本實(shí)用新型屬于冶煉技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

硫酸是一種是重要的工業(yè)原料，可用于制造肥料、藥物、炸藥、顏料、洗滌劑、蓄電池等。硫鐵礦是我國(guó)的主要硫源，儲(chǔ)量大的比較集中在主要分布省區(qū)依次為四川、安徽、內(nèi)蒙、廣東和云南，資源總量達(dá)127.8億噸，居世界前列。

在硫酸的生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生硫鐵礦燒渣(又稱(chēng)硫酸渣)，其是化學(xué)工業(yè)生產(chǎn)的主要固體廢棄物之一。我國(guó)每年產(chǎn)生的大量硫鐵礦燒渣大多采用堆填處理，不僅占用了大量土地，而且對(duì)環(huán)境造成了嚴(yán)重污染。同時(shí)，硫鐵礦燒渣含有的20％～60％的鐵也沒(méi)有得到回收利用。

近年來(lái)隨著鋼鐵行業(yè)的迅猛發(fā)展，我國(guó)對(duì)鐵礦產(chǎn)資源的開(kāi)發(fā)強(qiáng)度加大，資源品位高、分選性好的鐵礦資源正逐漸減少，礦產(chǎn)資源可供給能力持續(xù)下降。積極開(kāi)發(fā)難利用鐵礦石資源，可有效擴(kuò)大我國(guó)可利用的鐵礦石資源量，降低對(duì)外依存度，保障鐵礦石供應(yīng)的安全。

現(xiàn)有的一種用硫鐵礦生產(chǎn)鐵精粉的方法及其裝置，是在已的生產(chǎn)硫酸裝置的基礎(chǔ)上，增加原料混配系統(tǒng)，利用沸騰爐排出的燒渣，按計(jì)算比例摻入硫鐵礦中，并與其它成分混合入爐焙燒，產(chǎn)物為硫酸，還可獲得鐵精粉。此工藝獲得的鐵精粉金屬化率低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提出一種磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)，在轉(zhuǎn)底爐中實(shí)現(xiàn)硫鐵礦的氧化焙燒與還原焙燒，還原效果佳，金屬化率高，然后磨礦磁選獲得高品位鐵精粉，尾礦用于制備脫硫石膏，全程無(wú)二次固體廢棄物。

本實(shí)用新型的目的之一是提供一種磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)，包括轉(zhuǎn)底爐、磨礦磁選設(shè)備和脫硫石膏制備裝置，

所述轉(zhuǎn)底爐包括入料口、出料口和擋墻，所述擋墻位于所述轉(zhuǎn)底爐的爐體內(nèi)，將所述爐體內(nèi)的環(huán)形空間分隔為氧化焙燒區(qū)和還原焙燒區(qū)，所述轉(zhuǎn)底爐入料口位于所述氧化焙燒區(qū)，所述轉(zhuǎn)底爐出料口位于所述還原焙燒區(qū)；

所述磨礦磁選設(shè)備包括入料口、鐵精粉出口和尾礦出口；

所述脫硫石膏制備裝置包括入料口和出料口；

所述轉(zhuǎn)底爐出料口連接所述磨礦磁選設(shè)備入料口，所述磨礦磁選設(shè)備尾礦出口連接所述脫硫石膏制備裝置入料口。

轉(zhuǎn)底爐用于硫鐵礦的氧化焙燒和還原焙燒。

磨礦磁選設(shè)備包括水冷裝置、磨細(xì)裝置和磁選裝置。轉(zhuǎn)底爐出料口連接水冷裝置入料口，水冷裝置出料口連接磨細(xì)裝置入料口，磨細(xì)裝置出料口連接磁選裝置入料口。磨礦磁選設(shè)備用于金屬化球團(tuán)的水冷、磨細(xì)和磁選，獲得鐵精粉和尾礦。

本實(shí)用新型中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括細(xì)磨機(jī)、壓球機(jī)和干燥裝置，

