一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及真空鍍膜制作領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍防水膜的裝置。一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，包括彼此依次連結(jié)的第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室。依賴上述裝置進行真空鍍防水膜的方法，主要是通過一鏈條帶動電子裝置在上述各室內(nèi)工作以完成真空鍍防水膜，由于鏈條上設(shè)有多個用于裝載電子裝置的制具籃，因而可以連續(xù)鍍膜生產(chǎn)，生產(chǎn)效率得以提高，節(jié)省了抽真空時間、裝料時間和料加熱時間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量相統(tǒng)一，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強，膜層硬度高，適合工業(yè)化生產(chǎn)。
【專利說明】一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型涉及真空鍍膜制作領(lǐng)域，尤其涉及一種真空鍍防水膜的裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子產(chǎn)品的廣泛使用，人們對電子產(chǎn)品的防水性能要求也越來越高，目前的 電子產(chǎn)品常采用的是采用化學(xué)氣相沉積聚對二甲苯膜的方式進行真空鍍防水膜，其具體步 驟為：首先，將粉末狀的聚對二甲苯置于蒸發(fā)室中，并加熱到150°C以使粉末狀的聚對二甲 苯汽化；然后，將聚對二甲苯氣體傳送至裂解室，并加熱到650°C以進行裂解；之后，將裂解 后的聚對二甲苯單體傳送沉積室，并沉積在需進行真空鍍防水膜的電子裝置上。
[0003] 傳統(tǒng)真空鍍防水膜裝置，均與專利號為201110035066. 0公布的《一種聚對二甲基 苯沉積系統(tǒng)》類似，其系統(tǒng)包括彼此依次連結(jié)的一蒸發(fā)管、一裂解管、一純化儲氣槽、一沉積 腔體、一冷凝機以及一真空泵。該聚對二甲基苯沉積系統(tǒng)，是間歇式而非連續(xù)式鍍膜，因而 這類設(shè)備具有以下缺點：1)抽真空時間、裝料占用時間及料加熱時間較長；2)每周期鍍膜 參數(shù)難以保證一致，產(chǎn)品質(zhì)量參差不齊；3)裂解室及蒸發(fā)室曝露大氣后有一定程度的氧化 及污染，影響膜層質(zhì)量；4)與基材的結(jié)合力較差。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 為克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存有的缺陷，本實用新型的目的在于提供一種在電子裝置 上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，使用該裝置可對電子裝置長時間連續(xù)進行真空鍍防水 膜，而非間歇性鍍膜，因而能節(jié)省制作時間，提高工作功率，使得產(chǎn)品的質(zhì)量相統(tǒng)一，適合工 業(yè)化生產(chǎn)，且鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強，防水效果更強，并且具有超疏水效果。
[0005] 為達到上述目的，本實用新型所采用的技術(shù)方案為：
[0006] -種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，包括彼此依次連結(jié)的第一低真 空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室，上述各室內(nèi)設(shè)有 一用于傳動電子裝置的鏈條，鏈條上設(shè)有多數(shù)個用于裝置電子裝置的制具籃，且上述各室 內(nèi)均連接有抽真空泵組，所述防水膜沉積室上還連接有低溫冷凝器。
[0007] 依上述結(jié)構(gòu)，所述第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積 室、第二低真空室的兩側(cè)均設(shè)有翻板閥。
[0008] 依上述結(jié)構(gòu)，所述防水膜沉積室的數(shù)量為1飛個。
[0009] 依上述結(jié)構(gòu)，所述防水膜沉積室為聚對二甲苯沉積室。
[0010] 與以往技術(shù)相比，本實用新型的有益效果在于：
[0011] 可以在電子裝置上連續(xù)沉積防水膜，生產(chǎn)效率得以提高，因而節(jié)省了抽真空時間、 裝料時間和料加熱時間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量統(tǒng)一，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且鍍成的 防水膜致密，結(jié)合力強，最外層氟化硅膜具有超疏水性能，使產(chǎn)品具有更強的防水效果。
[0012] 下面結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步的說明：

【專利附圖】

【附圖說明】 [0013] ：
[0014] 圖1為本實用新型之較佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】 [0015] ：
[0016] 如圖1所示，本實用新型有關(guān)一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置， 該裝置包括有彼此依次連結(jié)的第一低真空室1、等離子輝光清洗室2、防水膜沉積室3、氟化 物沉積室4和第二低真空室5,上述各室內(nèi)設(shè)有一用于傳動電子裝置的鏈條100,鏈條100 上設(shè)有多數(shù)個用于裝置電子裝置的制具籃(在圖中未畫出），各室的兩側(cè)均設(shè)有可開啟及關(guān) 閉的翻板閥，且第一低真空室1、等離子輝光清洗室2、防水膜沉積室3、氟化物沉積室4和第 二低真空室5均連接有一抽真空泵，所述各抽真空泵通過一閥門與各室連接，防水膜沉積 室3上還連接有一低溫冷凝器9,當各室的翻板閥關(guān)閉時，抽真空泵可對各室進行抽真空。
