1.一種改進(jìn)的磁控濺射鍍膜設(shè)備，其包括真空室體，其特征在于：其還包括呈圓盤狀的基片臺(tái)，所述真空室體上方安裝有動(dòng)力裝置，動(dòng)力裝置包括伺服電機(jī)和減速機(jī)構(gòu)，伺服電機(jī)輸出端穿過真空室體頂面設(shè)置，與伺服電機(jī)輸出端相對(duì)的真空室體底面位置安裝有一軸承，一連接軸穿過所述基片臺(tái)中心且兩端分別與動(dòng)力裝置輸出端連接及固定于軸承上，所述連接軸與基片臺(tái)螺紋連接，且通過預(yù)調(diào)螺母固定，所述基片臺(tái)上沿其圓周方向均勻設(shè)置有若干個(gè)濺射孔，每個(gè)濺射孔與其外圓邊相切設(shè)置有兩平行的壓板條，所述壓板條通過調(diào)節(jié)螺栓固定在基片臺(tái)上，所述真空室體底面上與基片臺(tái)上濺射孔相對(duì)的位置固定設(shè)有至少一個(gè)靶座。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)的磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：在保證基片臺(tái)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)基片不會(huì)脫落、牢固度好的前提下，所述壓板條靠近基片臺(tái)的外圓周向設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種改進(jìn)的磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于：所述壓板條用薄不銹鋼板制作。