所述細(xì)磨機(jī)包括入料口和出料口；所述壓球機(jī)包括入料口和出料口；所述干燥裝置包括入料口和出料口；

所述細(xì)磨機(jī)出料口連接所述壓球機(jī)入料口，所述壓球機(jī)出料口連接所述干燥裝置入料口，所述干燥裝置出料口連接所述轉(zhuǎn)底爐入料口。

細(xì)磨機(jī)用于將硫鐵礦細(xì)磨至后續(xù)處理所需的粒度。壓球機(jī)用于將細(xì)磨的硫鐵礦顆粒造球。干燥裝置用于球團(tuán)的干燥，為后續(xù)焙燒做準(zhǔn)備。

本實(shí)用新型中，所述轉(zhuǎn)底爐進(jìn)一步包括還原劑入口，所述還原劑入口位于所述還原焙燒區(qū)遠(yuǎn)離出料口端的爐頂。

具體的，所述氧化焙燒區(qū)環(huán)形空間的弧度為150°～180°，所述轉(zhuǎn)底爐入料口與轉(zhuǎn)底爐出料口之間的扇形區(qū)域弧度為10°～15°。

進(jìn)一步的，所述擋墻底部與所述轉(zhuǎn)底爐的爐底上表面的距離為10～20cm。擋墻底部到轉(zhuǎn)底爐的爐底上表面的距離既要保證物料的順利通過(guò)，又要保證氧化焙燒區(qū)氣氛和還原焙燒區(qū)氣氛不互相干擾。

本實(shí)用新型中，氧化焙燒是在氧化氣氛中進(jìn)行的，通過(guò)焙燒使礦石中的某些成分發(fā)生氧化反應(yīng)，生成新的氧化物。硫鐵礦(FeS₂)在氧化氣氛(或通入大量空氣)中長(zhǎng)時(shí)間焙燒時(shí)與O₂發(fā)生反應(yīng)生成磁鐵礦(Fe₃O₄)，磁鐵礦更容易被還原。在球團(tuán)中加入電石渣Ca(OH)₂，可將SO₂反應(yīng)固定在球團(tuán)中。

本實(shí)用新型的另一目的是提供一種利用上述系統(tǒng)處理硫鐵礦的方法，包括如下步驟：

A、將100份硫鐵礦與30～80份電石渣細(xì)磨混勻壓球，干燥后獲得干球團(tuán)；

B、將所述干球團(tuán)送入所述轉(zhuǎn)底爐，先進(jìn)行氧化焙燒固硫，后進(jìn)行還原焙燒，獲得金屬化球團(tuán)，還原劑由所述還原劑入口進(jìn)入轉(zhuǎn)底爐，在所述干球團(tuán)進(jìn)入所述還原焙燒區(qū)時(shí)將所述干球團(tuán)均勻覆蓋一層還原劑；

C、將所述金屬化球團(tuán)水冷后細(xì)磨、磁選獲得鐵精粉和尾礦，所述尾礦用于制備脫硫石膏。

具體的，所述轉(zhuǎn)底爐氧化焙燒區(qū)溫度為800～1000℃，還原焙燒區(qū)溫度為1200～1300℃，所述轉(zhuǎn)底爐的爐底旋轉(zhuǎn)一周時(shí)間為2～4h。

作為優(yōu)選的實(shí)施方案，步驟A中將所述硫鐵礦和電石渣細(xì)磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量百分比在80％以上，所述干球團(tuán)粒徑為10～20mm。

進(jìn)一步的，所述還原劑中碳的質(zhì)量成分不低于80％，所述還原劑粒度為2～5mm。

作為優(yōu)選的實(shí)施方案，步驟C中將所述金屬化球團(tuán)細(xì)磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量百分比在85％以上，在磁場(chǎng)強(qiáng)度800～1500Oe進(jìn)行磁選。

