技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種蒸鍍裝置及其蒸鍍方法、顯示器件制造設(shè)備，該蒸鍍裝置用于基板蒸鍍，所述基板的一側(cè)設(shè)置有掩膜板，所述蒸鍍裝置包括：磁吸附層以及熱敏層，其中，所述熱敏層設(shè)置在所述磁吸附層一側(cè)所述熱敏層設(shè)置于所述磁吸附層和所述基板的遠(yuǎn)離所述掩膜板的一側(cè)之間，并且所述熱敏層配置為調(diào)節(jié)所述掩膜板和所述磁吸附層之間的距離。在基板的蒸鍍過(guò)程中，當(dāng)用于對(duì)基板蒸鍍的掩膜板在某一區(qū)域產(chǎn)生褶皺時(shí)，會(huì)改變相應(yīng)區(qū)域的熱敏層的溫度，熱敏層根據(jù)溫度變化調(diào)節(jié)自身厚度以減小該區(qū)域的磁吸附層與掩膜板的間距，從而消除掩膜板的褶皺問(wèn)題，提高基板的蒸鍍良率。

技術(shù)研發(fā)人員：杜小波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.11
技術(shù)公布日：2017.08.04