技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供Ni系濺射靶材，其特征在于，為能夠得到強漏磁通的導磁率低、使用效率高的Ni系合金濺射靶材，是含有含有(NiX－FeY－CoZ)－M合金而成的Ni系濺射靶材，所述合金中，作為M元素，含有從W、Mo、Ta、Cr、V、Nb中選擇的一種或兩種以上的M1元素合計2～20at.％，從Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中選擇的一種或兩種以上的M2元素合計0～10at.％，余量由Ni、Fe、Co和不可避免的雜質構成，并且，X+Y+Z＝100時，20≤X≤98，0≤Y≤50，0≤Z≤60，并且，所述合金粥火鍋，作為基體相是具有Ni－M相的微觀組織，并具有在基體相中分散有Fe相和/或Co相的微觀組織。

技術研發(fā)人員：宇野未由紀;長谷川浩之
受保護的技術使用者：山陽特殊制鋼株式會社
技術研發(fā)日：2016.02.04
技術公布日：2017.10.13