作為優(yōu)選的方案，在氧化焙燒時(shí)鼓入氧氣，鼓入的氧氣體積為燃料體積的10～15％。

本實(shí)用新型提供的磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)，將硫鐵礦制備球團(tuán)后，在轉(zhuǎn)底爐內(nèi)氧化焙燒與還原焙燒一體完成；還原焙燒區(qū)充分利用氧化焙燒區(qū)干球團(tuán)顯熱，降低了能耗；硫鐵礦經(jīng)固硫氧化后再還原焙燒，金屬化率高；利用硫鐵礦作原料，磨礦磁選獲得鐵精粉，尾礦用于制備脫硫石膏；系統(tǒng)簡(jiǎn)單，整個(gè)流程無(wú)二次固體廢棄物。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的轉(zhuǎn)底爐還原劑入口局部示意圖；

圖3是本實(shí)用新型的系統(tǒng)處理硫鐵礦的方法示意圖。

圖中：

1-細(xì)磨機(jī)；2-壓球機(jī)；3-干燥裝置；4-轉(zhuǎn)底爐；

401-轉(zhuǎn)底爐入料口；402-轉(zhuǎn)底爐出料口；403-擋墻；404-氧化焙燒區(qū)；405-還原焙燒區(qū)；406-還原劑入口；

5-磨礦磁選設(shè)備，6-脫硫石膏制備裝置。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行更加詳細(xì)的說(shuō)明，以便能夠更好地理解本實(shí)用新型的方案及其各個(gè)方面的優(yōu)點(diǎn)。然而，以下描述的具體實(shí)施方式和實(shí)施例僅是說(shuō)明的目的，而不是對(duì)本實(shí)用新型的限制。

如圖1所示，一方面，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種磨礦磁選處理硫鐵礦的系統(tǒng)，包括：細(xì)磨機(jī)1、壓球機(jī)2、干燥裝置3、轉(zhuǎn)底爐4、磨礦磁選設(shè)備5和脫硫石膏制備裝置6。

細(xì)磨機(jī)1包括入料口和出料口。細(xì)磨機(jī)1用于將硫鐵礦細(xì)磨至后續(xù)處理所需的粒度。

壓球機(jī)2包括入料口和出料口。壓球機(jī)2用于將硫鐵礦顆粒造球。球狀的物料更利于在轉(zhuǎn)底爐中均勻受熱。合適的球團(tuán)粒度使球團(tuán)傳熱良好，達(dá)到良好的還原效果。

干燥裝置3包括入料口和出料口。干燥裝置3用于球團(tuán)的干燥，為后續(xù)焙燒做準(zhǔn)備。

轉(zhuǎn)底爐4用于干球團(tuán)的氧化焙燒和還原焙燒，獲得金屬化球團(tuán)。

磨礦磁選設(shè)備5包括入料口、鐵精粉出口和尾礦出口。磨礦磁選設(shè)備5包括水冷裝置、磨細(xì)裝置和磁選裝置，用于金屬化球團(tuán)的水冷、磨礦和磁選，獲得產(chǎn)品。

脫硫石膏制備裝置6包括入料口和出料口。脫硫石膏制備裝置6用于利用尾礦制備脫硫石膏。

如圖1和圖2所示，轉(zhuǎn)底爐4包括入料口401、出料口402、擋墻403和還原劑入口406。

擋墻403位于轉(zhuǎn)底爐4的爐體內(nèi)，將爐體內(nèi)的環(huán)形空間分隔為氧化焙燒區(qū)404和還原焙燒區(qū)405。轉(zhuǎn)底爐入料口401位于氧化焙燒區(qū)404，轉(zhuǎn)底爐出料口402位于還原焙燒區(qū)405，還原劑入口406位于還原焙燒區(qū)405遠(yuǎn)離出料口端的爐頂。

圖1和圖2中的虛線(xiàn)箭頭表示轉(zhuǎn)底爐中物料的運(yùn)動(dòng)方向。轉(zhuǎn)底爐4爐底的旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)物料運(yùn)動(dòng)。本實(shí)用新型實(shí)施例中，硫鐵礦干球團(tuán)(物料)由轉(zhuǎn)底爐入料口401進(jìn)入氧化焙燒區(qū)404，經(jīng)氧化焙燒后進(jìn)入還原焙燒區(qū)405，還原焙燒后的干球團(tuán)經(jīng)轉(zhuǎn)底爐出料口402排出轉(zhuǎn)底爐。

