本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種坩堝和蒸發(fā)裝置。

背景技術(shù)：

目前，顯示裝置廣泛使用的屏幕包括LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)和OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光器件)，而OLED與LCD相比，其顯示具有輕薄、低功耗、高對(duì)比度、高色域、可以實(shí)現(xiàn)柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)。OLED顯示按照驅(qū)動(dòng)方式可以分為被動(dòng)式(Passive Matrix，PMOLED)與主動(dòng)式(Active Matrix，AMOLED)，其中，AMOLED顯示的成熟的實(shí)現(xiàn)方式為：LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低溫多晶硅)背板+精細(xì)金屬掩膜(FMM Mask)。

精細(xì)金屬掩膜(FMM Mask)是通過(guò)蒸鍍方式將OLED材料按照預(yù)定程序蒸鍍到LTPS背板上，在有機(jī)蒸鍍的過(guò)程中，利用精細(xì)金屬掩膜作為模具，有機(jī)材料高溫?fù)]發(fā)后以材料分子狀態(tài)透過(guò)精細(xì)金屬掩膜的既定開(kāi)口位置蒸鍍到LTPS背板玻璃上的ITO(Indium tin oxide，納米銦錫)開(kāi)口上，形成有機(jī)發(fā)光層。蒸鍍的過(guò)程是在真空腔體中進(jìn)行的，并且OLED的金屬層蒸鍍?cè)诂F(xiàn)有技術(shù)中是采用圖1中結(jié)構(gòu)所示的錐體平底坩堝100進(jìn)行的，由于現(xiàn)有錐體平底坩堝為點(diǎn)蒸發(fā)源且為敞口結(jié)構(gòu)，因此使用上述錐體平底坩堝進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中蒸發(fā)速率不穩(wěn)定，進(jìn)而導(dǎo)致蒸鍍膜層均勻性較差。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供了一種坩堝和蒸發(fā)裝置，該坩堝在蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率穩(wěn)定，能夠提高蒸鍍膜層的均勻性。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案：

一種坩堝，包括一端設(shè)有開(kāi)口的堝體，所述堝體的內(nèi)部具有與所述開(kāi)口連通的腔體；沿所述堝體的延伸方向，靠近所述開(kāi)口的所述腔體內(nèi)設(shè)有間隔分布的至少兩個(gè)隔板；所述至少兩個(gè)隔板中，每個(gè)隔板設(shè)有貫穿其厚度的至少一個(gè)第一通孔，每相鄰的兩個(gè)隔板的第一通孔呈交錯(cuò)分布。

上述坩堝由于在腔體內(nèi)設(shè)有間隔分布的至少兩個(gè)隔板，并且每相鄰的兩個(gè)隔板的第一通孔呈交錯(cuò)分布，因此，在采用上述坩堝進(jìn)行蒸鍍過(guò)程中，蒸鍍材料在坩堝內(nèi)變成蒸氣并達(dá)到隔板時(shí)，一部分蒸氣能夠通過(guò)隔板上相互交錯(cuò)的第一通孔后曲折上升并冒出坩堝的開(kāi)口進(jìn)行蒸鍍形成蒸鍍膜層，另一部分蒸氣會(huì)被隔板阻擋并回流，同時(shí)由于各相鄰隔板的第一通孔交錯(cuò)分布，所以在隔板與堝體之間形成蒸氣調(diào)節(jié)腔，通過(guò)蒸氣調(diào)節(jié)腔使蒸氣速率穩(wěn)定在一定水平，進(jìn)而能夠通過(guò)設(shè)置在腔體內(nèi)的至少兩個(gè)隔板調(diào)節(jié)蒸氣的蒸發(fā)速率，使蒸氣均勻地蒸發(fā)并進(jìn)行蒸鍍，使形成的蒸鍍膜層的均勻性提高。

因此，上述坩堝在蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率穩(wěn)定，能夠提高蒸鍍膜層的均勻性。

