模的制造方法、及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蒸鍍掩模、蒸鍍掩模準(zhǔn)備體、蒸鍍掩模的制造方法、及有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，在有機(jī)EL元件的制造中，形成有機(jī)EL元件的有機(jī)層或陰極電極時(shí)，使用例如在應(yīng)蒸鍍的區(qū)域以微小間隔平行排列多個(gè)微細(xì)縫隙而成的金屬制蒸鍍掩模。在使用該蒸鍍掩模的情況下，在應(yīng)蒸鍍的基板表面載置蒸鍍掩模，從背面使用磁鐵來保持，但是，由于縫隙的剛性極小，所以在將蒸鍍掩模保持在基板表面時(shí)，容易在縫隙處發(fā)生變形，妨礙高精細(xì)化或縫隙長(zhǎng)度大的制品大型化。
[0003]對(duì)于用于防止縫隙變形的蒸鍍掩模，已進(jìn)行各種檢討，例如在專利文獻(xiàn)I中公開了一種蒸鍍掩模，其具備:具有多個(gè)開口部的兼作第一金屬掩模的底板、在覆蓋上述開口部的區(qū)域具備多個(gè)微細(xì)縫隙的第二金屬掩模、在向縫隙的長(zhǎng)度方向拉伸的狀態(tài)下使第二金屬掩模位于底板上的掩模拉伸保持裝置。即，公開了一種組合有2種金屬掩模的蒸鍍掩模。根據(jù)該蒸鍍掩模，不會(huì)在縫隙處發(fā)生變形，而可確?？p隙精度。
[0004]但是，近年來隨著使用有機(jī)EL元件的制品的大型化或基板尺寸的大型化，對(duì)于蒸鍍掩模，大型化的要求不斷增高，制造金屬制蒸鍍掩模時(shí)所使用的金屬板也逐漸大型化。但是，在現(xiàn)在的金屬加工技術(shù)中，難以在大型金屬板上高精度地形成縫隙，即使通過上述專利文獻(xiàn)I所公開的方法等可防止縫隙部變形，也無法對(duì)應(yīng)縫隙的高精細(xì)化。另外，在形成為僅由金屬構(gòu)成的蒸鍍掩模的情況下，隨著大型化，其質(zhì)量也增大，包含框架的總質(zhì)量也增大，因此會(huì)在處理時(shí)造成障礙。
[0005]在上述所公開的蒸鍍掩模中，為實(shí)現(xiàn)蒸鍍掩模的輕質(zhì)化，需要使由金屬構(gòu)成的蒸鍍掩模的厚度變薄。但是，在使由金屬構(gòu)成的蒸鍍掩模的厚度變薄的情況下，存在蒸鍍掩模的強(qiáng)度降低、且蒸鍍掩模發(fā)生變形的情況，或存在難以處理等新的問題。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開2003?332057號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]發(fā)明所要解決的課題
[0010]本發(fā)明是鑒于如上的狀況而進(jìn)行的，其主要課題在于，提供一種在大型化的情況下，也能夠滿足高精細(xì)化及輕質(zhì)化二者，而且可在保持強(qiáng)度的同時(shí)，形成高精細(xì)的蒸鍍圖案的蒸鍍掩模；提供可簡(jiǎn)便地制造該蒸鍍掩模的蒸鍍掩模的制造方法和蒸鍍掩模準(zhǔn)備體；以及提供可高精度地制造有機(jī)半導(dǎo)體元件的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法。
[0011]用于解決課題的技術(shù)方案
[0012]用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種用于同時(shí)形成多個(gè)畫面的蒸鍍圖案的蒸鍍掩模，其特征在于，疊層有樹脂掩模和設(shè)有多個(gè)縫隙的金屬掩模，在所述樹脂掩模上設(shè)有用于構(gòu)成多個(gè)畫面所必要的開口部，所述開口部與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)，各所述縫隙設(shè)于與至少I個(gè)畫面整體相重疊的位置。
[0013]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種蒸鍍掩模，其特征在于，將設(shè)有I個(gè)貫通孔的金屬掩模和設(shè)有多個(gè)與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開口部的樹脂掩模疊層，所述多個(gè)開口部全部設(shè)于與所述I個(gè)貫通孔重疊的位置。
[0014]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種用于獲得蒸鍍掩模的蒸鍍掩模準(zhǔn)備體，其特征在于，在樹脂板的一面疊層設(shè)有縫隙的金屬掩模而成，各所述縫隙設(shè)于與構(gòu)成最終設(shè)于所述樹脂板的I個(gè)畫面的開口部整體相重疊的位置，所述蒸鍍掩模疊層有樹脂掩模和設(shè)有多個(gè)縫隙的金屬掩模，在所述樹脂掩模上設(shè)有用于構(gòu)成多個(gè)畫面所必要的開口部，且所述開口部與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)，各所述縫隙設(shè)于與至少I個(gè)畫面整體相重疊的位置。
