技術(shù)編號(hào)：12703465
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基底紅外加熱的卷對卷磁控濺射鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)磁控濺射是在真空中利用高能粒子轟擊靶表面，使被轟擊濺射出的靶離子沉積在基片上，濺射時(shí)，氣體被電離之后，氣體離子在電場的作用下飛向電極靶材，并以高能量轟擊靶表面，使靶材料發(fā)生濺射，濺射出的靶粒子沉積在襯底上。磁控濺射鍍膜技術(shù)是當(dāng)前廣泛應(yīng)用的真空鍍膜技術(shù)方法，被普遍應(yīng)用于光學(xué)、微電子、耐磨、耐腐蝕、裝飾等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，用以提供可靠而穩(wěn)定的薄膜鍍層，可為被鍍膜產(chǎn)品提供某方面的特性，但是目前的磁控濺射設(shè)備只能對單一的個(gè)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。