優(yōu)選地，所述至少兩個(gè)隔板相互平行設(shè)置。

優(yōu)選地，所述至少兩個(gè)隔板為一體式結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選地，還包括位于所述腔體內(nèi)底部的陶瓷碎片和用于將所述陶瓷碎片保持在所述腔體內(nèi)底部的擋板，所述擋板位于所述陶瓷碎片和所述至少兩個(gè)隔板中背離所述開(kāi)口的隔板之間，所述擋板設(shè)有貫穿其厚度的多個(gè)第二通孔。

由于上述坩堝在腔體內(nèi)底部設(shè)有陶瓷碎片，在采用該坩堝進(jìn)行蒸鍍過(guò)程中，蒸鍍材料和陶瓷碎片均放置在腔體內(nèi)底部，陶瓷碎片混合在蒸鍍材料中，熔化的蒸鍍材料易被陶瓷碎片阻隔，不易形成大面積的沸騰冒泡現(xiàn)象，并且產(chǎn)生的小氣泡也容易因碰撞到陶瓷碎片而破裂；同時(shí)，上述坩堝的腔體內(nèi)底部還設(shè)有擋板，蒸鍍材料的蒸氣可通過(guò)擋板上的第二通孔進(jìn)行蒸發(fā)，在不影響坩堝正常蒸發(fā)功能的前提下，坩堝通過(guò)擋板將陶瓷碎片保持在腔體的內(nèi)底部，使陶瓷碎片長(zhǎng)期處于蒸鍍材料中，使坩堝保持減少沸騰冒泡的效果，而且還能通過(guò)擋板阻止或消除蒸鍍材料的沸騰冒泡現(xiàn)象；因此，該坩堝還能減少蒸鍍材料的沸騰冒泡現(xiàn)象，進(jìn)一步穩(wěn)定蒸鍍材料的蒸發(fā)速率。

優(yōu)選地，所述多個(gè)第二通孔中，每個(gè)第二通孔的最大孔徑小于所述陶瓷碎片的最小粒徑。

優(yōu)選地，所述每個(gè)隔板為由熱解氮化硼(PBN)或氮化鋁(Aluminum nitride，AlN)制成的隔板；所述擋板為由熱解氮化硼或氮化鋁制成的擋板；所述陶瓷碎片為由熱解氮化硼或氮化鋁制成的陶瓷碎片。

優(yōu)選地，還包括設(shè)置于所述開(kāi)口的蓋板，所述蓋板的厚度方向與所述堝體的延伸方向平行，所述蓋板設(shè)有貫穿其厚度的至少一個(gè)第三通孔。

由于上述坩堝還設(shè)有位于開(kāi)口處的蓋板，并且蓋板上設(shè)有第三通孔，在蒸鍍過(guò)程中，坩堝中的蒸鍍材料受熱產(chǎn)生蒸氣，通過(guò)隔板后的蒸氣繼續(xù)通過(guò)蓋板的第三通孔才能達(dá)到需要進(jìn)行蒸鍍的介質(zhì)上形成蒸鍍膜層，因此，能夠通過(guò)設(shè)置第三通孔的分布位置以及分布形式使蒸氣更加均勻地進(jìn)行蒸鍍，使形成的蒸鍍膜層均勻性更好，并且有利于提高蒸氣的利用率，提高蒸鍍效率。

優(yōu)選地，所述堝體由可拆卸連接的下部堝體和上部堝體構(gòu)成，所述開(kāi)口位于所述上部堝體背離所述下部堝體的一端，所述至少兩個(gè)隔板設(shè)置于所述上部堝體內(nèi)。

優(yōu)選地，所述下部堝體和上部堝體之間通過(guò)螺紋連接。

當(dāng)堝體由螺紋連接的上部堝體和下部堝體構(gòu)成時(shí)，上部堝體和下部堝體通過(guò)螺紋可進(jìn)行拆卸連接，當(dāng)需要在下部堝體內(nèi)填裝蒸鍍材料或更換下部堝體時(shí)，可通過(guò)螺紋連接將下部堝體從上部堝體上拆下，完成所需操作后再通過(guò)螺紋進(jìn)行連接，并且，在需要填料時(shí)，可將下部坩堝拆下，將已經(jīng)填料完畢的另一個(gè)相同結(jié)構(gòu)的下部堝體直接連接到上部堝體上，從而能夠節(jié)省蒸鍍時(shí)間，因此，該坩堝方便填料且便于更換下部堝體。

