技術特征:
技術總結
本發(fā)明提供了一種LPCVD工藝腔勻氣裝置,包括上隔離板、勻流板和下隔離板;勻流板上開設有上導流槽和下導流槽;上導流槽具有第一進氣端和第一出氣端,下導流槽具有第二進氣端和第二出氣端;第一進氣端與第一氣源相通;第二進氣端與第二氣源相通;第一出氣端和第二出氣端通過勻流板上開設的出氣孔相通;下隔離板上設置有第一出氣通孔,第一出氣通孔與出氣孔相通。本發(fā)明提供的LPCVD工藝腔勻氣裝置保證了氣體擴散的均勻性,提高了CIGS薄膜電池的薄膜成型質量。
技術研發(fā)人員:袁世成
受保護的技術使用者:君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司
技術研發(fā)日:2017.07.14
技術公布日:2017.11.07