本實(shí)用新型涉及超高真空設(shè)備領(lǐng)域,特別涉及一種磁偏轉(zhuǎn)電子束蒸發(fā)源。
背景技術(shù):
在半導(dǎo)體集成電路,傳感器和太陽能電池板的生產(chǎn)過程中,很多結(jié)構(gòu)都需要真空鍍膜技術(shù)來生成。因此真空鍍膜直接決定了半導(dǎo)體和太陽能電池板等產(chǎn)品的質(zhì)量。真空鍍膜的研究與應(yīng)用都離不開其產(chǎn)生設(shè)備,因此蒸發(fā)源的研發(fā)具有重要意義。
目前國內(nèi)外的主要真空鍍膜技術(shù)有真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜,其中應(yīng)用最多的是真空蒸發(fā)鍍膜。真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù),即在高真空或超高真空的腔室中通過蒸發(fā)源加熱使膜材(如金屬或化合物)蒸發(fā)。蒸發(fā)的粒子從膜材表面逸出,在蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源與基片間的線尺寸的情況下,可直接到達(dá)基片表面上并凝結(jié)生成膜。影響蒸發(fā)鍍膜性能的主要因素是蒸發(fā)速率、殘余氣體和蒸發(fā)溫度。蒸發(fā)速率直接決定了薄膜的質(zhì)量,相應(yīng)的膜材對(duì)應(yīng)相應(yīng)的蒸發(fā)速率和沉積速率,蒸發(fā)鍍膜與其他鍍膜方法對(duì)比有更高的沉積率,可以蒸鍍大多數(shù)的金屬和化合物膜。
在真空蒸發(fā)鍍膜中,常見的蒸發(fā)源有四種類型:(1)電阻加熱蒸發(fā)源,它是利用對(duì)發(fā)熱體直接通電,利用電流通過后產(chǎn)生的焦耳熱來熔化金屬膜材實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)。(2)感應(yīng)加熱蒸發(fā)源,它是用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和感應(yīng)物質(zhì)。(3)激光加熱蒸發(fā)源,其利用高效率的激光束作為加熱源直接對(duì)膜材進(jìn)行加熱。(4)電子束加熱蒸發(fā)源,其原理是基于電子在電場的作用下,所獲得的動(dòng)能轉(zhuǎn)化為加熱的熱能,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)膜材的加熱,蒸發(fā),凝結(jié)成所需薄膜。它主要由提供電子的陰極,陽極,聚束極和磁場組成。電子束加熱源的特點(diǎn)是能量集中,能使膜材表面迅速獲得極高的溫度,膜材蒸發(fā)速率和薄膜沉積速率較高,可通水冷卻,可調(diào)控溫度范圍大。
目前的電子束加熱蒸發(fā)源大都是利用高溫電子轟擊膜材靠巨大的能量熔化金屬(或化合物)再使其蒸發(fā)并鍍膜。與之而來的是充當(dāng)陰極的燈絲發(fā)射出來的電子極易直接入射在基片上,降低了薄膜純度。同時(shí)燈絲也極易被電離出來的正離子轟擊和來自坩堝內(nèi)濺射出來的蒸發(fā)物所污染。絕大數(shù)的電子束蒸發(fā)源都采用磁偏轉(zhuǎn)的方式減少污染,主要有如圖一所示三種偏轉(zhuǎn)角度。180°、225°偏轉(zhuǎn)蒸發(fā)源燈絲還是會(huì)受坩堝內(nèi)蒸發(fā)物污染,效果不佳。由于熱電子轟擊坩堝內(nèi)膜材導(dǎo)致坩堝溫度急劇升高(可達(dá)2000℃~6000℃),傳統(tǒng)的冷卻機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)復(fù)雜,散熱效果不佳,溫度控制能力較差,大大影響了薄膜性能。除此之外,目前國內(nèi)外絕大數(shù)的磁偏轉(zhuǎn)蒸發(fā)源都是利用通電的磁力線圈產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)磁場的,磁力線圈通電發(fā)熱極易產(chǎn)生雜質(zhì)電子污染燈絲和薄膜。