另外，本實(shí)用新型還提供了一種蒸發(fā)裝置，該蒸發(fā)裝置包括加熱裝置和上述技術(shù)方案提供的任意一種坩堝。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中一種實(shí)施例提供的坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型一種實(shí)施例提供的坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為圖2所示結(jié)構(gòu)的坩堝的剖面圖；

圖4為圖3所示結(jié)構(gòu)中的A向結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型另一種實(shí)施例提供的坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為圖5所示結(jié)構(gòu)中的B向結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種坩堝和蒸發(fā)裝置，該蒸發(fā)裝置包括坩堝，該坩堝在蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率穩(wěn)定，能夠提高蒸鍍膜層的均勻性。

其中，請(qǐng)參考圖2、圖3以及圖5，本實(shí)用新型一種實(shí)施例提供的坩堝1，包括一端設(shè)有開(kāi)口12的堝體11，堝體11的內(nèi)部具有與開(kāi)口12連通的腔體110；沿堝體11的延伸方向，靠近開(kāi)口12的腔體110內(nèi)設(shè)有間隔分布的至少兩個(gè)隔板；至少兩個(gè)隔板中，每個(gè)隔板設(shè)有貫穿其厚度的至少一個(gè)第一通孔，每相鄰的兩個(gè)隔板的第一通孔呈交錯(cuò)分布。

上述坩堝1由于在腔體110內(nèi)設(shè)有間隔分布的至少兩個(gè)隔板，并且每相鄰的兩個(gè)隔板的第一通孔呈交錯(cuò)分布，如圖3結(jié)構(gòu)所示的坩堝1的腔體內(nèi)設(shè)有間隔分布的隔板13和隔板14，隔板13設(shè)有貫穿其厚度的多個(gè)第一通孔131，隔板14設(shè)有貫穿其厚度的多個(gè)第一通孔141，并且如圖4結(jié)構(gòu)所示，隔板13上設(shè)置的第一通孔131與隔板14上設(shè)置的第一通孔141交錯(cuò)分布；因此，在采用上述坩堝1進(jìn)行蒸鍍過(guò)程中，蒸鍍材料2在坩堝1內(nèi)變成蒸氣并達(dá)到隔板13和隔板14時(shí)，一部分蒸氣能夠通過(guò)隔板13和隔板14上相互交錯(cuò)的第一通孔后曲折上升并冒出坩堝1的開(kāi)口12進(jìn)行蒸鍍形成蒸鍍膜層，另一部分蒸氣會(huì)被隔板13或隔板14阻擋并回流，同時(shí)由于各相鄰隔板的第一通孔交錯(cuò)分布，所以在隔板13、隔板14與堝體11之間形成蒸氣調(diào)節(jié)腔1103，通過(guò)蒸氣調(diào)節(jié)腔1103使蒸氣速率穩(wěn)定在一定水平，進(jìn)而能夠通過(guò)設(shè)置在腔體110內(nèi)的至少兩個(gè)隔板調(diào)節(jié)蒸氣的蒸發(fā)速率，使蒸氣均勻地蒸發(fā)并進(jìn)行蒸鍍，使形成的蒸鍍膜層的均勻性提高。

因此，上述坩堝1在蒸鍍過(guò)程中蒸發(fā)速率穩(wěn)定，能夠提高蒸鍍膜層的均勻性。

為了進(jìn)一步提高蒸發(fā)速率的穩(wěn)定性，腔體110中設(shè)置的至少兩個(gè)隔板相互平行設(shè)置，如圖3結(jié)構(gòu)所示，隔板13與隔板14平行設(shè)置在腔體110中。

由于腔體110中設(shè)置的至少兩個(gè)隔板相互平行設(shè)置，通過(guò)隔板13的第一通孔131的蒸氣達(dá)到隔板14的距離相同，均為隔板13與隔板14之間的間隔距離，通過(guò)隔板13的蒸氣會(huì)均勻地通過(guò)隔板14，因此，能夠進(jìn)一步提高蒸發(fā)速率的穩(wěn)定性，進(jìn)而提高蒸鍍膜層的均勻性。

