技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了一種基底紅外加熱的卷對(duì)卷磁控濺射鍍膜設(shè)備，包括高溫區(qū)、低溫區(qū)、收放卷系統(tǒng)和真空系統(tǒng)，所述高溫區(qū)和低溫區(qū)之間通過(guò)隔板隔開，所述高溫區(qū)內(nèi)和低溫區(qū)內(nèi)均設(shè)有紅外加熱器，所述高溫區(qū)內(nèi)還設(shè)有油溫鼓，所述油溫鼓周圍設(shè)有若干隔離槽，所述隔離槽內(nèi)設(shè)有若干磁控濺射靶，所述低溫區(qū)內(nèi)還設(shè)有糾偏探測(cè)器和糾偏儀，所述糾偏探測(cè)器固定在所述隔板上，所述糾偏儀內(nèi)有基材穿過(guò)。本實(shí)用新型提供了一種基底紅外加熱的卷對(duì)卷磁控濺射鍍膜設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)卷對(duì)卷鍍膜的連續(xù)化生產(chǎn)，生產(chǎn)成本低，生產(chǎn)時(shí)間短，生產(chǎn)效率高，產(chǎn)品質(zhì)量好，成品率高，能夠在基材上一次完成多層膜系的鍍膜，同時(shí)該設(shè)備采用圓形設(shè)計(jì)，占地面積小，操作簡(jiǎn)單，易于維護(hù)。

技術(shù)研發(fā)人員：趙明;任宇航;羅明新
受保護(hù)的技術(shù)使用者：浙江尚越新能源開發(fā)有限公司
文檔號(hào)碼：201621474656
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.30
技術(shù)公布日：2017.06.27