本技術(shù)涉及陽極鍍膜，尤其涉及一種基板陽極定點鍍膜裝置。

背景技術(shù)：

1、在現(xiàn)有技術(shù)中，陽極鍍膜技術(shù)基本為在驅(qū)動基板的一側(cè)進行整面鍍膜，再通過干法刻蝕等工藝完成陽極的制備。如公開號為cn112103402a的專利公開了一種oled陽極的制備方法，先用去離子水清洗硅基板，再在硅基板上形成陽極層，然后在陽極層上均勻旋涂堿溶性抗發(fā)射涂層和正性光刻膠層，然后對光刻膠層和抗反射涂層進行光刻、顯影獲得像素點的圖形，然后采用刻蝕性氣體轟擊底部不被光刻膠層和抗發(fā)射涂層保護的陽極層，再用顯影液去除光刻膠層和抗反射涂層，形成陽極像素點最后對硅基板進行清洗、烘干。

2、而對于小型的驅(qū)動基板，例如ar眼鏡、電子手表屏等上的芯片外端子不可鍍膜，需要在芯片顯示區(qū)進行精確的陽極鍍膜，而現(xiàn)有的整面陽極鍍膜工藝存在精度不夠和溢鍍情況，不能滿足制備要求。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供了一種基板陽極定點鍍膜裝置，其結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，可實現(xiàn)陽極的定點鍍膜，避免了溢鍍的情況，提高了鍍膜精度和效率。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：所述基板陽極定點鍍膜裝置，包括基片框架及其內(nèi)可拆卸連接的支撐框架，所述支撐框架上定位放置有掩膜板，所述掩膜板上放置有驅(qū)動基板，所述掩膜板上設(shè)置有多個與所述驅(qū)動基板上的多個芯片顯示區(qū)相對的通孔。

3、所述基片框架的底部設(shè)置有定位槽ⅰ，所述定位槽ⅰ內(nèi)放置所述支撐框架。

4、所述支撐框架的兩側(cè)沿其長度方向分別間隔設(shè)置有多個固定支耳，所述固定支耳搭接在所述基片框架上后通過螺栓組件與所述基片框架相連。

5、所述固定支耳設(shè)置為l形支耳，所述固定支耳的外端搭接固定在所述基片框架邊緣。

6、所述支撐框架底部設(shè)置有定位槽ⅱ，所述定位槽ⅱ內(nèi)定位放置所述掩膜板。

7、所述支撐框架的內(nèi)側(cè)邊緣設(shè)置有一個或多個便于拿放所述掩膜板的缺口。

8、所述驅(qū)動基板上貼附有壓緊蓋板。

9、本實用新型的有益效果是：

10、本實用新型通過對驅(qū)動基板的尺寸進行采集并制作包括對應(yīng)尺寸的通孔的掩膜板，并對現(xiàn)有的鍍膜機基片架進行結(jié)構(gòu)改進，在基片框架上可拆卸安裝支撐框架，可穩(wěn)定支撐對應(yīng)的掩膜板，將驅(qū)動基板放置在掩膜板上后通過壓緊蓋板將驅(qū)動基板壓緊，通過磁控濺射等方法可在驅(qū)動基板上的芯片顯示區(qū)進行定點鍍膜，避免了溢鍍的情況，提高了鍍膜精度和效率。

技術(shù)特征：

1.一種基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于，包括基片框架及其內(nèi)可拆卸連接的支撐框架，所述支撐框架上定位放置有掩膜板，所述掩膜板上放置有驅(qū)動基板，所述掩膜板上設(shè)置有多個與所述驅(qū)動基板上的多個芯片顯示區(qū)相對的通孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述基片框架的底部設(shè)置有定位槽ⅰ，所述定位槽ⅰ內(nèi)放置所述支撐框架。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述支撐框架的兩側(cè)沿其長度方向分別間隔設(shè)置有多個固定支耳，所述固定支耳搭接在所述基片框架上后通過螺栓組件與所述基片框架相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述固定支耳設(shè)置為l形支耳，所述固定支耳的外端搭接固定在所述基片框架邊緣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述支撐框架底部設(shè)置有定位槽ⅱ，所述定位槽ⅱ內(nèi)定位放置所述掩膜板。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述支撐框架的內(nèi)側(cè)邊緣設(shè)置有一個或多個便于拿放所述掩膜板的缺口。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板陽極定點鍍膜裝置，其特征在于：所述驅(qū)動基板上貼附有壓緊蓋板。

技術(shù)總結(jié)
一種基板陽極定點鍍膜裝置，屬于陽極鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，該基板陽極定點鍍膜裝置，包括基片框架及其內(nèi)可拆卸連接的支撐框架，所述支撐框架上定位放置有掩膜板，所述掩膜板上放置有驅(qū)動基板，所述掩膜板上設(shè)置有多個與所述驅(qū)動基板上的多個芯片顯示區(qū)相對的通孔，本技術(shù)的有益效果是，本技術(shù)結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，可實現(xiàn)陽極的定點鍍膜，避免了溢鍍的情況，提高了鍍膜精度和效率。

技術(shù)研發(fā)人員：韋孝峰,陶方查,袁靜,聶平,苗聰,尹宇航
受保護的技術(shù)使用者：蕪湖長信科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240104
技術(shù)公布日：2024/12/19