同時(shí)，為了提高隔板的拆裝便利性，至少兩個(gè)隔板為一體式結(jié)構(gòu)，如圖3結(jié)構(gòu)所示，隔板13和隔板14為一體式結(jié)構(gòu)。

一種具體的實(shí)施方式中，如圖3結(jié)構(gòu)所示，上述坩堝1還包括位于腔體110內(nèi)底部的陶瓷碎片16和用于將陶瓷碎片16保持在腔體110內(nèi)底部的擋板17，擋板17位于陶瓷碎片16和至少兩個(gè)隔板中背離開(kāi)口12的隔板之間，擋板17設(shè)有貫穿其厚度的多個(gè)第二通孔171。

由于上述坩堝1在腔體110內(nèi)底部設(shè)有陶瓷碎片16，在采用該坩堝1進(jìn)行蒸鍍過(guò)程中，蒸鍍材料2和陶瓷碎片16均放置在腔體110內(nèi)底部，陶瓷碎片16混合在蒸鍍材料2中，蒸鍍材料2熔化后易被陶瓷碎片16阻隔，不易形成大面積的沸騰冒泡現(xiàn)象，并且產(chǎn)生的小氣泡也容易因碰撞到陶瓷碎片16而破裂；同時(shí)，上述坩堝1的腔體110內(nèi)底部還設(shè)有擋板17，蒸鍍材料2的蒸氣可通過(guò)擋板17上的第二通孔171進(jìn)行蒸發(fā)，在不影響坩堝1正常蒸發(fā)功能的前提下，坩堝1通過(guò)擋板17將陶瓷碎片16保持在腔體110的內(nèi)底部，使陶瓷碎片16長(zhǎng)期處于蒸鍍材料2中，使坩堝1保持減少沸騰冒泡的效果，而且還能通過(guò)擋板17阻止或消除蒸鍍材料2的沸騰冒泡現(xiàn)象；因此，該坩堝1還能減少蒸鍍材料2的沸騰冒泡現(xiàn)象，進(jìn)一步穩(wěn)定蒸鍍材料2的蒸發(fā)速率。

為了確保陶瓷碎片16能夠充分阻止或消除蒸鍍材料2的沸騰冒泡現(xiàn)象，如圖3結(jié)構(gòu)所示，在擋板17的多個(gè)第二通孔171中，每個(gè)第二通孔171的最大孔徑小于陶瓷碎片16的最小粒徑。

當(dāng)擋板17的每個(gè)第二通孔171的最大孔徑小于陶瓷碎片16的最小粒徑時(shí)，由于陶瓷碎片16不能通過(guò)擋板17的第二通孔171，因此，陶瓷碎片16被擋板17阻擋在坩堝1的底部，以使陶瓷碎片16始終摻雜在蒸鍍材料2中，所以能確保陶瓷碎片16始終起到阻止或消除沸騰冒泡現(xiàn)象的作用。

具體地，如圖3、圖5以及圖6結(jié)構(gòu)所示，上述坩堝1還包括設(shè)置于開(kāi)口12的蓋板15，蓋板15的厚度方向與堝體11的延伸方向平行，蓋板15設(shè)有貫穿其厚度的至少一個(gè)第三通孔151。

由于上述坩堝1還設(shè)有位于開(kāi)口12處的蓋板15，并且蓋板15上設(shè)有第三通孔151，在蒸鍍過(guò)程中，坩堝1中的蒸鍍材料2受熱產(chǎn)生蒸氣，通過(guò)隔板13和隔板14后的蒸氣繼續(xù)通過(guò)蓋板15的第三通孔151才能達(dá)到需要進(jìn)行蒸鍍的介質(zhì)上形成蒸鍍膜層，因此，能夠通過(guò)設(shè)置第三通孔151的分布位置以及分布形式使蒸氣更加有針對(duì)性且均勻地進(jìn)行蒸鍍，使形成的蒸鍍膜層均勻性更好，并且有利于提高蒸氣的利用率，提高蒸鍍效率。