我國目前沒有國產(chǎn)的磁偏轉(zhuǎn)電子束蒸發(fā)源。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型針對(duì)上述技術(shù)問題,提出一種能在真空中結(jié)構(gòu)簡單的高效率蒸發(fā)和沉積的的電子束蒸發(fā)源,并且極大地提高所生長的薄膜的純度的磁偏轉(zhuǎn)電子束蒸發(fā)源。
為達(dá)到以上目的,通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
磁偏轉(zhuǎn)電子束蒸發(fā)源,包括:電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)、磁偏轉(zhuǎn)組件、水冷坩堝機(jī)構(gòu)、直線換位機(jī)構(gòu)和工作電路;
所述的電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)包括:燈絲、燈絲座A、燈絲座B、陶瓷片、陶瓷座、陶瓷座套筒、支撐塊、陶瓷柱、陶瓷柱保護(hù)罩、陰極屏蔽罩、磁鐵套;
所述的燈絲以螺釘連接的方式固定在燈絲座A和燈絲座B上;所述的兩陶瓷片以螺釘連接的方式固定在燈絲座A的上下兩定位孔內(nèi),兩陶瓷座位于燈絲座A和燈絲座B正下方,以同軸心的形式分別和兩燈絲座裝配;所述的兩陶瓷座套筒與陶瓷座間隙配合并以螺釘?shù)倪B接的形式與陶瓷座一起固定在所述支撐塊上;所述支撐塊以螺釘?shù)倪B接方式固定在磁鐵套上,且支撐塊設(shè)置有具有放氣的作用前后兩通孔;其中,兩個(gè)燈絲座、陶瓷座套筒和陶瓷座縱向同軸均預(yù)設(shè)有螺釘裝配通孔,通過貫穿裝配的同一根螺釘連接在一起,磁鐵套、支撐塊和陶瓷座縱向同軸預(yù)設(shè)有螺釘裝配通孔,通過另一根螺釘貫穿裝配連接在一起,上述螺釘裝配通孔為縱向同軸通孔;
所述的陰極屏蔽罩位于兩燈絲座和兩陶瓷座套筒之間;所述的陶瓷柱以螺釘連接的方式固定在燈絲座A和燈絲座B之間,用以固定并絕緣兩燈絲座;
所述的陶瓷柱保護(hù)罩以螺釘連接的方式固定在陶瓷柱一側(cè)用來保護(hù)陶瓷柱;
所述的磁偏轉(zhuǎn)組件包括:永久磁鐵、軛鐵、磁偏轉(zhuǎn)擋片、磁鐵固定墊片和非磁性擋片;
所述的永久磁鐵嵌于上述磁鐵套內(nèi),并由磁鐵固定墊片通過螺釘連接固定在所述的磁鐵套上;所述的軛鐵本身無磁性,共有四塊,分別焊接在水冷坩堝機(jī)構(gòu)的無氧銅坩堝上,經(jīng)對(duì)應(yīng)位置的永久磁鐵磁化后具備磁性兩軛鐵在電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)區(qū)域構(gòu)成均勻磁場,對(duì)電子起到了偏轉(zhuǎn)270°的作用;
所述的磁偏轉(zhuǎn)擋片以螺釘連接的形式固定在所述燈絲座B上方;所述的非磁性擋片受永久磁鐵磁力吸附在磁鐵外側(cè);
所述的水冷坩堝機(jī)構(gòu)包括:無氧銅坩堝、坩堝后蓋、坩堝內(nèi)襯、水冷內(nèi)筒、水冷外筒和冷卻筒滑塊;