[0015]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種用于獲得蒸鍍掩模的蒸鍍掩模準(zhǔn)備體，其特征在于，在樹脂板的一面疊層設(shè)有縫隙的金屬掩模而成，各所述I個(gè)貫通孔設(shè)于與最終設(shè)于所述樹脂板的開口部整體相重疊的位置，所述蒸鍍掩模疊層有設(shè)有I個(gè)貫通孔的金屬掩模和設(shè)有多個(gè)與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開口部的樹脂掩模，所述多個(gè)開口部全部設(shè)于與所述I個(gè)貫通孔重疊的位置。
[0016]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種蒸鍍掩模的制造方法，其特征在于，具備:準(zhǔn)備疊層有樹脂板和設(shè)有多個(gè)縫隙的金屬掩模的帶樹脂板的金屬掩模的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，從而在所述樹脂板上形成用于構(gòu)成多個(gè)畫面所必要的開口部的樹脂掩模形成工序；作為所述金屬掩模，使用在與所述多個(gè)畫面中的至少I個(gè)畫面整體相重疊的位置設(shè)有縫隙的金屬掩模。
[0017]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種蒸鍍掩模的制造方法，其特征在于，具備:準(zhǔn)備疊層有樹脂板和設(shè)有I個(gè)貫通孔的金屬掩模的帶樹脂板的金屬掩模的工序；從所述金屬掩模側(cè)照射激光，從而在所述樹脂板的與所述I個(gè)貫通孔重疊的位置形成多個(gè)開口部的樹脂掩模形成工序。
[0018]另外，在上述制造方法中，也可以在框架上固定了所述帶樹脂板的金屬掩模后，進(jìn)行所述樹脂掩模形成工序。
[0019]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，其特征在于，包含:使用框架上固定有蒸鍍掩模的帶框架的蒸鍍掩模，在蒸鍍對(duì)象物上形成蒸鍍圖案的工序；在所述形成蒸鍍圖案的工序中，固定于所述框架的所述蒸鍍掩模疊層有樹脂掩模和設(shè)有多個(gè)縫隙的金屬掩模，在所述樹脂掩模上設(shè)有用于構(gòu)成多個(gè)畫面所必要的開口部，各所述縫隙設(shè)于與至少I個(gè)畫面整體相重疊的位置。
[0020]另外，用于解決上述課題的本發(fā)明提供一種有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，其特征在于，包含:使用框架上固定有蒸鍍掩模的帶框架的蒸鍍掩模，在蒸鍍對(duì)象物上形成蒸鍍圖案的工序，在所述形成蒸鍍圖案的工序中，固定于所述框架的上述蒸鍍掩模疊層有設(shè)有I個(gè)貫通孔的金屬掩模和設(shè)有多個(gè)與要蒸鍍制作的圖案相對(duì)應(yīng)的開口部的樹脂掩模，所述多個(gè)開口部全部設(shè)于與所述I個(gè)貫通孔重疊的位置。
[0021]發(fā)明的效果
[0022]根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍掩模，在大型化的情況下，也可以滿足高精細(xì)化及輕質(zhì)化二者，且可在保持蒸鍍掩模整體的強(qiáng)度的同時(shí)，形成高精細(xì)的蒸鍍圖案。另外，根據(jù)本發(fā)明的蒸鍍掩模準(zhǔn)備體、或蒸鍍掩模的制造方法，可簡(jiǎn)便地制造上述特征的蒸鍍掩模。另外，根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)半導(dǎo)體元件的制造方法，可高精度地制造有機(jī)半導(dǎo)體元件。
【附圖說明】
[0023]圖1是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0024]圖2是圖1所示的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖；
[0025]圖3是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0026]圖4是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0027]圖5是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0028]圖6是實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖；