如圖2所示，還原劑入口406位于爐頂，便于還原劑進(jìn)入轉(zhuǎn)底爐4。還原劑入口406設(shè)置在還原焙燒區(qū)405遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)底爐出料口端，與擋墻403有一定距離，使得干球團(tuán)進(jìn)入還原被燒區(qū)405時(shí)就可與還原劑接觸。

細(xì)磨機(jī)1出料口連接壓球機(jī)2入料口，壓球機(jī)2出料口連接干燥裝置3入料口，干燥裝置3出料口連接轉(zhuǎn)底爐4入料口，轉(zhuǎn)底爐4出料口連接磨礦磁選設(shè)備5入料口，磨礦磁選設(shè)備5尾礦出口連接脫硫石膏制備裝置6入料口。

具體的，轉(zhuǎn)底爐4中擋墻的數(shù)量為兩個(gè)。氧化焙燒區(qū)404環(huán)形區(qū)域的弧度為150°～180°。轉(zhuǎn)底爐入料口401與轉(zhuǎn)底爐出料口402之間的扇形區(qū)域弧度為10°～15°。其中，一個(gè)擋墻設(shè)置在轉(zhuǎn)底爐入料口401與轉(zhuǎn)底爐出料口402之間的扇形區(qū)域中。

作為本實(shí)用新型實(shí)施例優(yōu)選的方案，擋墻403底部與轉(zhuǎn)底爐的爐底上表面的距離為10～20cm。擋墻403底部到轉(zhuǎn)底爐的爐底上表面的距離既要保證物料的順利通過(guò)，又要保證氧化焙燒區(qū)氣氛和還原焙燒區(qū)氣氛不互相干擾。

另一方面，如圖3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種利用上述系統(tǒng)處理硫鐵礦的方法，包括如下步驟：

1、將100份硫鐵礦與30～80份電石渣細(xì)磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量百分比在80％以上，混勻壓球，干燥后獲得干球團(tuán)，所述干球團(tuán)粒徑為10～20mm；

2、將干球團(tuán)送入所述轉(zhuǎn)底爐，先進(jìn)行氧化焙燒固硫，后進(jìn)行還原焙燒，獲得金屬化球團(tuán)，氧化焙燒區(qū)溫度為800～1000℃，并鼓入燃料體積10～15％的氧氣，還原焙燒區(qū)溫度為1200～1300℃，轉(zhuǎn)底爐的爐底旋轉(zhuǎn)一周時(shí)間為2～4h，還原劑由還原劑入口進(jìn)入轉(zhuǎn)底爐，在干球團(tuán)進(jìn)入還原焙燒區(qū)時(shí)將干球團(tuán)均勻覆蓋一層還原劑；

3、將金屬化球團(tuán)水冷后細(xì)磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量百分比在85％以上，在磁場(chǎng)強(qiáng)度800～1500Oe進(jìn)行磁選獲得鐵精粉和尾礦，尾礦用于制備脫硫石膏。

進(jìn)一步的，所述還原劑中碳的質(zhì)量成分不低于80％，所述還原劑粒度為2～5mm。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的系統(tǒng)和方法，將硫鐵礦制備球團(tuán)后，在轉(zhuǎn)底爐內(nèi)完成氧化焙燒和還原焙燒；還原焙燒區(qū)充分利用氧化焙燒區(qū)干球團(tuán)的顯熱，降低了能耗；硫鐵礦經(jīng)固硫氧化后再還原焙燒，還原效果好；利用硫鐵礦作原料，磨礦磁選獲得鐵精粉和尾礦，將尾礦用于制備脫硫石膏，整個(gè)流程無(wú)二次固體廢棄物。

下面通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更具體的說(shuō)明，以便更好的理解本實(shí)用新型的實(shí)施方案。