[0017] 所述防水膜沉積室3的數(shù)量為1飛個，作為本實用新型的一種優(yōu)選方案，如圖1所 示，本實施例中防水膜沉積室3包括有依次連接的第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積 室32和第三防水膜沉積室33,所述第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積室32和第三防 水膜沉積室33均與低溫冷凝器9、抽真空泵73連接。本實施例中，所述防水膜沉積室3為 聚對二甲苯沉積室。
[0018] 如圖1所示，所述第一低真空室1外側(cè)設(shè)有一翻板閥61，第一低真空室1上連接 有抽真空泵71，第一低真空室1與等離子輝光清洗室2之間設(shè)有翻板閥62,等離子輝光清 洗室2上連接有抽真空泵72,所述等離子輝光清洗室2與防水膜沉積室3之間設(shè)有翻板閥 63,防水膜沉積室3上連接有抽真空泵73及低溫冷凝器9,所述防水膜沉積室3與氟化物沉 積室4之間設(shè)有翻板閥64,氟化物沉積室4上連接有抽真空泵74,所述氟化物沉積室4與 第二低真空室5之間設(shè)有翻板閥65,第二低真空室5上連接有抽真空泵75,所述第二低真 空室5通過一翻板閥66與外界相隔。
[0019] 所述第一低真空室1處第二低真空室5內(nèi)處于低真空狀態(tài)；所述等離子輝光清洗 室2可對電子裝置進行等離子輝光清洗，進而使得電子裝置表面更潔凈，以增強電子裝置 與防水膜的結(jié)合力；所述防水膜沉積室3可對電子裝置進行化學(xué)氣相沉積聚對二甲苯膜， 由于防水膜沉積室3可為多個，鏈條100上也設(shè)有多個存放電子裝置的制具籃，因而可進行 連續(xù)鍍膜生產(chǎn)；所述氟化物沉積室4可對電子裝置進行化學(xué)沉積氟化物膜，以增加防水膜 的穩(wěn)定性，提1?防水I吳的質(zhì)量。
[0020] 本實用新型可通過以下步驟完成在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜：
[0021] (1)將電子裝置安裝在制具籃上，再將制具籃置于鏈條100上，打開翻板閥61，之 后通過鏈條100傳動將制具籃帶入第一低真空室1內(nèi)，再關(guān)閉翻板閥61，開啟第一低真空室 1的抽真空泵71抽真空，使得第一低真空室1達到50t 〇rr的壓力；
[0022] (2)開啟翻板閥62,通過鏈條100將制具籃從第一低真空室1傳動到等離子輝光 清洗室2,再關(guān)閉翻板閥62,之后開啟等離子輝光清洗室2的抽真空泵72進行抽真空，當?shù)?離子輝光清洗室2達到ltorr的壓力時，然后開始對電子裝置進行等離子輝光清洗；
[0023] (3)開啟翻板閥63,再通過鏈條100將制具籃從等離子輝光清洗室2傳動到防水 膜沉積室3,然后翻板閥63,打開防水膜沉積室3的抽真空泵73及低溫冷凝室9開始抽真 空，使防水膜沉積室3達到0. ltorr的壓力，之后開始對制具籃內(nèi)的電子裝置鍍防水膜，由 于本實施例中防水膜沉積室3包括有第一防水膜沉積室31、第二防水膜沉積室32和第三防 水膜沉積室33,因而可同時對三個電子裝置進行鍍膜，提高工作效率，節(jié)省資源；
[0024] (4)開啟翻板閥64,通過鏈條100將制具籃從防水膜沉積室3傳動到氟化物沉積 室4內(nèi)，而后關(guān)閉翻板閥64,打開氟化物沉積室4上的抽真空泵74抽真空，使氟化物沉積室 4達到ltorr的壓力，然后開始對制具籃上的電子裝置進行化學(xué)氣相沉積氟化物膜；
[0025] (5)開啟翻板閥65,通過鏈條100將制具籃從氟化物沉積室4到第二低真空室5， 再關(guān)閉翻板閥65,然后對第二真空室5進行放氣，使得第二低真空室5達到常壓，然后開啟 翻板閥66,通過鏈條傳動將制具籃帶出第二低真空室5,完成鍍膜。
[0026] 上述制作防水膜的過程中，由于防水膜沉積室3 -直保持在0. fltorr的真空狀 態(tài)，因而與防水膜沉積室3相連接的裂解室及蒸發(fā)室也處于0. fltorr的真空狀態(tài)，因而不 會曝露大氣被氧化污染，因而防水膜的質(zhì)量更好。
[0027] 本實用新型可以在電子裝置上連續(xù)沉積防水膜，生產(chǎn)效率得以提高，節(jié)省了抽真 空時間、裝料時間和料加熱時間，節(jié)省能源，且可使得產(chǎn)品的質(zhì)量統(tǒng)一，適合工業(yè)化生產(chǎn)，且 鍍成的防水膜致密，結(jié)合力強，最外層氟化硅膜具有超疏水性能，使產(chǎn)品具有更強的防水效 果。
【權(quán)利要求】
1. 一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，其特征在于：包括彼此依次連結(jié) 的第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室和第二低真空室，上述 各室內(nèi)設(shè)有一用于傳動電子裝置的鏈條，鏈條上設(shè)有多數(shù)個用于裝置電子裝置的制具籃， 且上述各室內(nèi)均連接有抽真空泵組，所述防水膜沉積室上還連接有低溫冷凝器。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，其特征在 于：所述第一低真空室、等離子輝光清洗室、防水膜沉積室、氟化物沉積室、第二低真空室的 兩側(cè)均設(shè)有翻板閥。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，其特征在 于：所述防水膜沉積室的數(shù)量為1飛個。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種在電子裝置上連續(xù)進行真空鍍防水膜的裝置，其特 征在于：所述防水膜沉積室為聚對二甲苯沉積室。
【文檔編號】C23C16/54GK203878213SQ201420136786
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年3月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月25日
【發(fā)明者】侯光輝 申請人:侯光輝