[0029]圖7是從樹脂掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0030]圖8是表示陰影和金屬掩模的厚度的關(guān)系的概略剖面圖；
[0031]圖9是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0032]圖10是用于說明實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的制造方法的例子的工序圖，需要說明的是，(a)?(C)全為剖面圖；
[0033]圖11是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0034]圖12是圖11所示的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖；
[0035]圖13是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0036]圖14是圖13所示的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖；
[0037]圖15是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0038]圖16是實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的局部放大剖面圖；
[0039]圖17是表示陰影和金屬掩模的厚度的關(guān)系的概略剖面圖；
[0040]圖18是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的正面圖；
[0041]圖19是用于說明實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模的制造方法的例子的工序圖，需要說明的是，(a)?(C)為剖面圖；
[0042]圖20是從樹脂掩模側(cè)觀察一實(shí)施方式的帶框架的蒸鍍掩模的正面圖；
[0043]圖21是從樹脂掩模側(cè)觀察一實(shí)施方式的帶框架的蒸鍍掩模的正面圖。
[0044]標(biāo)記說明
[0045]100蒸鍍掩模
[0046]10金屬掩模
[0047]15縫隙、貫通孔
[0048]20樹脂掩模
[0049]25 開口部
[0050]28 槽
[0051]60金屬框架
[0052]200帶框架的蒸鍍掩模
【具體實(shí)施方式】
[0053]以下，將本發(fā)明一實(shí)施方式的蒸鍍掩模100分為實(shí)施方式(A)、實(shí)施方式(B)并使用附圖進(jìn)行具體說明。
[0054]<實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模>
[0055]如圖1?圖7、圖9所示，實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模100是用于同時(shí)形成多個(gè)畫面的蒸鍍圖案的蒸鍍掩模，其特征在于:由設(shè)有多個(gè)縫隙15的金屬掩模10和樹脂掩模20疊層而成，在樹脂掩模20上設(shè)有用于構(gòu)成多個(gè)畫面所必要的開口部25，各縫隙15被設(shè)在與至少I個(gè)畫面整體相重疊的位置。此外，圖1、圖3?圖5、圖9是從金屬掩模側(cè)觀察實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模的正面圖，圖2、圖6是圖1所示的蒸鍍掩模的局部放大概略剖面圖。
[0056]實(shí)施方式(A)的蒸鍍掩模100是用于同時(shí)形成多個(gè)畫面的蒸鍍圖案而使用的蒸鍍掩模，可利用I個(gè)蒸鍍掩模100同時(shí)形成與多個(gè)制品相對(duì)應(yīng)的蒸鍍圖案。本案說明書中所說的“開口部”是指要使用實(shí)施方式(A)、及實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模制作的圖案，例如在將該蒸鍍掩模用于形成有機(jī)EL顯示器中的有機(jī)層的情況下，開口部25的形狀為該有機(jī)層的形狀。在實(shí)施方式(A)、及實(shí)施方式(B)的蒸鍍掩模100中，由蒸鍍?cè)捶懦龅恼翦儾牧贤ㄟ^開口部25，由此，在蒸鍍對(duì)象物形成與開口部25相對(duì)應(yīng)的蒸鍍圖案。另外，“I個(gè)畫面”是指由與I個(gè)制品相對(duì)應(yīng)的開口部25的集合體構(gòu)成，在該I個(gè)制品為有機(jī)EL顯示器的情況下，形成I個(gè)有機(jī)EL顯示器所必要的有機(jī)層的集合體，即成為有機(jī)層