所述的坩堝后蓋通過釬焊的方式焊接在所述無氧銅坩堝上;所述的坩堝內(nèi)襯形狀、大小與無氧銅坩堝槽相近;坩堝內(nèi)襯的材料為石墨,Mo或Ta;所述水冷內(nèi)筒一端焊接在無氧銅坩堝上作為進(jìn)水口,另一端通過螺紋連接的形式和連接接口管連接;所述的水冷外筒一端焊接在無氧銅坩堝上作為出水口;所述的冷卻筒滑塊與水冷外筒焊接在一起,水冷內(nèi)筒位于水冷外筒內(nèi),冷卻水由水冷內(nèi)筒流入,從水冷外筒流出;
所述的直線換位機(jī)構(gòu)包括:壓板A、壓板B、坩堝底座壓板、焊接波紋管、滑軌嵌套、追加工法蘭、銅螺母、塑料片、擰把手、銅片、螺紋絲杠、滑軌和滑軌滑塊;所述的坩堝底座壓板通過螺釘與上述的無氧銅坩堝連接;所述的冷卻筒滑塊與所述的坩堝底座以螺釘連接的形式固定,并且其上端面和前端面分別與裝有滑軌嵌套的壓板A和壓板B通過螺釘連接,可以實(shí)現(xiàn)在壓板A的軸向方向的滑動(dòng),從而帶動(dòng)無氧銅坩堝一起滑動(dòng);所述壓板A和壓板B通過焊接的方式固定,并且與所述追加工法蘭焊接成一體;所述的焊接波紋管一端與冷卻筒滑塊焊接固定,另一端與追加工法蘭焊接固定;以上各部件位于真空內(nèi)部;所述的銅片與追加工法蘭焊接固定;所述的螺紋絲杠一端與上述冷卻筒滑塊焊接固定,另一端與水冷外筒連接接口連接,螺紋絲杠實(shí)際也作為水冷外筒往外排出冷卻水;所述銅螺母與螺紋絲杠進(jìn)行螺紋連接,所述的擰把手套在銅螺母上,并且通過一根細(xì)小的螺釘與銅螺母夾緊;所述的塑料片套在擰把手上;所述的滑軌焊接在追加工法蘭上;所述的滑軌滑塊與滑軌間隙配合,滑軌滑塊便可以在滑軌上滑動(dòng);即,擰動(dòng)擰把手帶動(dòng)銅螺母與螺紋絲杠相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)變旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)為直線運(yùn)動(dòng),原本壓縮后的焊接波紋管慢慢復(fù)原,冷卻筒滑塊帶動(dòng)著固定的無氧銅坩堝向前移動(dòng),達(dá)到換位的目的;
所述的工作電路由:銅棒、電極法蘭、燈絲、燈絲座A、燈絲座B、無氧銅坩堝組成;其中,兩銅棒一端分別與燈絲座A和燈絲座B相連,另一端分別與電極法蘭預(yù)設(shè)接口相連;所述燈絲兩端分別固定在燈絲座A和燈絲座B的插口處,由外接電源經(jīng)銅棒、燈絲座給燈絲作為陰極,且通負(fù)高壓U=3.5kV,無氧銅坩堝作為陽極接地。
采用上述技術(shù)方案的本實(shí)用新型與現(xiàn)有的技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下有益效果:
1、由于熱電子轟擊坩堝內(nèi)膜材時(shí)的能量至少3.5KeV,這足以讓絕大多數(shù)的金屬熔化,因此充分可靠的冷卻構(gòu)造極其重要。本實(shí)用新型的冷卻構(gòu)造是雙層水冷,冷卻外筒內(nèi)的冷卻內(nèi)筒將冷卻水直接送至無氧銅坩堝,冷卻水穿過無氧銅坩堝帶走熱量從冷卻外筒流出。本實(shí)用新型的待蒸發(fā)膜材位于無氧銅坩堝內(nèi)襯內(nèi),采用的坩堝內(nèi)襯可以使整個(gè)熔池的溫度分布趨于均勻,并且防止無氧銅坩堝的材料污染薄膜。陽極的無氧銅坩堝的溫度和冷卻水的流量可以實(shí)時(shí)監(jiān)控,這樣的水冷構(gòu)造可以使設(shè)備在使用過程中保持較低的溫度,從而可以在真空中穩(wěn)定運(yùn)行,提高了蒸發(fā)源的使用壽命。