實(shí)施例1

將100份某硫鐵礦、60份電石渣磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比81.21％，混勻壓球(球團(tuán)粒徑10mm)，干燥后從轉(zhuǎn)底爐入料口進(jìn)入，轉(zhuǎn)底爐氧化焙燒區(qū)弧度為150°，溫度控制900℃，鼓入燃料體積的10％氧氣，還原焙燒區(qū)溫度控制1300℃，爐底旋轉(zhuǎn)一周時(shí)間為4h，氧化焙燒后的干球團(tuán)進(jìn)入還原焙燒區(qū)時(shí)，還原煤(C的質(zhì)量成分：82.03％，粒度2mm)從還原劑入口鋪滿(mǎn)干球團(tuán)，鋪滿(mǎn)還原煤的干球團(tuán)在還原焙燒區(qū)被還原成金屬化球團(tuán)從轉(zhuǎn)底爐出料口排出，金屬化球團(tuán)水冷后磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比86.23％，在磁場(chǎng)強(qiáng)度800Oe磁選獲得鐵精礦和尾礦，尾礦用于制備脫硫石膏。

實(shí)施例2

將100份某硫鐵礦、30份電石渣磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比83.78％，混勻壓球(球團(tuán)粒徑15mm)，干燥后從轉(zhuǎn)底爐入料口進(jìn)入，轉(zhuǎn)底爐氧化焙燒區(qū)弧度為170°，溫度控制800℃，鼓入燃料體積的12％氧氣，還原焙燒區(qū)溫度控制1200℃，爐底旋轉(zhuǎn)一周時(shí)間為3h，氧化焙燒后的干球團(tuán)進(jìn)入還原焙燒區(qū)時(shí)，還原煤(C的質(zhì)量成分：81.35％，粒度3mm)從還原劑入口鋪滿(mǎn)干球團(tuán)，鋪滿(mǎn)還原煤的干球團(tuán)在還原焙燒區(qū)被還原成金屬化球團(tuán)從轉(zhuǎn)底爐出料口排出，金屬化球團(tuán)水冷后磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比85.87％，在磁場(chǎng)強(qiáng)度1500Oe磁選獲得鐵精礦和尾礦，尾礦用于制備脫硫石膏。

實(shí)施例3

將100份某硫鐵礦、80份電石渣磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比81.55％，混勻壓球(球團(tuán)粒徑20mm)，干燥后從轉(zhuǎn)底爐入料口進(jìn)入，轉(zhuǎn)底爐氧化焙燒區(qū)弧度為170°，溫度控制1000℃，鼓入燃料體積的15％氧氣，還原焙燒區(qū)溫度控制1300℃，爐底旋轉(zhuǎn)一周時(shí)間為2h，氧化焙燒后的干球團(tuán)進(jìn)入還原焙燒區(qū)時(shí)，蘭炭(C的質(zhì)量成分：83.26％，粒度3mm)從還原劑入口鋪滿(mǎn)干球團(tuán)，鋪滿(mǎn)蘭炭的干球團(tuán)在還原焙燒區(qū)被還原成金屬化球團(tuán)從轉(zhuǎn)底爐出料口排出，金屬化球團(tuán)水冷后磨至粒度≤200目的顆粒質(zhì)量占比86.47％，在磁場(chǎng)強(qiáng)度1200Oe磁選獲得鐵精礦和尾礦，尾礦用于制備脫硫石膏。

需要說(shuō)明的是，以上參照附圖所描述的各個(gè)實(shí)施例僅用以說(shuō)明本實(shí)用新型而非限制本實(shí)用新型的范圍，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的前提下對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行的修改或者等同替換，均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的范圍之內(nèi)。此外，除上下文另有所指外，以單數(shù)形式出現(xiàn)的詞包括復(fù)數(shù)形式，反之亦然。另外，除非特別說(shuō)明，那么任何實(shí)施例的全部或一部分可結(jié)合任何其它實(shí)施例的全部或一部分來(lái)使用。