本技術(shù)屬于濺射靶材更換配套設(shè)備，具體涉及一種用于磁控濺射靶材更換的工作艙。

背景技術(shù)：

1、因pvd(physical?vapor?deposition，物理氣相沉積)磁控濺射靶材消耗后存在靶材更換，現(xiàn)解決方案為現(xiàn)場(chǎng)吊裝腔蓋至換靶小車(chē)后直接拆卸遮罩、護(hù)板更換靶材，此時(shí)粉塵四處飄散無(wú)法控制，由于金石粉塵顆粒小，如未佩戴專(zhuān)用口罩不慎吸入將對(duì)人體產(chǎn)生不可逆的傷害；另外粉塵會(huì)嚴(yán)重污染車(chē)間潔凈度，增加了車(chē)間潔凈度管理成本，降低了降低產(chǎn)品良率。

2、即，現(xiàn)有技術(shù)直接在潔凈間進(jìn)行pvd換靶作業(yè)，對(duì)作業(yè)產(chǎn)生的粉塵完全無(wú)法控制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于：提供了一種用于磁控濺射靶材更換的工作艙，解決了因pvd磁控濺射靶材更換造成的ito(indium?tin?oxide，氧化銦錫)粉塵飄散的問(wèn)題，不僅避免了車(chē)間潔凈度污染，降低了潔凈間管控成本，提高了因粉塵產(chǎn)生的不良品良率，還避免了車(chē)間其它工作人員吸入ito粉塵造成肺塵埃沉著病的風(fēng)險(xiǎn)。

2、本實(shí)用新型的目的通過(guò)下述技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：

3、一種用于磁控濺射靶材更換的工作艙，包括艙體主體，艙體主體為上開(kāi)口結(jié)構(gòu)，艙體主體內(nèi)設(shè)有鏤空地板，鏤空地板將艙體主體內(nèi)分為上方的工作空間和下方的負(fù)壓空間，鏤空地板上設(shè)有位于工作空間內(nèi)的工作臺(tái)，艙體主體上設(shè)有連通外界與負(fù)壓空間的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組，艙體主體上設(shè)有連通外界與工作空間的艙門(mén)。

4、進(jìn)一步的，所述的艙體主體為長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)。

5、進(jìn)一步的，所述的艙體主體包括型材框架、透明擋板、密封擋板和底板，透明擋板設(shè)在型材框架側(cè)部上位于鏤空地板上方的位置，密封擋板設(shè)在型材框架側(cè)部上位于鏤空地板下方的位置，底板設(shè)在型材框架底部的位置。

6、進(jìn)一步的，所述的型材框架為鋁合金材質(zhì)，透明擋板為亞克力材質(zhì)。

7、進(jìn)一步的，所述的鏤空地板為圓孔鋼板。

8、進(jìn)一步的，所述的工作臺(tái)包括第一臺(tái)架、第二臺(tái)架和轉(zhuǎn)架，第一臺(tái)架與第二臺(tái)架之間設(shè)置沿水平軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)架。

9、進(jìn)一步的，所述的工作臺(tái)還包括安置臺(tái)和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，第二臺(tái)架上設(shè)有安置臺(tái)，安置臺(tái)上設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)與轉(zhuǎn)架連接。

10、進(jìn)一步的，所述的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組對(duì)稱(chēng)布置在艙體主體的前后兩側(cè)。

11、進(jìn)一步的，所述的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組設(shè)有六組。

12、進(jìn)一步的，所述的艙門(mén)為鉸接式結(jié)構(gòu)。

13、本實(shí)用新型的有益效果：通過(guò)型材結(jié)合透明擋板隔絕工作臺(tái)與外界，通過(guò)風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組、鏤空地板將粉塵從平臺(tái)下方抽走，避免粉塵傳播，保證車(chē)間潔凈度、良率、返工率不被影響的同時(shí)，減少了人員吸入ito粉塵的風(fēng)險(xiǎn)。

14、前述本實(shí)用新型主方案及其各進(jìn)一步選擇方案可以自由組合以形成多個(gè)方案，均為本實(shí)用新型可采用并要求保護(hù)的方案；并且本實(shí)用新型，(各非沖突選擇)選擇之間以及和其他選擇之間也可以自由組合。本領(lǐng)域技術(shù)人員在了解本方案后根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)和公知常識(shí)可明了有多種組合，均為本實(shí)用新型所要保護(hù)的技術(shù)方案，在此不做窮舉。

技術(shù)特征：

1.一種用于磁控濺射靶材更換的工作艙，包括艙體主體(1)，其特征在于：所述的艙體主體(1)為上開(kāi)口結(jié)構(gòu)，艙體主體(1)內(nèi)設(shè)有鏤空地板(2)，鏤空地板(2)將艙體主體(1)內(nèi)分為上方的工作空間和下方的負(fù)壓空間，鏤空地板(2)上設(shè)有位于工作空間內(nèi)的工作臺(tái)(3)，艙體主體(1)上設(shè)有連通外界與負(fù)壓空間的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組(4)，艙體主體(1)上設(shè)有連通外界與工作空間的艙門(mén)(5)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的艙體主體(1)包括型材框架(11)、透明擋板(12)、密封擋板(13)和底板，透明擋板(12)設(shè)在型材框架(11)側(cè)部上位于鏤空地板(2)上方的位置，密封擋板(13)設(shè)在型材框架(11)側(cè)部上位于鏤空地板(2)下方的位置，底板設(shè)在型材框架(11)底部的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的型材框架(11)為鋁合金材質(zhì)，透明擋板(12)為亞克力材質(zhì)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的鏤空地板(2)為圓孔鋼板。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的工作臺(tái)(3)包括第一臺(tái)架(31)、第二臺(tái)架(32)和轉(zhuǎn)架(33)，第一臺(tái)架(31)與第二臺(tái)架(32)之間設(shè)置沿水平軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)架(33)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的工作臺(tái)(3)還包括安置臺(tái)(34)和轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(35)，第二臺(tái)架(32)上設(shè)有安置臺(tái)(34)，安置臺(tái)(34)上設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(35)，轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(35)與轉(zhuǎn)架(33)連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組(4)對(duì)稱(chēng)布置在艙體主體(1)的前后兩側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組(4)設(shè)有六組。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射靶材更換的工作艙，其特征在于：所述的艙門(mén)(5)為鉸接式結(jié)構(gòu)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種用于磁控濺射靶材更換的工作艙，包括艙體主體，艙體主體為上開(kāi)口結(jié)構(gòu)，艙體主體內(nèi)設(shè)有鏤空地板，鏤空地板將艙體主體內(nèi)分為上方的工作空間和下方的負(fù)壓空間，鏤空地板上設(shè)有位于工作空間內(nèi)的工作臺(tái)，艙體主體上設(shè)有連通外界與負(fù)壓空間的風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組，艙體主體上設(shè)有連通外界與工作空間的艙門(mén)。本技術(shù)的有益效果：通過(guò)型材結(jié)合透明擋板隔絕工作臺(tái)與外界，通過(guò)風(fēng)機(jī)過(guò)濾機(jī)組、鏤空地板將粉塵從平臺(tái)下方抽走，避免粉塵傳播，保證車(chē)間潔凈度、良率、返工率不被影響的同時(shí)，減少了人員吸入ITO粉塵的風(fēng)險(xiǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：賈偉,陳柏維,李貴成,李意強(qiáng),王鴻渝,李紅有,楊文棟
受保護(hù)的技術(shù)使用者：眉山璉升光伏科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240428
技術(shù)公布日：2024/12/19