1.一種多級(jí)孔金屬制備方法，其特征包括如下步驟：
（1）材料準(zhǔn)備
制備孔徑與待制多級(jí)孔金屬的最小一級(jí)孔孔徑相同或相當(dāng)?shù)亩嗫捉饘倌ぃ缓笃扑闉槌叽缱畲笾禐榇贫嗉?jí)孔金屬最小一級(jí)孔孔徑均值6-40倍的顆粒；
（2）將上述顆粒制成漿料，均勻地浸漬到具有比待制多級(jí)孔金屬的最小一級(jí)孔大的上級(jí)孔的有機(jī)高分子材料支架上；
（3）將有機(jī)高分子材料支架在真空或保護(hù)氣氛中燒結(jié)，再按照金屬材料工藝進(jìn)行常規(guī)后續(xù)處理。
2.如權(quán)利要求1所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：在浸漬前，先將所述顆粒與用于制備比待制多級(jí)孔金屬的最小一級(jí)孔大一級(jí)的孔的造孔劑均勻混合，制成漿料，再均勻地浸漬到具有比待制多級(jí)孔金屬的最小一級(jí)孔大二級(jí)的孔的有機(jī)高分子材料支架上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述高分子材料支架的孔是三維貫通的。
4.如權(quán)利要求1或2所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的多孔金屬膜用模板法制備，模板為氧化鋁薄膜、氫氣泡模板或徑跡蝕刻法處理的有機(jī)薄膜。
5.如權(quán)利要求3所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的多孔金屬膜用模板法制備，模板為氧化鋁薄膜、氫氣泡模板或徑跡蝕刻法處理的有機(jī)薄膜。
6.如權(quán)利要求1或2所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的多孔金屬膜的制備方法為：采用浸涂法將金屬粉漿涂覆于不銹鋼上，進(jìn)行真空燒結(jié)，去除不銹鋼，即制得所需的多孔金屬膜。
7.如權(quán)利要求3所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的多孔金屬膜的制備方法為：采用浸涂法將金屬粉漿涂覆于不銹鋼上，進(jìn)行真空燒結(jié)，去除不銹鋼，即制得所需的多孔金屬膜。
8.如權(quán)利要求1-7任一權(quán)利要求項(xiàng)所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的金屬可為鉭、鈮、鈦、鈦合金、不銹鋼、鈷基合金、鎳、鎳合金、銅、銅合金中的一種或任意多種 。
9.如權(quán)利要求2-8任一權(quán)利要求項(xiàng)所述的多級(jí)孔金屬制備方法，其特征在于：所述的造孔劑可為尿素、硫酸銨、氯化銨、甲基纖維素、碳酸氫鈉、乙基纖維素、碳酸氫銨、碳酸鈉、淀粉或面粉中的一種或多種。