2、為了獲取一些多種金屬材料合成后的薄膜,要求在鍍膜期間用一個(gè)蒸發(fā)源來蒸發(fā)幾種材料,本實(shí)用新型采用三孔坩堝來依次進(jìn)行蒸發(fā)。本實(shí)用新型采用直線換位機(jī)構(gòu)可以有效的實(shí)現(xiàn)這一功能,并且三個(gè)坩堝槽的位置相距較遠(yuǎn),相比旋轉(zhuǎn)換位機(jī)構(gòu),直線換位機(jī)構(gòu)可以避免幾個(gè)坩堝的膜材在未完全蒸發(fā)凝結(jié)成膜前相互污染。
3、本實(shí)用新型采用燈絲加熱的方式發(fā)射熱電子,熱電子經(jīng)陰極和陽極之間的電場加速后飛往陽極。為了增加蒸發(fā)的速率,需使電子束集中地打在所需蒸發(fā)膜材上??陀^的講就是束斑的大小是影響蒸發(fā)速率的關(guān)鍵因素,束斑大蒸發(fā)效率降低,束斑太小膜材容易飛濺,坩堝內(nèi)襯容易崩裂。因此本實(shí)用新型采用了一種陰極屏蔽罩,此陰極屏蔽罩不僅可以屏蔽下方永久磁鐵產(chǎn)生的磁場對(duì)燈絲發(fā)射電子的干擾,而且還能作為控制極來調(diào)整束斑的大小。這樣即可以提高蒸發(fā)效率還可以防止膜材飛濺污染燈絲。
4、真空鍍膜的關(guān)鍵是確保薄膜的純凈度。但蒸發(fā)膜材時(shí)燈絲發(fā)射出來的熱電子極易直接入射在基片上,降低了薄膜純度。同時(shí)燈絲也極易被來自坩堝內(nèi)濺射出來的蒸發(fā)物所污染。為了解決這一難題,本實(shí)用新型采用磁偏轉(zhuǎn)電子束的方式降低對(duì)燈絲和薄膜的污染。與國內(nèi)外大多數(shù)蒸發(fā)源不同,本實(shí)用新型采用永久磁鐵取代利用通電產(chǎn)生偏轉(zhuǎn)磁場的磁力線圈,因?yàn)榇帕€圈通電發(fā)熱極易產(chǎn)生雜質(zhì)電子污染燈絲和薄膜。本實(shí)用新型利用永久磁鐵磁化所需蒸發(fā)膜材所在坩堝槽兩邊的軛鐵,軛鐵受到磁化后獲得磁性產(chǎn)生均勻磁場,燈絲發(fā)射的電子在電場加速后經(jīng)磁場偏轉(zhuǎn)270°射到坩堝內(nèi)膜材上。燈絲和坩堝內(nèi)膜材處于異面,可以有效的防止燈絲被來自坩堝內(nèi)濺射出來的蒸發(fā)物所污染,從而大大提高了薄膜膜的純度。
5、本實(shí)用新型適用于超高真空環(huán)境,其零件選用的材質(zhì)完全適合超高真空使用,安裝法蘭采用刀口法蘭,可承受250℃的高溫烘烤,使設(shè)備在使用時(shí)能保持真空環(huán)境的真空度。
6、本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊、性能穩(wěn)定、使用壽命長、操作簡單、可量化生產(chǎn)。
上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段,而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施,并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂,以下特舉較佳實(shí)施例,并配合附圖,詳細(xì)說明如下。
附圖說明
本實(shí)用新型共10幅附圖,其中:
圖1為本實(shí)用新型的主視立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型的后視立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實(shí)用新型的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本實(shí)用新型的右視圖。