在上述各種實(shí)施例的基礎(chǔ)上，如圖5結(jié)構(gòu)所示，堝體11由可拆卸連接的下部堝體111和上部堝體112構(gòu)成，開(kāi)口12位于上部堝體112背離下部堝體111的一端，至少兩個(gè)隔板設(shè)置于上部堝體112內(nèi)。

如圖5結(jié)構(gòu)所示，堝體11由下部堝體111和上部堝體112構(gòu)成，并且腔體110由下部堝體111限定的下部腔體1101和上部堝體112限定的上部腔體1102組成，在上部腔體1102內(nèi)設(shè)置有隔板13和隔板14，隔板13上設(shè)有多個(gè)貫穿其厚度的第一通孔131，隔板14上設(shè)有多個(gè)貫穿其厚度的第一通孔141，并在隔板13、隔板14和上部堝體112之間形成蒸氣調(diào)節(jié)腔1103，在堝體11的開(kāi)口12處設(shè)有蓋板15，蓋板15上設(shè)有貫穿其厚度的多個(gè)第三通孔151。

為了提高下部堝體111和上部堝體112之間的拆裝便利性，下部堝體111和上部堝體112之間通過(guò)螺紋連接。

當(dāng)堝體11由螺紋連接的上部堝體112和下部堝體111構(gòu)成時(shí)，上部堝體112和下部堝體111通過(guò)螺紋可進(jìn)行拆卸連接，當(dāng)需要在下部堝體111內(nèi)填裝蒸鍍材料2或更換下部堝體111時(shí)，可通過(guò)螺紋連接將下部堝體111從上部堝體112上拆下，完成所需操作后再通過(guò)螺紋進(jìn)行連接，并且，在需要填料時(shí)，可將下部坩堝1拆下，將已經(jīng)填料完畢的另一個(gè)相同結(jié)構(gòu)的下部堝體111直接連接到上部堝體112上，從而能夠節(jié)省蒸鍍時(shí)間，因此，該坩堝1方便填料且便于更換下部堝體111，還能提高拆裝便利性。

在上述各種實(shí)施例的基礎(chǔ)上，每個(gè)隔板為由熱解氮化硼或氮化鋁制成的隔板；擋板17為由熱解氮化硼或氮化鋁制成的擋板17；陶瓷碎片16為由熱解氮化硼或氮化鋁制成的陶瓷碎片16。

同時(shí)，坩堝1的堝體1和蓋板15均可以采用熱解氮化硼或氮化鋁制成。

另外，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種蒸發(fā)裝置，該蒸發(fā)裝置包括加熱裝置和上述實(shí)施例提供的任意一種坩堝1。

在采用上述蒸發(fā)裝置進(jìn)行蒸鍍的過(guò)程中，為了使坩堝1內(nèi)底部的蒸鍍材料連續(xù)均勻熔化，并且使上部腔體1102內(nèi)保持恒溫環(huán)境，防止蒸鍍材料2形成的蒸氣凝固，可以在坩堝1的頂部和底部分別設(shè)置加熱絲來(lái)控制坩堝1的腔體110內(nèi)的溫度，使蒸鍍過(guò)程連續(xù)穩(wěn)定。

同時(shí)，為了提高蒸鍍效果，進(jìn)一步改善蒸鍍形成的蒸鍍膜層的均勻性，在采用上述坩堝1蒸鍍的同時(shí)，還可以使整個(gè)蒸發(fā)裝置處于運(yùn)動(dòng)狀態(tài)中，使從坩堝1中蒸發(fā)出來(lái)的蒸氣能夠更加均勻地蒸鍍到目標(biāo)位置，使形成的蒸鍍膜層更加均勻。根據(jù)具體地蒸鍍條件，可使整個(gè)蒸發(fā)裝置在蒸鍍過(guò)程中處于中心旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)或直線勻速移動(dòng)。

需要說(shuō)明的是，上述坩堝1中填充的蒸鍍材料可以為銀等金屬材料，也可以為OLED材料等有機(jī)材料。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。