圖5為本實(shí)用新型的工作原理圖。
圖6為圖3C處局部放大圖。
圖7為本實(shí)用新型的電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖8為本實(shí)用新型的電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)俯視圖。
圖9為本實(shí)用新型的電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)右視圖。
圖10為圖9A-A剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1至圖10所示的一種磁偏轉(zhuǎn)電子束蒸發(fā)源,包括:電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)、磁偏轉(zhuǎn)組件、水冷坩堝機(jī)構(gòu)、直線換位機(jī)構(gòu)和工作電路;
所述的電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)包括:燈絲8、燈絲座A12、燈絲座B11、陶瓷片10、陶瓷座9、陶瓷座套筒15、支撐塊13、陶瓷柱14、陶瓷柱保護(hù)罩7、陰極屏蔽罩3、磁鐵套1;
所述的燈絲以螺釘連接的方式固定在燈絲座A12和燈絲座B11上,燈絲自身具有一定電阻在通過負(fù)高壓和電流的情況下發(fā)熱并發(fā)射熱電子;所述的兩陶瓷片10以螺釘連接的方式固定在燈絲座A12的上下兩定位孔內(nèi),兩陶瓷座9位于燈絲座A12和燈絲座B11正下方,以同軸心的形式分別和兩燈絲座裝配;所述的兩陶瓷座套筒15與陶瓷座9間隙配合并以螺釘?shù)倪B接的形式與陶瓷座9一起固定在所述支撐塊13上;所述支撐塊13以螺釘?shù)倪B接方式固定在磁鐵套1上,起到了支撐和保護(hù)陶瓷座的作用,且支撐塊13設(shè)置有具有放氣的作用前后兩通孔;其中,兩個(gè)燈絲座、陶瓷座套筒15和陶瓷座9縱向同軸均預(yù)設(shè)有螺釘裝配通孔,通過貫穿裝配的同一根螺釘連接在一起,磁鐵套1、支撐塊13和陶瓷座9縱向同軸預(yù)設(shè)有螺釘裝配通孔,通過另一根螺釘貫穿裝配連接在一起,上述螺釘裝配通孔為縱向同軸通孔;
所述的陰極屏蔽罩3位于兩燈絲座和兩陶瓷座套筒15之間,其主要用來屏蔽下方永久磁鐵的磁場,避免干擾燈絲發(fā)射的電子運(yùn)動(dòng)軌跡,其次陰極屏蔽罩可以前后滑動(dòng)調(diào)整其內(nèi)沿與燈絲外沿之間的距離,起到了控制電子束聚焦的作用。
所述的陶瓷柱14以螺釘連接的方式固定在燈絲座A12和燈絲座B11之間,用以固定并絕緣兩燈絲座;
所述的陶瓷柱保護(hù)罩7以螺釘連接的方式固定在陶瓷柱14一側(cè)用來保護(hù)陶瓷柱14;
所述的磁偏轉(zhuǎn)組件包括:永久磁鐵2、軛鐵16、磁偏轉(zhuǎn)擋片5、磁鐵固定墊片6和非磁性擋片4;
所述的永久磁鐵2嵌于上述磁鐵套1內(nèi),并由磁鐵固定墊片6通過螺釘連接固定在所述的磁鐵套1上;所述的軛鐵16本身無磁性,共有四塊,分別焊接在水冷坩堝機(jī)構(gòu)的無氧銅坩堝17上,經(jīng)對(duì)應(yīng)位置的永久磁鐵磁化后具備磁性兩軛鐵在電子束發(fā)生機(jī)構(gòu)區(qū)域構(gòu)成均勻磁場,對(duì)電子起到了偏轉(zhuǎn)270°的作用;
所述的磁偏轉(zhuǎn)擋片5以螺釘連接的形式固定在所述燈絲座B11上方;所述的非磁性擋片4受永久磁鐵2磁力吸附在磁鐵外側(cè);
所述的水冷坩堝機(jī)構(gòu)包括:無氧銅坩堝17、坩堝后蓋、坩堝內(nèi)襯18、水冷內(nèi)筒19、水冷外筒20和冷卻筒滑塊21;
所述的坩堝后蓋通過釬焊的方式焊接在所述無氧銅坩堝上;所述的坩堝內(nèi)襯18形狀、大小與無氧銅坩堝槽相近;坩堝內(nèi)襯18的材料為石墨,Mo或Ta;所述水冷內(nèi)筒19一端焊接在無氧銅坩堝17上作為進(jìn)水口,另一端通過螺紋連接的形式和連接接口管連接;所述的水冷外筒20一端焊接在無氧銅坩堝上作為出水口;所述的冷卻筒滑塊與水冷外筒20焊接在一起,水冷內(nèi)筒19位于水冷外筒20內(nèi),冷卻水由水冷內(nèi)筒19流入,從水冷外筒20流出;
所述的直線換位機(jī)構(gòu)包括:壓板A22、壓板B23、坩堝底座壓板24、焊接波紋管25、滑軌嵌套26、追加工法蘭27、銅螺母28、塑料片29、擰把手30、銅片31、螺紋絲杠32、滑軌33和滑軌滑塊34;所述的坩堝底座壓板通過螺釘與上述的無氧銅坩堝連接;所述的冷卻筒滑塊21與所述的坩堝底座以螺釘連接的形式固定,并且其上端面和前端面分別與裝有滑軌嵌套26的壓板A22和壓板B23通過螺釘連接,可以實(shí)現(xiàn)在壓板A22的軸向方向的滑動(dòng),從而帶動(dòng)坩堝一起滑動(dòng);所述壓板A22和壓板B23通過焊接的方式固定,并且與所述追加工法蘭27焊接成一體;所述的焊接波紋管25一端與冷卻筒滑塊21焊接固定,另一端與追加工法蘭27焊接固定;以上各部件位于真空內(nèi)部;所述的銅片31與追加工法蘭27焊接固定;所述的螺紋絲杠32一端與上述冷卻筒滑塊21焊接固定,另一端與水冷外筒20連接接口連接,螺紋絲杠32實(shí)際也作為水冷外筒往外排出冷卻水;所述銅螺母28與螺紋絲杠32進(jìn)行螺紋連接,所述的擰把手30套在銅螺母28上,并且通過一根細(xì)小的螺釘與銅螺母28夾緊;所述的塑料片29套在擰把手30上;所述的滑軌33焊接在追加工法蘭27上;所述的滑軌滑塊34與滑軌33間隙配合,滑軌滑塊34便可以在滑軌33上滑動(dòng);即,擰動(dòng)擰把手30帶動(dòng)銅螺母28與螺紋絲杠32相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)變旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)為直線運(yùn)動(dòng),原本壓縮后的焊接波紋管25慢慢復(fù)原,冷卻筒滑塊21帶動(dòng)著固定的無氧銅坩堝向前移動(dòng),達(dá)到換位的目的;
所述的工作電路由:銅棒35、電極法蘭36、燈絲8、燈絲座A12、燈絲座B11、無氧銅坩堝17組成;其中,兩銅棒25一端分別與燈絲座A12和燈絲座B11相連,另一端分別與電極法蘭36預(yù)設(shè)接口相連;所述燈絲8兩端分別固定在燈絲座A12和燈絲座B11的插口處,由外接電源經(jīng)銅棒35、燈絲座給燈絲8作為陰極,且通負(fù)高壓U=3.5kV,無氧銅坩堝17作為陽極接地。
以上所述,僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制,雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本實(shí)用新型,任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容做出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例,但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。